TH102705A - Chlorosilane aqueous decomposition - Google Patents

Chlorosilane aqueous decomposition

Info

Publication number
TH102705A
TH102705A TH501004600A TH0501004600A TH102705A TH 102705 A TH102705 A TH 102705A TH 501004600 A TH501004600 A TH 501004600A TH 0501004600 A TH0501004600 A TH 0501004600A TH 102705 A TH102705 A TH 102705A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
hcl
hydrolysis
feeding
hydrolysis reactor
chlorosilane
Prior art date
Application number
TH501004600A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH56038B (en
TH102705B (en
Inventor
บรูซ แกมมี่ นายแอนดรูว์
Original Assignee
เดาว์ ซิลิโคนส์ คอร์ปอเรชั่น
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by เดาว์ ซิลิโคนส์ คอร์ปอเรชั่น, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายรุทร นพคุณ filed Critical เดาว์ ซิลิโคนส์ คอร์ปอเรชั่น
Publication of TH102705B publication Critical patent/TH102705B/en
Publication of TH102705A publication Critical patent/TH102705A/en
Publication of TH56038B publication Critical patent/TH56038B/en

Links

Abstract

DC60 (26/10/58) คลอโรไซเลนจะได้รับการแยกสลายด้วยน้ำเพื่อทำให้ได้สารจากการแยกสลายด้วยน้ำใน ระบบที่เป็นวงรอบซึ่งมีเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ เครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI วิถีทางสำหรับการล้างและเครื่องแยก ขั้นตอนของวิธีการประกอบรวมด้วย (i) การป้อนคลอโรไซเลนจากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (ii) การป้อนน้ำจากแหล่งภายนอกเข้าสู่วิถีทางสำหรับการล้าง (iii) การป้อน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นสูง อย่างน้อยที่สุดร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI จากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำระหว่างวิถีทางสำหรับการล้าง และเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (iv) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดแอนไฮดรัสออกจากเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI (v) การกำจัดสารจากการแยกสลายด้วยน้ำออกจากวิถีทางสำหรับการล้าง และ (vi) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำร้อยละ 0.1 ถึงน้อยกว่าร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI ออกจากระบบที่เป็นวงรอบ แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 26/10/2558 คลอโรไซเลนจะได้รับการแยกสลายด้วยน้ำเพื่อทำให้ได้สารจากการแยกสลายด้วยน้ำใน ระบบที่เป็นวงรอบซึ่งมีเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ เครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI วิถีทางสำหรับการล้างและเครื่องแยก ขั้นตอนของวิธีการประกอบรวมด้วย (i) การป้อนคลอโรไซเลนจากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (ii) การป้อนน้ำจากแหล่งภายนอกเข้าสู่วิถีทางสำหรับการล้าง (iii) การป้อน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นสูง อย่างน้อยที่สุดร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI จากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำระหว่างวิถีทางสำหรับการล้าง และเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (iv) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดแอนไฮดรัสออกจากเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI (v) การกำจัดสารจากการแยกสลายด้วยน้ำออกจากวิถีทางสำหรับการล้าง และ (vi) การกำจัดไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำร้อยละ 0.1 ถึงน้อยกว่าร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI ออกจากระบบที่เป็นวงรอบ ---------------------------------------------------------------------------DC60 (26/10/58) Chlorosilane is hydrolyzed to obtain the hydrolysis product in a cyclic system consisting of a hydrolysis reactor, an HCl purifier, a wash route and a separator. The steps of the method comprise (i) feeding the chlorosilane from an external source into the hydrolysis reactor, (ii) feeding water from an external source into the wash route, (iii) feeding a high concentration of aqueous HCl, at least 10 wt % of HCl, from an external source into the hydrolysis reactor between the wash route and the hydrolysis reactor, (iv) removing anhydrous hydrogen chloride from the HCl purifier, (v) removing the hydrolysis product from the wash route, and (vi) removing a low concentration of aqueous HCl, 0.1 to less than 10 wt % of HCl, from the cyclic system. 2015/10/02 10:00 AM UPDATE TO SUMMARY OF INVENTION 26/10/2015 Chlorosilane is hydrolyzed to obtain hydrolysis products in a cyclic system comprising a hydrolysis reactor, an HCl purifier, a wash route, and a separator. The steps of the method comprise (i) feeding chlorosilane from an external source into the hydrolysis reactor, (ii) feeding water from an external source into the wash route, (iii) feeding a high concentration of aqueous HCl, at least 10 wt % of HCl, from an external source into the hydrolysis reactor between the wash route and the hydrolysis reactor, (iv) removing anhydrous hydrogen chloride from the HCl purifier, (v) removing the hydrolysis product from the wash route, and (vi) removing a low concentration of aqueous HCl, 0.1 to less than 10 wt % of HCl, from the cyclic system. ---------------------------------------------------------------------------

Claims (1)

แก้ไข 26/10/2558Updated 26/10/2015 1. วิธีการของการแยกสลายด้วยน้ำของคลอโรไซเลนเพื่อทำให้ได้สารจากการแยกสลายด้วย น้ำในระบบที่เป็นวงรอบซึ่งมีเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCIวิถีทางสำหรัการล้างและเครื่องแยก วิธีการประกอบรวมด้วย (i) การป้อนคลอโรไซเลนจากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ ที่ซึ่งปฏิกิริยาการแยกสลายด้วยน้ำเกิดขึ้นและผลิตของผสมที่มีสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็น ของเหลว HCI ชนิดเอเควียสและไอ HCI (ii) การผ่านสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลว HCI ชนิดเอเควียส และไอ HCI ที่ถูกผลิตใน (i) ผ่านเครื่องทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI ที่ซึ่งไฮโดรเจนคลอไรด์ชนิดแอนไฮดรัสจะถูก กำจัดออกจากของผสมและระบที่เป็นวงรอบ (iii) การผ่านสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวและ HCI ชนิดเอเควียสจากเครื่อง ทำให้บริสุทธิ์สำหรับ HCI เข้าไปในเครื่องแยกที่ซึ่งสารจากการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวจะถูก แยกออกจาก HCI ชนิดเอเควียส (iv) การนำกลับคืน HCI ชนิดเอเควียสจาก (iii) ไปยังเครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วย น้ำ (v) การป้อนสารจากการแยกสลายด้วยน้ำทีเป็นของเหลวจาก (iii) เข้าไปในวิถีทางสำหรับ การล้าง (vi) การป้อนน้ำจากแหล่งภายนอกเข้าสู่วิถีทางสำหรับการล้างเพื่อทำให้บริสุทธิ์ออกจาก แยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวนั้นบริสุทธิ์ (vii) การกำจัดสารการแยกสลายด้วยน้ำที่เป็นของเหลวที่ได้รับการทำให้บริสุทธิ์ออกจาก วิถีทางสำหรับการล้างและระบบที่เป็นวงรอบ (viii) การนำกลับคืน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำจากวิถีทางสำหรับการล้างไปสู่เครื่อง ปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ (ix) การกำจัด HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำจากวิถีทางสำหรับการล้างและระบบที่เป็น วงรอบ, ที่ซึ่ง HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นต่ำ มีความเข้มข้นเท่ากับร้อยละ 0.1 ถึงน้อยกว่า ร้อยละ 10 โดยน้ำหนัก และ (x) การป้อน HCI ชนิดเอเควียสความเข้มข้นสูง อย่างน้อยที่สุดร้อยละ 10 โดยน้ำหนักของ HCI จากแหล่งภายนอกเข้าสู่เครื่องปฏิกรณ์สำหรับการแยกสลายด้วยน้ำ ---------------------------------------------------1. Method of hydrolysis of chlorosilane to obtain hydrolysis compounds in a cyclic system consisting of a hydrolysis reactor, HCl purifier, washing path and separator. The method consists of (i) feeding chlorosilane from an external source into the hydrolysis reactor, where the hydrolysis reaction occurs and produces a mixture of hydrolysis compounds, liquid aqueous HCl and HCl vapor; (ii) passing the hydrolysis compounds, liquid aqueous HCl and HCl vapor produced in (i) through the HCl purifier, where anhydrous hydrogen chloride is removed from the mixture and the cyclic system; (iii) passing the hydrolysis compounds, liquid aqueous HCl and HCl from the purifier. (iv) Recovering the aqueous HCl from (iii) to the hydrolysis reactor; (v) Feeding the aqueous hydrolysis concentrate from (iii) into the washing path; (vi) Feeding external water into the washing path to purify the aqueous hydrolysis concentrate; (vii) Removing the purified aqueous hydrolysis concentrate from the washing path and cyclic system; (viii) Recovering the low concentration aqueous HCl from the washing path to the hydrolysis reactor; (ix) Removing the low concentration aqueous HCl from the washing path and cyclic system, where the low concentration aqueous HCl is 0.1% to less than 10% by weight; and (x) Feeding the high concentration aqueous HCl. At least 10% by weight of HCl from an external source enters the hydrolysis reactor.
TH501004600A 2005-09-30 Chlorosilane aqueous decomposition TH56038B (en)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH102705B TH102705B (en) 2010-07-29
TH102705A true TH102705A (en) 2010-07-29
TH56038B TH56038B (en) 2017-07-18

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9669400B2 (en) Method for purifying silane compound or chlorosilane compound, method for producing polycrystalline silicon, and method for regenerating weakly basic ion-exchange resin
JP2008516044A5 (en)
ES2749123T3 (en) Preparation method of sodium carbonate and / or sodium bicarbonate
JP4423199B2 (en) Polysulfane conversion method
CN104817588A (en) Preparation method of ethyl chloride
CN109650339A (en) Hydrolyzing chlorosilane prepares the technique and device of hydrogen chloride
TH56038B (en) Chlorosilane aqueous decomposition
CN102026706B (en) Method for absorbing chlorine from air streams
JP5847104B2 (en) Method for producing polycrystalline silicon and method for producing hydrogen gas used as reducing agent in the production method
CN104230080A (en) Technique for producing caustic soda from spent brine generated in hydrazine hydrate production process
WO2008100736A3 (en) Processes for conjointly producing bromine and calcium chloride
WO2016060834A1 (en) Method and system for producing chlorinated hydrocarbons with hydrogen chloride integration
ZA200709712B (en) Low-temperature fused-salt electrolysis of quartz
CN1111507C (en) Purification of sulfuryl fluorine
KR100521652B1 (en) Apparatus and Method for Producing Chlorine Dioxide Gas in a High-Purity and Long-Term Storage of Chlorine Dioxide
KR101452354B1 (en) Purification method for off-gas and apparatus for purification of off-gas
ATE524415T1 (en) METHOD FOR PRODUCING CHLORINE FROM HYDROGEN CHLORIDE
CN209554785U (en) Device for preparing hydrogen chloride by hydrolysis of chlorosilane
CN101643422B (en) Method for purifying para-fluoroaniline industrial product by adopting acid extraction technology
DE50208329D1 (en) Process for the preparation of largely HBr-free HCI gas and largely HBr-free aqueous HCl solution
JPH08150389A (en) Treatment method of waste liquid containing ethylenediamine
US20120238782A1 (en) Methods for producing allyl chloride and dichlorohydrin
CN104876243A (en) Cleaning method of biurea mother liquid
JPH0235912A (en) Removing process for special material gas
KR100553987B1 (en) Method for Purifying Nitrogen Trifluoride Gas