TH1504B - แบบลอกติดชนิดแห้ง - Google Patents

Abstract

แบบลอกติดชนิดแห้งที่ประกอบด้วยฟิล์มนำพาที่มีแบบกราฟิกส์ในรูปของชั้นหมึกหนึ่งชั้นหรือมากกว่าหนึ่งชั้นและอัดฮีซีฟ ที่ตอบสนองต่อรังสแอคทินิกที่ซ้อนเหลื่อมกับแบบ หมึกทำหน้า ที่กั้นรังสีแอคทินิกเพื่อว่าเฉพาะอัดฮีชีฟในบริเวณที่ไม่ มีหมึกเท่านั้นที่จะได้รับรังสีแอคทินิกทำให้เกิดความ เหนียวติดของอัดฮีชิฟที่แตกต่างกันซึ่งจะทำให้แบบสามารถติด อยู่บนฐานและฟิล์มนำพาและอัดฮีชีฟที่ได้รับรังสีจะนำออกได้ ตามต้องการแล้วเหลือแบบกราฟิกส์และอัดอีชีฟที่ไม่ได้รับ รังสีซึ่งอยู่ข้างใต้ยึดติดอยู่กับฐาน

Claims (16)

1. แบบลอกติดชนิดแห้งสำหรับใช้กับฐานเพื่อให้ได้รูปแบบลงบนนั้น แบบดังกล่าวประกอบด้วยฟิล์มนำพาที่ต่อเนื่องซึ่งโปร่งใสต่อ รังสีแอคทินิกที่เป็นผิวหลักที่มีส่วนผิวที่หนึ่งและที่สอง รูปแบบกราฟิกส์ที่ประกอบด้วยชั้นของหมึกที่เข้ากันได้กับ ฟิล์มนำพาและหีบต่อรังสีอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งยึดเข้ากับ ส่วนที่หนึ่งดังกล่าวของผิวหลักดังกล่าวของฟิล์มนำพาดัง กล่าว และชั้นของอัดฮีชีฟที่ต่อเนื่องที่มีการตอบสนองต่อ รังสีแอคทินิก อัคฮีชิฟดังกล่าวมีส่วนแรกยึดเข้ากับหมึกดัง กล่าวและส่วนที่สองยึดเข้ากับผิวที่สองดังกล่าวของผิว หลัก ดังกล่าวของฟิล์มนำพาดังกล่าว อัคฮีชีฟดังกล่าวเมื่อส่วน ที่สองดังกล่าวได้รับรังสีแอคทินิกที่ผ่านส่วนผิวที่สองดัง กล่าวจะทำให้สามารถมีการยึดเข้ากับฐานดังกล่าว ที่ซึ่งการให้กำลังการลอกออกแก่ฟิล์มนำพาดังกล่าวทำให้ ฟิล์มนำพาดังกล่าวพร้อมกับส่วนที่สองที่ได้รับรังสี ของอัคฮีชิฟดังกล่าวแยกออกได้ตามต้องถากรจากฐานตามขอบของ หมึกดังกล่าวแล้วเหลือหมึกดังกล่าวและส่วนที่หนึ่งของอัคฮี ชีฟดังกล่าวที่ไม่ได้รับรังสีไว้บนฐาน

2. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งผิวหลักดังกล่าวของ ฟิล์มนำพาดังกล่าวประกอบด้วยวัสดุที่เลือกมากจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยโพลีเอสเทอร์ โพลีอิไมด์และโพลีเอไมด์

3. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งหมึกดังกล่าวประกอบ ด้วยโพลีเมอร์ของโพลียูรีเธนเป็นหลัก

4. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งอัดฮีชิฟดังกล่าว ประกอบด้วยสารเริ่มต้นปฏิกิริยาด้วยแสงแบบไอออนิคในปริมาณ ที่ให้ผล และผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาของระบบไว้ปฏิกิริยาของระบบ ไวปฏิกิริยาที่ประกอบด้วยสารประกอบไวนิลทีมีรังออกซิจน และโมโนเมอร์ที่มีไวนิลเพิ่มเติมอย่างน้อยหนึ่งชนิด

5. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งอัคซีชีฟดังกล่าว ประกอบด้วยผลิตภัณฑ์ปฏิกิริยาของระบบไวปฏิกิริยาที่ประกอบ ด้วยไอโซออกทิลอะครับเลพ สารประกอบไวนิลที่มีรังออกซิเรน อย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยกลัยซิติล เมธาครัยเลท กลัยซิคิลแอลลิลอะเธอร์ และกลายซิคิลอะกรับเลท และโมโนเมอร์ที่มีไวนิลเพิ่มเติมอย่างน้อยหนึ่งชนิด

6. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งผิวหลักดังกล่าวฟิล์ม นำพาดังกล่าวเป็นโพลีโพรพิลีน หมึกดังกล่าวประกอบด้วยโพลีเ มอร์ของโพลียูรีเธนเป็นหลัก และอัคฮีชีฟดังกล่าวประกอบด้วย สารเริ่มปฏิกิริยาด้วยแสงแบบไอออนิคในปริมาณที่ให้ผล ผลิต ภัณฑ์ปฏิกิริยาของระบบไวปฏิกิริยาประกอบด้วยสารประกอบไวนิล ที่มีริงออกซิเธนอย่างน้อยหนึ่งชนิด ตั้งแต่ 5-25% โดยน้ำ หนัก และโมโนเมอร์ที่มีไวนิลเพิ่มเติมอย่างน้อยหนึ่งชนิด อย่างน้อย 75% โดยน้ำหนัก

7. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งอัคฮีชีฟดังกล่าว เป็นอัคฮีชีฟที่โดยปรกติไวต่อความดันและเหนียวคิด และส่วน ที่สองดังกล่าวของผิวหลักดังกล่าวของฟิล์มนำพาดังกล่าวจะ ผ่านกรรมวิธีการจ่ายโคโรนา

8. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งหมึกดังกล่าวเป็นส่วน ประกอบที่ทำให้สมบูรณ์โดยแสงอัลตราไวโอเลต

9. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งผิวหลักดังกล่าวของ ฟิล์มนำพาดังกล่าวเป็นวัสดุที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย โพลีเอธิลีนและโพลีโพรพิลีน

10. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 4 ที่ซึ่งสารประกอบไวนิลที่มี รังออกซิเรนดังกล่าวจะมีอยู่ในระบบไวปฏิกิริยาดังกล่าวใน ปริมาณถึงประมาณ 7% ถึงประมาณ 18% โดยน้ำหนักและสารประกอบ ไวนิลที่มีริงออกซิเรนดังกล่าวจะเลือกจากกลุ่มที่ประกอบ ด้วยกลัยซิติลอะครัยเลท กลัยซิคิลเมธาครัยเลทและกลัยซิติล แอลธิลอีเธอร์

11. แบบของข้อถือสิทธิข้อที่ 6 ที่ซึ่งส่วนผิวหน้าที่สอง ดังกล่าวของผิวหลักโพลีโพรพิลีนดังกล่าวจะผ่านกรรมวิธี เพื่อเพิ่มพลังงานอิสระของตัวของผิวหลัก

12. วิธีการสำหรับทำแบบลอกติดชนิดแห้งที่ประกอบด้วยขั้นตอน ของ (1) การให้มีฟิล์มต่อเนื่องที่โปรงใสต่อรังสีแอคทินิก ที่เป็นผิวหลักที่มีส่วนของผิวที่หนึ่งและที่สอง (2) การ ให้หมึกที่เข้ากันได้กับฟิล์มนำพาและซึ่งทึบต่อรังสีแอคทิ นิกแก่ส่วนผิวที่หนึ่งดังกล่าวของผิวหน้าหลักดังกล่าว (3) การให้ชั้นที่ต่อเนื่องของอัคฮีชีฟที่ตอบสนองต่อรังสีแอลทิ นิกบนหมึกดังกล่าวและส่วนผิวที่สองดังกล่าวของผิวหลักดัง กล่าว อัคฮีชีฟดังกล่าวมีส่วนที่หนึ่งยึดเข้ากับหมึกดัง กล่าวและส่วนที่สองยึดเข้ากับส่วนผิวที่สองดังกล่าวของผิว หลักดังกล่าวของฟิล์มนำพาดังกล่าว และ (4) การให้แบบดัง กล่าวรับรังสีแอคทินิกใน แบบที่ว่าหมึกดังกล่าวจะกั้นทางผ่านของรังสีแอคทินิกดัง กล่าวที่จะไปยังส่วนที่หนึ่งดังกล่าวของอัคฮีชีฟดังกล่าว และส่วนผิวที่สองดังกล่าวจะให้รังสีแอคทินิกดังกล่าวผ่านไป ยังส่วนที่สองดังกล่าวของอัคฮีชีฟดังกล่าวที่ซึ่งเมื่อการ ใช้แบบดังกล่าวกับฐานที่กำหนด การให้กำลังการลอกแก่ฟิล์มนำ พาดังกล่าวจะทำให้ฟิล์มนำพาดังกล่าพร้อมกับส่วนที่สองที่ ได้รับรังสีของอัคฮีชีฟมีการเลือกแยกออกจากฐานดังกล่าวตาม ขอบของหมึกดังกล่าว แล้วเหลือหมึกดังกล่าวและส่วนที่หนึ่ง ที่ไม่ได้รับรังสีของอัคฮีชีฟดังกล่าวไว้บนฐานดังกล่าว

13. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งผิวหน้าหลัก ดังกล่าวของฟิล์มดังกล่าวประกอบด้วยวัสดุที่เลือกจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วยโพลีเอสเทอร์ โพลีอีไมค์และโพลีเอไมด์

14. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งผิวหน้าหลัก ดังกล่าวของฟิล์มนำพาดังกล่าวประกอบด้วยโพลีเอธิลีนหรือโพ ลีโพรพิลีน

15. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งระหว่างขั้น ตอน (2) และ (3) จะให้มีขั้นตอนต่อไปที่ประกอบด้วยการให้ ผิวหลักดังกล่าวของฟิล์มนำพาดังกล่าวที่มีหมึกดังกล่าวอยู่ บนส่วนผิวที่หนึ่งดังกล่าวของผิวหนักมีการผ่านกรรมวิธี เพื่อเพิมพลังงานอิสระของผิวของส่วนผิวที่สองดังกล่าวเมื่อ เทียบกับพลังงานอิสระของผิวของส่วนบนผิวที่หนึ่ง

16. กระบวนการของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งอัคฮีชีฟดัง กล่าวโดยปรกติเป็นอัคฮีชีฟที่ไวต่อความดันและเหนียวติด (ข้อถือสิทธิ 16 ข้อ, 3 หน้า, 3 รูป)