TH102705A - การแยกสลายด้วยน้ำของคลอโรไซเลน - Google Patents
การแยกสลายด้วยน้ำของคลอโรไซเลนInfo
- Publication number
- TH102705A TH102705A TH501004600A TH0501004600A TH102705A TH 102705 A TH102705 A TH 102705A TH 501004600 A TH501004600 A TH 501004600A TH 0501004600 A TH0501004600 A TH 0501004600A TH 102705 A TH102705 A TH 102705A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- hcl
- hydrolysis
- feeding
- hydrolysis reactor
- chlorosilane
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (26/10/58) คลอโรไซเลนจะได้รับการแยกสลายด้วยน้ำเพื่อทำให้ได้สารจากการแยกสลายด้วยน้ำใน ระบบที่เป็นวงรอบซึ่งมีเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ เครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI วิถีทางสำหรับการล้างและเครื่องแยก ขั้นตอนของวิธีการประกอบรวมด้วย (i) การป้อนคลอโรไซเลนจากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (ii) การป้อนน้ำจากแหล่งภายนอกเข้าสู่วิถีทางสำหรับการล้าง (iii) การป้อน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นสูง อย่างน้อยที่สุดร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI จากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำระหว่างวิถีทางสำหรับการล้าง และเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (iv) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดแอนไฮดรัสออกจากเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI (v) การกำจัดสารจากการแยกสลายด้วยน้ำออกจากวิถีทางสำหรับการล้าง และ (vi) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำร้อยละ 0.1 ถึงน้อยกว่าร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI ออกจากระบบที่เป็นวงรอบ แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 26/10/2558 คลอโรไซเลนจะได้รับการแยกสลายด้วยน้ำเพื่อทำให้ได้สารจากการแยกสลายด้วยน้ำใน ระบบที่เป็นวงรอบซึ่งมีเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ เครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI วิถีทางสำหรับการล้างและเครื่องแยก ขั้นตอนของวิธีการประกอบรวมด้วย (i) การป้อนคลอโรไซเลนจากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (ii) การป้อนน้ำจากแหล่งภายนอกเข้าสู่วิถีทางสำหรับการล้าง (iii) การป้อน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นสูง อย่างน้อยที่สุดร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI จากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำระหว่างวิถีทางสำหรับการล้าง และเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (iv) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดแอนไฮดรัสออกจากเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI (v) การกำจัดสารจากการแยกสลายด้วยน้ำออกจากวิถีทางสำหรับการล้าง และ (vi) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำร้อยละ 0.1 ถึงน้อยกว่าร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI ออกจากระบบที่เป็นวงรอบ ---------------------------------------------------------------------------
Claims (1)
1. วิธีการของการแยกสลายด้วยน้ำของคลอโรไซเลนเพื่อทำให้ได้สารจากการแยกสลายด้วย น้ำในระบบที่เป็นวงรอบซึ่งมีเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCIวิถีทางสำหรัการล้างและเครื่องแยก วิธีการประกอบรวมด้วย (i) การป้อนคลอโรไซเลนจากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ ที่ซึ่งปฏิกิริยาการแยกสลายด้วยน้ำเกิดขึ้นและผลิตของผสมที่มีสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็น ของเหลว HCI ชนิดเอเควียสและไอ HCI (ii) การผ่านสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลว HCI ชนิดเอเควียส และไอ HCI ที่ถูกผลิตใน (i) ผ่านเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI ที่ซึ่งไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดแอนไฮดรัสจะถูก กำจัดออกจากของผสมและระบที่เป็นวงรอบ (iii) การผ่านสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวและ HCI ชนิดเอเควียสจากเครื่อง ทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI เข้าไปในเครื่องแยกที่ซึ่งสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวจะถูก แยกออกจาก HCI ชนิดเอเควียส (iv) การนำกลับคืน HCI ชนิดเอเควียสจาก (iii) ไปยังเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วย น้ำ (v) การป้อนสารจากการแยกสลายด้วยน้ำทีเป็นของเหลวจาก (iii) เข้าไปในวิถีทางสำหรับ การล้าง (vi) การป้อนน้ำจากแหล่งภายนอกเข้าสู่วิถีทางสำหรับการล้างเพื่อทำให้บริสุทธิ์ออกจาก แยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวนั้นบริสุทธิ์ (vii) การกำจัดสารการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวที่ได้รับการทำให้บริสุทธิ์ออกจาก วิถีทางสำหรับการล้างและระบบที่เป็นวงรอบ (viii) การนำกลับคืน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำจากวิถีทางสำหรับการล้างไปสู่เครื่อง ปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (ix) การกำจัด HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำจากวิถีทางสำหรับการล้างและระบบที่เป็น วงรอบ, ที่ซึ่ง HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำ มีความเข้มข้นเท่ากับร้อยละ 0.1 ถึงน้อยกว่า ร้อยละ 10 โดยน้ำหนัก และ (x) การป้อน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นสูง อย่างน้อยที่สุดร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI จากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ ---------------------------------------------------
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH102705B TH102705B (th) | 2010-07-29 |
| TH102705A true TH102705A (th) | 2010-07-29 |
| TH56038B TH56038B (th) | 2017-07-18 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9669400B2 (en) | Method for purifying silane compound or chlorosilane compound, method for producing polycrystalline silicon, and method for regenerating weakly basic ion-exchange resin | |
| JP2008516044A5 (th) | ||
| ES2749123T3 (es) | Método de preparación de carbonato sódico y/o bicarbonato sódico | |
| JP4423199B2 (ja) | ポリスルファンの変換法 | |
| CN104817588A (zh) | 一种乙基氯化物的制备方法 | |
| CN109650339A (zh) | 氯硅烷水解制备氯化氢的工艺与装置 | |
| TH56038B (th) | การแยกสลายด้วยน้ำของคลอโรไซเลน | |
| CN102026706B (zh) | 用于从气流中吸收氯的方法 | |
| JP5847104B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法及び該製造方法に還元剤として用いる水素ガスの製造方法 | |
| CN104230080A (zh) | 利用水合肼生产产生的废盐水生产烧碱的工艺 | |
| WO2008100736A3 (en) | Processes for conjointly producing bromine and calcium chloride | |
| WO2016060834A1 (en) | Method and system for producing chlorinated hydrocarbons with hydrogen chloride integration | |
| ZA200709712B (en) | Low-temperature fused-salt electrolysis of quartz | |
| CN1111507C (zh) | 硫酰氟的提纯方法 | |
| KR100521652B1 (ko) | 기체상 이산화염소의 고순도 제조장치, 그의 제조 방법 및장기 보존 방법 | |
| KR101452354B1 (ko) | 폐가스의 정제방법 및 정제장치 | |
| ATE524415T1 (de) | Verfahren zur herstellung von chlor aus chlorwasserstoff | |
| CN209554785U (zh) | 氯硅烷水解制备氯化氢的装置 | |
| CN101643422B (zh) | 一种采用酸萃取技术纯化对氟苯胺工业产品的方法 | |
| DE50208329D1 (de) | Verfahren zur Herstellung von weitgehend HBr-freiem HCI-Gas und weitgehend HBr-freier wässriger HCI-Lösung | |
| JPH08150389A (ja) | エチレンジアミン含有廃液の処理方法 | |
| US20120238782A1 (en) | Methods for producing allyl chloride and dichlorohydrin | |
| CN104876243A (zh) | 一种联二脲母液的清洁处理方法 | |
| JPH0235912A (ja) | 特殊材料ガスの除去方法 | |
| KR100553987B1 (ko) | 삼불화질소 가스의 정제방법 |