TH165753ATH1501004589ATH1501004589ATH165753ATH 165753 ATH165753 ATH 165753ATH 1501004589 ATH1501004589 ATH 1501004589ATH 1501004589 ATH1501004589 ATH 1501004589ATH 165753 ATH165753 ATH 165753A
วิธีการปรับสภาพโดยใช้ลำแสงของไอออนก๊าซที่มีประจุแบบเดี่ยว และแบบมัลติเปิล (singly-and multply-charged gas ions) ที่ผลิตโดยแหล่งอิเลคตรอนไซโคลตรอนเรโซแนนซ์ (electron cylotron resonance source) (ECR) ของวัสดุแก้วซึ่ง - แรงดันไฟฟ้าไอออน (ion acceleration volrage) ระหว่าง 5 กิโลโวลต์ และ 1,000 กิโลโวลต์ถูกเลือกเพื่อสร้างชั้นอิมพลานท์ (implanted layer) ความหนาเท่ากับหลาย เท่า 100 นาโนเมตร; - โดสไอออน (ion dose) ต่อหน่วยพื้นผิวในช่วงระหว่าง 1012 ไอออน/ตารางเซนติเมตร และ 1018 ไอออน/ตารางเซนติเมตร ถูกเลือกเพื่อสร้างความเข้มข้นอะตอม (atomic concentration) ของ ไอออนเท่ากับ 10% ที่มีระดับของความไม่แน่นอน (level of uncertainty) (+/-) 5% ข้อดี มันเป็นไปได้ที่จะ ได้วัสดุที่ทำจากแก้วที่ไม่สะท้อนแสงในช่วงที่มองเห็นได้ Method of conditioning using a beam of single charged gas ions. And the singly-and multply-charged gas ions produced by the electron cylotron resonance source (ECR) of the glass material, which - ion voltage ( ion acceleration volrage) between 5 kV and 1000 kV was selected to form an implanted layer of a thickness equal to 100 nm; - ion dose per surface unit between 1012 ions / cm2 and 1018 ions / cm2. It is chosen to generate an atomic concentration of ions equal to 10% with a level of uncertainty (+/-) 5%. Obtain a material made of glass that does not reflect light in the visible range.
Claims (1)
1. กระบวนการสำหรับการปรับสภาพกันแสงสะท้อนแบบทนทานในบริเวณแสงที่มองเห็นได้ของวัสดุ แก้ว (process for the durable antirefective treatment in the visible region of a glass material) โดยมีลักษณะพิเศษที่ว่ามันประกอบไปด้วยกระระดมยิง (bombarment) ด้วยลำแสงของ ไอออนที่มีประจุแบบโมโน และแบบมัลติเปิล (mono- and multichatged ions) ของก๊าซ ซึ่งถูกผลิต จากแหล่งอิเลคตรอนไซโคลตรอนเรโซแนนซ์ (electron cylotron resonanแท็ก :1.process for the durable antirefective treatment in the visible region of a glass material, with the effect that it consists of mobilization. Shot (bombarment) with a beam of mono charged ions And mono- and multichatged ions of gases, which are produced from an electron cyclotron resonan source (electron cylotron resonan.
TH1501004589A2014-02-12
"Process for beam conditioning of mono- or multichart gas ions. To produce anti-reflective glass material
TH165753B
(en)
Method and device for generating a plasma excited by microwave energy in the electron cyclotron resonance (ecr) domain, in order to carry out a surface treatment or produce a coating around a filiform element.