SU786080A1 - Устройство дл очистки узлов" радиоэлектронной аппаратуры - Google Patents

Устройство дл очистки узлов" радиоэлектронной аппаратуры Download PDF

Info

Publication number
SU786080A1
SU786080A1 SU782710037A SU2710037A SU786080A1 SU 786080 A1 SU786080 A1 SU 786080A1 SU 782710037 A SU782710037 A SU 782710037A SU 2710037 A SU2710037 A SU 2710037A SU 786080 A1 SU786080 A1 SU 786080A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
chamber
cleaning
electronic apparatus
side walls
radio electronic
Prior art date
Application number
SU782710037A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Сергеевич Доброер
Наум Израилевич Каушанский
Original Assignee
Предприятие П/Я Г-4645
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Г-4645 filed Critical Предприятие П/Я Г-4645
Priority to SU782710037A priority Critical patent/SU786080A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU786080A1 publication Critical patent/SU786080A1/ru

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

разделена окном 12. Окна 9 совместно с окнами 12 образуют проход дл  конвейера .
Между нижней кромкой каждой из направл ющих пластин 11 и дном камеры 5 имеетс  зазор 13.
Б мкость 14/ сообщающа с  с камерой 15 через дйе вертикальные щели 15, образует дополнительный объем дл  размещени  моющей жидкости.
Установка работает следукхцим образом .
При включении электродвигател  1 насос 2 создает сплошной циркулирующий поток моющей жидкости, который протекает через нагнетающий трубопровод 3, диффузор 4, камеру 5 и всасывагаций трубопровод 6. При этом диффузор 4 формирует сплошной вертикально падающий поток моющей жидкости, ограниченный внутри камеры 5 ее сплошными боковыми стенками 10 и направл ющими пластинами 11.
Очищаемые радиоэлементы 7, перемещаемые конвейером 8, непрерывно проход т сквозь сплошной турбулентный пСток моющей жидкости, который направлен параллельно плоскости конвейера 8. Проника  ко всем участкам поверхности радиоэлементов 7, быстро перемещающа с  моюща  жидкость обеспечивает их эффективную очистку.
Полный объем моющей жидкости должен быть таким, чтобы при работе устновки зазоры 13 находились под поверхностью жидкости.
Процесс очистки не сопровождаетс  заметным пенообразованием, так как поток моющей жидкости соприкасаетс  с атмосферой только по относительно небольшой площади окон 12, а сли ние его с жидкостью, расположенной на дне камеры 5, происходит без брызг, дл  чего нижние кромки направл ющих пластин 11 погружены в эту жидкость,
Подпитка потока через зазоры 13 моющей жидкостью, наход щейс  на дне камеры 5, стабилизирует гидродинамический режим установки.
Дл  интенсификации очистки путем увеличени  турбулентности потока, дл  снижени  объема мокэщей жидкости габаритов установки, а также мощности электродвигател  1 и насоса 2 рассто ние между сплошными бокбвыми стекагу1И 10 должно быть минимальным и в i,5-2 раза больше толщины очищаемых радиоэлементов 7.
Смещение плоскости конвейера 8 относительно середины рассто ни  между сплошными боковыми стенками приводит
к по влению избыточного давлени  моющей жидкости на сторону радиоэлементов 7, противоположную направлению смещени . В зависимости от требуемого улучшени  очистки этой стороны « отношение рассто ний от плоскости , конвейера 8 до сплошных боковых стенок 10 принимаетс  равным 1-3.
При отключении электродвигател  1 моюща  жидкость размещаетс  на дне камеры Бив емкости 14, заполн   ее через щели 15.
Дл  снижени  расхода моющей жидЫости , улучшени  качества и увеличени  производительности процесса очистки несколько предлагаемых устройств S могут объедин тьс  в многокамерную установку очистки.
В установке без заметного пенообразовани  могут использоватьс  моющие жидкбсти, содержащие до 500 70 г/л поверхностно-активных веществ против 3-5 г/л при струйной очистке, ЧТО позвол ет применить в такой установке разработанные в стране водные моющие растворы дл  очистки от - канифольных фтйосов.
Переход к сплошному потоку приводит к снижению энергозатрат на подогрев моющей жидкости, а касательное к направлению потока расположение очищаемых поверхностей узлов способ0 сТвует качественной очистке всех участков этих поверхностей, включа  те которые наход тс  под радиоэлемелтс1ми .

Claims (2)

  1. Формула изобро зени 
    .Устройство дл  очистки узлов ра- , диоэлектронной аппаратуры, преимущественно печатных плат, содержащее камеру с выполненными в ее боковых стенках окнами дл  прохода конвейера., насос, трубопровод и механизм подачи раствора с насадкой, размещенный в камере, отлич.ающеес   тем, что, с целью повышени  качества :
    очистки, оно снабжено пеногасителем, выполненным в виде направл квдих пластин, размещенных вдоль боковых стенок камеры с возможностью образозани  зазора между направл клцими и дном камеры.
  2. 2. Устройство по п.1, отличающеес  тем, что насадка механизма подачи раствора выполнена в формедиффузора.
    Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе
    1. Патент США №3868272, кл. 134-26, 1975 (прототип).
    -4
    -7
    9
    А
    10.
    /4
    .
    -6
SU782710037A 1978-12-29 1978-12-29 Устройство дл очистки узлов" радиоэлектронной аппаратуры SU786080A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782710037A SU786080A1 (ru) 1978-12-29 1978-12-29 Устройство дл очистки узлов" радиоэлектронной аппаратуры

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782710037A SU786080A1 (ru) 1978-12-29 1978-12-29 Устройство дл очистки узлов" радиоэлектронной аппаратуры

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU786080A1 true SU786080A1 (ru) 1980-12-07

Family

ID=20804086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782710037A SU786080A1 (ru) 1978-12-29 1978-12-29 Устройство дл очистки узлов" радиоэлектронной аппаратуры

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU786080A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930020596A (ko) 세정(洗淨)장치용 처리조(處理糟)
US4482425A (en) Liquid etching reactor and method
GB1493170A (en) Apparatus for developing a travelling photographic emulsion carrier
US3398873A (en) Sumps and nozzles for soldering machines
JPH0448872Y2 (ru)
SU786080A1 (ru) Устройство дл очистки узлов" радиоэлектронной аппаратуры
GB1384924A (en) Flocculating and sedimentation tank units
US3123084A (en) tardoskegyi
EP0146798B1 (de) Verfahren zum umweltfreundlichen Ätzen von Leiterplatten und Vorrichtung zur Ausübung des Arbeitsverfahrens
US4761213A (en) Treatment facility particularly for printed circuit boards to be treated while in a horizontal plane
GB1004225A (en) Apparatus for processing with a liquid
CN201329197Y (zh) 变截面箱式除油装置
SU1547877A1 (ru) Установка дл струйной обработки изделий
EP0613049A1 (en) Apparatus for the processing of sheet material
SU1595945A1 (ru) Агрегат дл струйной обработки изделий
CN219772266U (zh) 一种铝箔的脱脂清洗设备
GB1480714A (en) Ultrasonic cleaning apparatus
JPS5613058A (en) Dip coating method and its apparatus
SU791431A1 (ru) Агрегат дл струйной обработки изделий
US1137339A (en) Etching apparatus.
CN117299724A (zh) 玻璃清洗除泡装置
JPH04371591A (ja) 金属ストリップ等の洗浄設備
CN207627982U (zh) 搓花键设备的水冷却装置
SU1382486A2 (ru) Устройство дл вибрационной очистки изделий
JPS5610368A (en) Method and device for immersion coating