SU715362A1

SU715362A1 - Фотошаблон

Info

Publication number: SU715362A1
Application number: SU742092087A
Authority: SU
Inventors: Григорий Порфирьевич Сергиенко; Анатолий Павлович Кауфман; Владимир Иванович Кимарский
Original assignee: Предприятие П/Я А-3106
Priority date: 1974-12-30
Filing date: 1974-12-30
Publication date: 1980-02-15

Description

(54) ФОТОШАБЛОН

I

Изобретение относитс к технологии производства радиоэлектронной аппаратуры, в часттости , к изготовлению фотошаблонов, примен емых в фотолитографических процессах при производстве интегральных схем.

Известен фотошаблон, состо щий из прозрачной стекл нной подложки, с нанесенным на нее- маскирующим металлическим слоем, в котором выполнено изображение требуемого рисунка, и защитным слоем, расположенным на маскирующем слое 1.

Недостатком известного фотошаблона вл ютс скрытые трудно контролируемые дефекты в поверхностном слое стекл нной подложки (выколки стекла, царапины, выступы). Эти дефекты по вл ютс во врем механической и химической обработки подложки и вл ютс причиной образовани проколов в металлизированном слое (на месте бугорков и выступов в подложке), плохой адгезии металлизированного сло к стеклу и включен ш невьггравленной металлической пленки в светлом поле азотошаблоиа (на месте царапин и выколок в подложке).

Целью изобретени вл етс повышение качества фотошаблона путем исключени вли ни дефектов на маскирующий слой.

Это достигаетс тем, что защитный слой размещен между подложкой и маскирующим счоем.

Обеспечение поверхностного сло стекл нной подложки защитным слоем нитрида кремни предупреждает трансформацию дефектов подложки в маскирующий слой.

На чертеже показан предлагаемый фотошаблон .

Фотошаблон состоит из прозрачной стекл нной подложки 1, поверхность которой заийщена слоем 2 нитрида кремни . Изображение требуемой функциональной схемы выполнено в маскирующем слое 3, например, их хрома, нанесенном на защитный слой 2.

Защитный слой 2 наноситс на поверхность стекл нной подложки I после подготовки последней известными методами механической и химической обработки.

В процессе химической и механической обработки стекл нной подложки 1 в ее поверх нсГстйомслое образуютс дефекты (выколки; бугорки, царапины), вл ющиес практически единственной причиной выхода из стро -фото шаблонов во врем эксплуатации. Нанесение нитрида кремни на подложку 1 производитс в камере реактивного распылени , например, с помощью установки УРМЗ 279.013.S Услови режима нанесени нитрида кремни давление азота в вакуумной камере мм рт.ст; анодный ток Ja-K 80 ма; напр жение распылени мишени Upacn 1,25 KB; скорость роет; пленки нитрида кремни и 12 А/мин, t,. температура подложки в процессе осаждени пленки 280°С; , толщина наносимой пленки нитрида кремни d «vlOOO А. В процессе нанесени нитрида кремни на стекло обеспечиваетс высока адгези этих слоев, благодар , тому, что коэффшоюнты линейного расширени стекла и нитрида кремни Имеют Противоположные знаки. Маскирующий слой 3, в данном случае из хрома, нанос т на слой 2 известньпли метода V4

Claims

Х ми вакуумного распылени и создают в нем требуемое изображение, пользу сь известными методами фотолитографии. Благодар размещению сло нитрида кремни между подложкой и маскирующим слоем обеспечиваетс стабилизаци поверхностного сло стекла неразрущаемым в дальнейшем технологическом процессе слоем нитрвда крем ни . Это предупрейсдает трансформацию дёфектов поверхйостй стекла в маскирующий слой, благодар чему повышаетс качество фотошаблона по сравнению с известным. Формула изобре тени Фотошаблон, содержаш;ий стекл нную подложку с маскирующим слоем и защитным слоем из нитрида кремни , отличающийс тем, чЛ, с целью повьпиени его качества путем исключени вли ни дефектов на маскирующий слой, размещен между подложкой и маскирующим слоем. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство fCCP № 329501, кл. Н 05 К 3/00, 1970 (прототип).