SU824309A1 - Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ - Google Patents
Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ Download PDFInfo
- Publication number
- SU824309A1 SU824309A1 SU792801725A SU2801725A SU824309A1 SU 824309 A1 SU824309 A1 SU 824309A1 SU 792801725 A SU792801725 A SU 792801725A SU 2801725 A SU2801725 A SU 2801725A SU 824309 A1 SU824309 A1 SU 824309A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- layer
- tires
- cmd
- magnetic metal
- memory
- Prior art date
Links
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
- Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
Description
Изобретение относится к вычислитель ной технике и может быть использовано при создании твердотельных накопителей информации на цилиндрических магнитных доменах (ЦМД). '
Известен способ изготовления запоминающего устройства (ЗУ) на ЦМД, ос—“ нованный на нанесении на магнитооцноосную пленку разделительного слоя диэлектрика и слоя немагнитного металла. После проведения фотолитографии металлическая пленка удаляется методом травления в соответствии с рисунком маски, в результате чего остаются только токовые проводники [1]. ’ U
Однако наличие токовых проводников приводит к образованию рельефа при нанесении последующих пленочных слоевпи электрик а и пермаллоя, что снижает надежность работы устройств на НМД.
Наиболее близким к предлагаемому до технической сущности является спо- . у соб изготовления ЗУ на ЦМД, основанный на пос ле нова тельном нанесении на магнит о2.
одноосную пленку слоя из немагнитного металла, слоя диэлектрика и ферромагнитного слоя и формировании токопроводящих шин и управляющих аппликаций^ известном способе пооле формирова- — ния методом травления рисунка тиковых проводников напыляют пленку диэлектрикаокиси кремния, не снимая резиста с проводников. Толщина наносимой пленки диэлектрика делается равной толщине слоя токовых проводников, либо несколько меньшей - в пределах, при которых не ухудшается доменопродвижёние, но оказывается достаточным для проведения операции точного совмещения при фотолитографии по слою пермаллоя. После удаления с поверхности токовых проводников диэлектрика Имеете с резистом; последующие операции й применяемые материалы не отличаются от общепринятых в технике ЦМД устройств. В известном способе устранена рельефность слоев и вызванное ею снижение надежности функционирования^}.
з 824309
Однако это достигается значительным усложнением технологии изготовления. .
Цель изобретения - упрощение изготовления ЗУ на ЦМД.
Поставленная цель достигается путем 5 того, что в известном способе изготовления ЗУ на ЦМД формирование токопроводящих шин осуществляют вытравливанием разделительных промежутков в слое из немагнитного металла, формирующих ю замкнутый контур протекания электричесгкого тока.
На фиг. 1 и 2 изображена конструкция ЗУ на ЦМД, выполненного в соответствии с предлагаемым способом. 15
ЗУ на ЦМД содержит токопроводящие шины 1 из немагнитного металла, балластные участки V шин, активные участки Iм шин, образованные вытравливанием в слое из немагнитного металла раздели- 20 тельных промежутков 2, причем ширина последних в местах совмещения с управляющими аппликациями 3-соизмерима с их критическими размерами. Реперные знаки 4 формируются в слое немагнитного 25 металла. С остальной площади магнитоонноосной пленки 5 слой из немагнитного металла не удаляется. Токопроводящие шины 1 расположены между пленкой 5 и аппликациями 3, от которых они отце- 30 лены соответственно'слоями 6 и 7 диэлектрика.
Формирование разделительных промежутке® 2 можно осуществлять также анодным окисидованием алюминия, так как 3J при этом изменение уровня оказывается весьма незначительным,.
В предлагаемом способе электросопротивление токопроводящих шин уменьшается в несколько раз за счет снижения доли балластной их части, что приводит К уменьшению тепла, выделяющегося в устройстве. Кроме того, увеличенная во много раз площадь балластной части шин эффективно выполняет роль радиатора, отводящего тепло от активных шин и равномерно распределяющего его по всей площади устройства. Это приводит к снижению температуры узких участков токопроводящих шин и уменьшает вероятность их теплового разрушения, а также ослабляет локальный разогрев магнитоодноосной пленки.
Указанные преимущества повышают надежность ЗУ на ЦМД и упрощают их изготовление.
Claims (2)
- Однако это достигаетс значительным усложнением технологии изготовлени . . Цель изобретени - упрощение изготовлени ЗУ на ЦМД. Псх:тавленна цель достигаетс путем .того, что в известном способе изготовле ни ЗУ на ЦМД формирование токопрсжод ших йин осуществл ют вытравливанием разделительных промежутков в слое из немагнитного металла, формирующих замкнутый контур протекани электричес кого тока. .На фиг. 1 и 2 изображена конструкхщ ЗУ на ЦМД, выполненного в соответстви с предлагаемым способом. ЗУ на ЦМД содержит токопровод шие шины I из немагнитного металла, балластные участки l шин, активные участ ки l шин, образованные вытравливанием в слое из немагнитного металла разделительных гфомежутков 2, причем ширина последних в местах совмещени с управл ющими аппликаци ми 3-соизмерима с их критическими размерами. Реперные знаки 4 формируютс в слое немагнитног металла. С остальной площади магнитоО0НООСНОЙ пленки 5 слой из немагнитног металла не удал етс . Токопровод щие шины 1 расположены между пленкой 5 и аппликаци ми 3, от которых они отделены соответственносло ми 6 и 7 диэлектрика . Формирование разделительных проме утксж 2 можно осуществл ть также ано№ным окисидованием алюмини , так как при этом изменение уровн оказываетс весьма незначительным.. В прес1лагаемом способе электрсжопро тивление токопровод щих шин уменьшаетс в несколько раз за счет снижени доли балластной их части, что приводит {С уменьшению тепла, выдел ющегос в устройстве. Кроме того, увеличенна во много раз площадь балластной части шин эффективно выполн ет роль радиатору, отвод щего тепло от активных шин и равномерно распредел ющего его по всей площади устройства. Это приводит к снижению температуры узких участков токопровод щих шин и уменьшает веро тность их теплового разрушени , а также ослаб-Л ет локальный разогрев магнитоодноосной пленки. Указанные преимущества повышают надежность ЗУ на ЦМД и упрощают их изготовление. Формула изобретени Способ изготовлени запоминающего устройства на цилиндрических магнитных доменах, основанный на последовательном нанесении на магнитродноосную пленку сло из немагнитного металла, сло и ферромагнитного сло и формировании токопровод щих шин управл ю-, щих аппликаций, отличающийс тем, что, с целью упрощени изготовлени запоминающего устройства на цилинщзических магни тных доменах, формирование токопровод щих шин осуществл ют Вытравливанием разделительных промежутков в слое из немагнитного металла , формирующих замкнутый контур протекани электрического тока. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе , 4i ТЕЕЕ Troins. .,voe. AAG-f2,f97fe, ,p.654.
- 2.. J. Appe. ., V.4g(9). -078, (ПРОТОТИП). p. 1930 (прототип).SvA M -:::V, . emim m,- . .fffu. К OStnEKmOMК детектораФиг.1 3
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792801725A SU824309A1 (ru) | 1979-06-11 | 1979-06-11 | Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792801725A SU824309A1 (ru) | 1979-06-11 | 1979-06-11 | Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU824309A1 true SU824309A1 (ru) | 1981-04-23 |
Family
ID=20842985
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU792801725A SU824309A1 (ru) | 1979-06-11 | 1979-06-11 | Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU824309A1 (ru) |
-
1979
- 1979-06-11 SU SU792801725A patent/SU824309A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5721008A (en) | Method for controlling sensor-to-sensor alignment and material properties in a dual magnetoresistive sensor | |
US6032353A (en) | Magnetic head with low stack height and self-aligned pole tips | |
US4539616A (en) | Thin film magnetic head and fabricating method thereof | |
US5331728A (en) | Method of fabricating magnetic thin film structures with edge closure layers | |
US7145798B2 (en) | Methods for fabricating a magnetic keeper for a memory device | |
US5448822A (en) | Method of making a thin film magnetic head having multi-layer coils | |
US4165525A (en) | Magnetic head having a core provided on a substrate by means of thin-film technology | |
US6850057B2 (en) | Barber pole structure for magnetoresistive sensors and method of forming same | |
SU824309A1 (ru) | Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ | |
JPH06334237A (ja) | 磁気抵抗読取りトランスジューサ | |
JP3593497B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH09180127A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH0575237A (ja) | 導体パターン形成方法 | |
US6441611B2 (en) | Magnetic sensor having a GMR layer | |
JPH0548247A (ja) | 導体パターン形成方法 | |
US5547557A (en) | Formation of electroconductive thin-film pattern | |
JPH1083515A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
US6428714B1 (en) | Protective layer for continuous GMR design | |
US6350556B1 (en) | Method of forming thin film pattern and pole portion of thin film magnetic head | |
JPH056832A (ja) | 平面コイルの製造方法 | |
SU760177A1 (ru) | Интегральная магнитная головка 1 | |
JPH05290325A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS5836405B2 (ja) | ハクマクジキヘツド | |
EP0080532B1 (en) | Buried junction josephson interferometer | |
JPS5857809B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |