SU824309A1 - Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ - Google Patents

Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ Download PDF

Info

Publication number
SU824309A1
SU824309A1 SU792801725A SU2801725A SU824309A1 SU 824309 A1 SU824309 A1 SU 824309A1 SU 792801725 A SU792801725 A SU 792801725A SU 2801725 A SU2801725 A SU 2801725A SU 824309 A1 SU824309 A1 SU 824309A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
layer
tires
cmd
magnetic metal
memory
Prior art date
Application number
SU792801725A
Other languages
English (en)
Inventor
Евгений Петрович Паринов
Геннадий Константинович Чиркин
Original Assignee
Предприятие П/Я А-1631
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я А-1631 filed Critical Предприятие П/Я А-1631
Priority to SU792801725A priority Critical patent/SU824309A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU824309A1 publication Critical patent/SU824309A1/ru

Links

Landscapes

  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)

Description

Изобретение относится к вычислитель ной технике и может быть использовано при создании твердотельных накопителей информации на цилиндрических магнитных доменах (ЦМД). '
Известен способ изготовления запоминающего устройства (ЗУ) на ЦМД, ос—“ нованный на нанесении на магнитооцноосную пленку разделительного слоя диэлектрика и слоя немагнитного металла. После проведения фотолитографии металлическая пленка удаляется методом травления в соответствии с рисунком маски, в результате чего остаются только токовые проводники [1]. ’ U
Однако наличие токовых проводников приводит к образованию рельефа при нанесении последующих пленочных слоевпи электрик а и пермаллоя, что снижает надежность работы устройств на НМД.
Наиболее близким к предлагаемому до технической сущности является спо- . у соб изготовления ЗУ на ЦМД, основанный на пос ле нова тельном нанесении на магнит о2.
одноосную пленку слоя из немагнитного металла, слоя диэлектрика и ферромагнитного слоя и формировании токопроводящих шин и управляющих аппликаций^ известном способе пооле формирова- — ния методом травления рисунка тиковых проводников напыляют пленку диэлектрикаокиси кремния, не снимая резиста с проводников. Толщина наносимой пленки диэлектрика делается равной толщине слоя токовых проводников, либо несколько меньшей - в пределах, при которых не ухудшается доменопродвижёние, но оказывается достаточным для проведения операции точного совмещения при фотолитографии по слою пермаллоя. После удаления с поверхности токовых проводников диэлектрика Имеете с резистом; последующие операции й применяемые материалы не отличаются от общепринятых в технике ЦМД устройств. В известном способе устранена рельефность слоев и вызванное ею снижение надежности функционирования^}.
з 824309
Однако это достигается значительным усложнением технологии изготовления. .
Цель изобретения - упрощение изготовления ЗУ на ЦМД.
Поставленная цель достигается путем 5 того, что в известном способе изготовления ЗУ на ЦМД формирование токопроводящих шин осуществляют вытравливанием разделительных промежутков в слое из немагнитного металла, формирующих ю замкнутый контур протекания электричесгкого тока.
На фиг. 1 и 2 изображена конструкция ЗУ на ЦМД, выполненного в соответствии с предлагаемым способом. 15
ЗУ на ЦМД содержит токопроводящие шины 1 из немагнитного металла, балластные участки V шин, активные участки Iм шин, образованные вытравливанием в слое из немагнитного металла раздели- 20 тельных промежутков 2, причем ширина последних в местах совмещения с управляющими аппликациями 3-соизмерима с их критическими размерами. Реперные знаки 4 формируются в слое немагнитного 25 металла. С остальной площади магнитоонноосной пленки 5 слой из немагнитного металла не удаляется. Токопроводящие шины 1 расположены между пленкой 5 и аппликациями 3, от которых они отце- 30 лены соответственно'слоями 6 и 7 диэлектрика.
Формирование разделительных промежутке® 2 можно осуществлять также анодным окисидованием алюминия, так как 3J при этом изменение уровня оказывается весьма незначительным,.
В предлагаемом способе электросопротивление токопроводящих шин уменьшается в несколько раз за счет снижения доли балластной их части, что приводит К уменьшению тепла, выделяющегося в устройстве. Кроме того, увеличенная во много раз площадь балластной части шин эффективно выполняет роль радиатора, отводящего тепло от активных шин и равномерно распределяющего его по всей площади устройства. Это приводит к снижению температуры узких участков токопроводящих шин и уменьшает вероятность их теплового разрушения, а также ослабляет локальный разогрев магнитоодноосной пленки.
Указанные преимущества повышают надежность ЗУ на ЦМД и упрощают их изготовление.

Claims (2)

  1. Однако это достигаетс  значительным усложнением технологии изготовлени . . Цель изобретени  - упрощение изготовлени  ЗУ на ЦМД. Псх:тавленна  цель достигаетс  путем .того, что в известном способе изготовле ни  ЗУ на ЦМД формирование токопрсжод ших йин осуществл ют вытравливанием разделительных промежутков в слое из немагнитного металла, формирующих замкнутый контур протекани  электричес кого тока. .На фиг. 1 и 2 изображена конструкхщ ЗУ на ЦМД, выполненного в соответстви с предлагаемым способом. ЗУ на ЦМД содержит токопровод шие шины I из немагнитного металла, балластные участки l шин, активные участ ки l шин, образованные вытравливанием в слое из немагнитного металла разделительных гфомежутков 2, причем ширина последних в местах совмещени  с управл ющими аппликаци ми 3-соизмерима с их критическими размерами. Реперные знаки 4 формируютс  в слое немагнитног металла. С остальной площади магнитоО0НООСНОЙ пленки 5 слой из немагнитног металла не удал етс . Токопровод щие шины 1 расположены между пленкой 5 и аппликаци ми 3, от которых они отделены соответственносло ми 6 и 7 диэлектрика . Формирование разделительных проме утксж 2 можно осуществл ть также ано№ным окисидованием алюмини , так как при этом изменение уровн  оказываетс  весьма незначительным.. В прес1лагаемом способе электрсжопро тивление токопровод щих шин уменьшаетс  в несколько раз за счет снижени  доли балластной их части, что приводит {С уменьшению тепла, выдел ющегос  в устройстве. Кроме того, увеличенна  во много раз площадь балластной части шин эффективно выполн ет роль радиатору, отвод щего тепло от активных шин и равномерно распредел ющего его по всей площади устройства. Это приводит к снижению температуры узких участков токопровод щих шин и уменьшает веро тность их теплового разрушени , а также ослаб-Л ет локальный разогрев магнитоодноосной пленки. Указанные преимущества повышают надежность ЗУ на ЦМД и упрощают их изготовление. Формула изобретени  Способ изготовлени  запоминающего устройства на цилиндрических магнитных доменах, основанный на последовательном нанесении на магнитродноосную пленку сло  из немагнитного металла, сло  и ферромагнитного сло  и формировании токопровод щих шин управл ю-, щих аппликаций, отличающийс   тем, что, с целью упрощени  изготовлени  запоминающего устройства на цилинщзических магни тных доменах, формирование токопровод щих шин осуществл ют Вытравливанием разделительных промежутков в слое из немагнитного металла , формирующих замкнутый контур протекани  электрического тока. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе , 4i ТЕЕЕ Troins. .,voe. AAG-f2,f97fe, ,p.654.
  2. 2.. J. Appe. ., V.4g(9). -078, (ПРОТОТИП). p. 1930 (прототип).
    SvA M -:::V, . emim m,- . .fffu. К OStnEKmOM
    К детектора
    Фиг.1 3
SU792801725A 1979-06-11 1979-06-11 Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ SU824309A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792801725A SU824309A1 (ru) 1979-06-11 1979-06-11 Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792801725A SU824309A1 (ru) 1979-06-11 1979-06-11 Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU824309A1 true SU824309A1 (ru) 1981-04-23

Family

ID=20842985

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU792801725A SU824309A1 (ru) 1979-06-11 1979-06-11 Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU824309A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5721008A (en) Method for controlling sensor-to-sensor alignment and material properties in a dual magnetoresistive sensor
US6032353A (en) Magnetic head with low stack height and self-aligned pole tips
US4539616A (en) Thin film magnetic head and fabricating method thereof
US5331728A (en) Method of fabricating magnetic thin film structures with edge closure layers
US7145798B2 (en) Methods for fabricating a magnetic keeper for a memory device
US5448822A (en) Method of making a thin film magnetic head having multi-layer coils
US4165525A (en) Magnetic head having a core provided on a substrate by means of thin-film technology
US6850057B2 (en) Barber pole structure for magnetoresistive sensors and method of forming same
SU824309A1 (ru) Способ изготовлени запоминающего устройстваНА цилиНдРичЕСКиХ МАгНиТНыХ дОМЕНАХ
JPH06334237A (ja) 磁気抵抗読取りトランスジューサ
JP3593497B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH09180127A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH0575237A (ja) 導体パターン形成方法
US6441611B2 (en) Magnetic sensor having a GMR layer
JPH0548247A (ja) 導体パターン形成方法
US5547557A (en) Formation of electroconductive thin-film pattern
JPH1083515A (ja) 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US6428714B1 (en) Protective layer for continuous GMR design
US6350556B1 (en) Method of forming thin film pattern and pole portion of thin film magnetic head
JPH056832A (ja) 平面コイルの製造方法
SU760177A1 (ru) Интегральная магнитная головка 1
JPH05290325A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPS5836405B2 (ja) ハクマクジキヘツド
EP0080532B1 (en) Buried junction josephson interferometer
JPS5857809B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法