SU710671A1 - Устройство дл гидравлической очистки плоских изделий - Google Patents

Description

1

Изобретение относитс  к оборудованию дл  гидравлической очистки плоских изделий и может быть использовано, в частности , на технологических операци х при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных схем.

Известны устройства дл  гидромеханической очистки плоских изделий, содержащие щетки, соединенные с приводом, транспортирующий механизм с гнезда.ми дл  изделий , например центрифугу, и-средства дл  подачи обрабатывающей жидкости в зону очистки 1.

Известны устройства дл  гидромеханической очистки плоских изделий, в которых процесс обработки осуществл етс  с помощью м гких беличьих флейц 2.

Одним недостатком известных устройств  вл етс  низкое качество очистки изделий от загр знений, имеющих хорощее сцепление с обрабатывае.мой поверхностью, например при очистке полупроводниковых пластин после химико-механической полировки.

Другим недостатком известных устройств  вл етс  то, что очистка изделий осуществл етс  одними и теми же щетками и удаленные загр знени  частично или полностью задерживаютс  на щетинках щеток, а затем перенос тс  на обрабатываемые поверхности последующих изделий, что значительно снижает качество очистки. Этот недостаток устранен в устройстве, где по радиусу обрабатываемого издели , например полупроводниковой пластины, непрерывно ввод т чистую влажную ткань 3.

Однако практически известное устроиство в массовом производстве не используетс , так как необходим больщой расход технически чистой ткани.

Наиболее близким рещением из известных  вл етс  устройство дл  гидромеханической очистки плоских изделий, содержащее установленный с возможностью вращени  держатель в виде диска с закрепленными на нем одним концом моечными элементами и систему подвода к ним рабочей жидкости CW.

Недостатки известного устройства имеют тот же характер, что и у выщеописанных аналогов. Это исключает возможность использовани  указанного устройства в технологических процессах, требующих высокого качества очистки плоских изделий, в частност; оно не может использовано в полупроводниковом производстве дл  очистки кремниевых нластин. после механической или химико-механической полировки .

Целью насто щего изобретени   вл етс  повышение качества очистки.

Указанна  цель достигаетс  тем, что в устройстве дл  очистки плоских изделий, включающем установленный с возможностью вращени  держатель в виде диска с закрепленными на нем одним концом моечными элементами и систему подвода к ним рабочей жидкости, держатель выполнен полым , а моечные элементы - в виде полых эластичных трубок с лепестками на свободных концах, причем эластичные трубки закреплеиь; иа держателе радиальными р дами и имеют щелевые отверсти , расположенные на стороне, обращенной к периферии диска.

Такое выполнение устройства обуславливает возникновение избыточного давлени  в эластичных трубках (моечных элементах ), что обеспечивает как вибрацию упом нутых моечных элементов, так и отмывку осевщих на них загр знений. Вибраци  эластичных трубок, а следовательно, лепестков, способствует более интенсивному разрушению сло  загр знений на поверхности обрабатываемого издели , что повыщает качество очистки.

На фиг. 1 изображен продольный разрез устройства дл  гидравлической очистки плоских изделий; на фиг. 2- разрез А-А на фиг 1; на фиг. 3 - разрез Б-Ь па фиг. I.

Устройство дл  гидравлпческок очистки плоских изделий содержит держатель 1, выполнепный полым и установленный с возлк:жнг1стьк ) врашателы;)го :; озвратно-поступательного движени . В лсржате::. I закреплены полые элаггччные )ки 2 с лепестками 3 на свободных конках. Лепестки 3 выполнер1ы путем надреза концов трубок 2 в четырех местах с последующим утонением. Полые - ла тмчныг-- трубки 2 закреплены на держателе 1 р;.1иа.1ьны и р ла.и и имеют п. отверсти  4, рмсг оложенные на стороне , ;;брап.и инок 1ч периферии диска. Обраб: ,тыв е. издели  5 ук.1адывнют в гнез la 6 трано :ортирую1цего механизма 7, размещенного под моечными элементами-трубк; .1ми 2. В держателе имеетс  осевое отверс/ие 8.

Устройство дл  гидравлической очистки работает следуюишм образом.

Издели  5 уклйдывпюг з : нсзда h транспортирующего механизма 7 (например центрифугу ) и перемещак1т под моечными элементами . Моющую жидкость, например деионизованную воду, подают в отверстие 8

держател  1. Жидкость под действием центробежных сил, возникающих при вращении держател  1, поступает по трубкам 2 в зону обработки. Между обрабатываемыми издели ми 5 и концами полых эластичных трубок 2 имеетс  гарантированный зазор ,1-0,2 мм, который устанавливаетс  предварительно путем перемещени  держател  1 вверх или вниз в вертикальном направлении относительно поверхности изделий 5, что в дальнейшем

0 при подаче жидкости обеспечивает возникновение избыточного давлени  в трубках 2, вследствие чего моющий раствор поступает в зону обработки не только через зазор, но и через щелевые отверсти  4. Причем стру  жидкости, поступающа  через щель 4, направлена на ближайшую трубку радиального р да, удаленную от центра, и обеспечивает одновременно вибрацию трубок 2 и отмывку осевщих на них загр знений. Кро.ме того, под действием из0 быточного давлени  лепестки 3 отгибаютс  до соприкосновени  с поверхностью издели  5. Под действием струи жидкости, поступающей через зазор 3, а также вследствие механического воздействи  .к-пестков 3 обесS печиваетс  удаление загр знений с поверхности изделий 5.

Толщина загр зненного сло  на изделии 5 в процессе очистки уменьшаетс , зазор увеличиваетс , что ведет к у.меньшению механического воздействи  лепестков 3 на издели  5, а также к меньп1ению вибрации трубок 2, Б результате чего исключаетс  возможность порчи очищенной поверхности издели  и обеспечиваетс  их очистк.а с неболь5 щим разбросом времени независимо от толщины сло  загр знени .

Моющий раствор, вытекающий из трубок 2, создает тонкую вод ную прослойку между лепестками 3 и oMiiiiuiCNibiM участком поверхо ности издели  5, что гсьмючлет возможность возникновени  cyxcii-j т;.сни  между изделием 5 и ;iefiecTK;;.MH 3. а это в свою очередь позвол е; ос шсств.т ть отмывку при больнмх скорост х вращени  держател  1. 5 Использование устройства, в частности в полупровол.миковом производстве, дл  очистки крем.иисвых пластин после механической или химико-чеханической полировки обеспечивает повышоние качества очистки изделий, а также повыщен1-;е производительности .

Claims (1)

1. Формула изобретени 

   Устройство дл  гидравлической очистки плоских изделий, включающее установленный с возможностью  )ап:ени  держатель в виде диска с закрегт. на нем одним концом моечными элементами i-i систему под