SU656558A3 - Установка дл электроннолучевого нагрева - Google Patents

Установка дл электроннолучевого нагрева

Info

Publication number
SU656558A3
SU656558A3 SU762348553A SU2348553A SU656558A3 SU 656558 A3 SU656558 A3 SU 656558A3 SU 762348553 A SU762348553 A SU 762348553A SU 2348553 A SU2348553 A SU 2348553A SU 656558 A3 SU656558 A3 SU 656558A3
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
installation
angle
pole
pole tips
magnetic
Prior art date
Application number
SU762348553A
Other languages
English (en)
Inventor
Зоммеркамп Петер
Хайль Вальтер
Original Assignee
Лейбольд-Хероз Гмбх Унд Ко.Кг (Фирма)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Лейбольд-Хероз Гмбх Унд Ко.Кг (Фирма) filed Critical Лейбольд-Хероз Гмбх Унд Ко.Кг (Фирма)
Application granted granted Critical
Publication of SU656558A3 publication Critical patent/SU656558A3/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • H01J37/063Geometrical arrangement of electrodes for beam-forming

Description

, 1
Изобретение относитс  к электроннолучевым приборам дл  местной обработки объектов и может быть использовано дл  нагрева, плавлени  и испарени  материалов.
Известны электроннолучевые установки дл  нагрева объектов, в которых электронный луч формируетс  и отклон етс  с помощью электростатических и магнитных систем 1. Недостаток известных установок состоит в сложности формируюш,их систем.
Ближайшим техническим решением к предложенному  вл етс  установка дл  электроннолучевого нагрева, содержаш.а  охлаждаемый тигель и электронную пушку , состо щую из катода, формирующе; го электрода, анода, лучевода и двух магнитных систем дл  отклонени  электронного луча в двух взаимно перпендикул рных направлени х X и Y. Кажда  магнитна  система образована магнитопроводом с полюсными наконечниками и катушками возбуждени . Лучевод и магнитные системы заключены в цилиндрический корпус, в торце которого на выходе лучевода установлена крышка, через которую выведены полюсные наконечники Х-отклон ющей системы 2.
Недостатки известной установки св заны с тем, что под действием тепла, исход щего от нагреваемого материала, крышка электронной пушки прогреваетс  до высокой температуры и, кроме того, она запыл етс  частицами обрабатываемого материала. Высока  температура крышки приводит к снижению надежности работы пушки, а загр знение крышки - к последующему отслоению напыленного материала и попаданию его в тигель. Этот недостаток особенно существенен , поскольку установка должна обеспечивать чистоту последовательно испар емых материалов.
Цель изобретени  - повышение надежности установки.
Эта цель достигаетс  тем, что крышка корпуса от начала полюсных наконечников Х-отклон ющей системы наклонена под углом 30-80° к оси лучевода при оптимальном диапазоне углов наклона 45-70°. Полюсные наконечники Х-отклон ющей системы установлены в плоскости, расположенной по одну сторону от оси лучевода вместе с испарительным тиглем.
Внутренние поверхности полюсных накоечников Х-отклон ющей системы располоены по касательной к цилиндрической поверхности корпуса под углом 20-90° (оптимальный диапазон углов наклона 45-70°) руг к другу.J
Магнитопровод Y-отклон ющей системы выполнен в виде замкнутой рамы, охватывающей лучевод, на сторонах которой, расположенных по обе стороны плоскости симметрии полюсных наконечников Х-отклон ющей системы, установлены катущки возбуж- ени , а на поперечных указанной плоскости сторонах - полюсные наконечники.
Тигель закреплен между полюсными наконечниками Х-отклон ющей системы и снабжен боковыми накладками, образующими 5 продолжение полюсных наконечников Х-отклон ющей системы:
На фиг. 1 показана предложенна  установка (электронна  пушка дана в разрезе); на фиг. 2 - разрез А-А; на фиг. 3 - относительное расположение пущки и тигл ; на фиг. 4 - тигель с накладками.
Электронна  пущка (фиг. 1) содержит катод 1 и формирующий (цилиндр Венельта) электрод 2, установленные на изол торе 3, снабженном радиатором 4. Изол тор окру- js жен экранирующим колпаком 5. Анод 6 выполнен с каналом, переход щим в цилиндрический лучевод 7. Внутри цилиндрического корпуса 8 установлены охватывающие лучевод магнитные системы 9, 10, отклон ющие луч в направлени х X и Y соответствен- но.
Лучевод 7 и корпус 8 вакуумноплотно соединены крыщкой 11.
Отклон юща  система 9 состоит из магнитопровода 12 и установленной на нем ка- 35 тущки возбуждени  13. Магнитопровод 12 соединен с полюсными наконечниками 14 (кг фиг. 1 виден только один наконечник).
Крышка 11 наклонена к оси лучевода. Магнитопровод 12, катушки 13 и полюсные наконечники 14 расположены по одну сто- ° рону плоскости симметрии Б-Б, проход щей через ось лучевода 7. Внутренние поверхности наконечников 14 установлены под углом друг к другу. Y-отклон юща  система 10 содержит раму, на которой закреплены 45 катушки 15, 16 и полюсные наконечники 17 и 18.
На фиг. 3 показана входна  часть пущки. Электронный луч отклон етс  системой 9 по криволинейной траектории в направлении тигл  19, охлаждаемого водой. Тигель поворачиваетс  вокруг вертикальной оси дл  совмещени  с лучом.
На полюсных наконечниках 14 расположен изготовленный из меди охлаждаемый экран 20, имеющий коническое отверстие 21, ss экран предотвращает загр знение пушки испаренным металлом и служащий в качестве ловушки дл  части отраженных электронов.
Вместо экрана в полюсные наконечники 14 может быть помещен тигель (фиг. 4). При этом полюсные наконечники 14 укорачивают , а тигель снабжают накладками 22.
Положительный эффект достигаетс  при выполнении угла наклона крышки в диапазоне 30-80°, а угла между полюсными накОнечниками 14 20-90°, однако оптимальньши величинами  вл ютс  45-70° дл  обоих угловых величин. Выход за эти пределы снижает эффективность использовани  объекта или приводит к паразитным воздействи м на электронный луч.

Claims (6)

  1. Формула изобретени 
    I. Установка дл  электроннолучевого нагрева , содержаща  охлаждаемый тигель и электронную пушку, состо щую из катода, формирующего электрода, анода, лучевода и двух магнитных систем дл  отклонени  электронного луча в двух взаимноперпендикул рных направлени х X и У, кажда  из которых образована магнитопроводом с полюсными наконечниками и катушками возбуждени , причем лучевод и магнитные системы заключены в цилиндрический корпус, в торце которого на выходе лучевода установлена крышка, через которую цыведены полюсные наконечники Х-отклон ющей системы , отличающа с  t&JA, что, с целью повышений надежности работы установки, крышка корпуса от начала полюсных наконечников Х-отклон ющей системы наклонена под угЛом 30-80° к оси лучевода.
  2. 2.Установка по п. 1, отличающа с  тем, что угол наклона крышки корпуса к оси лучевода составл ет 45-70°.
  3. 3.Установка по п. 1, отличающа с  тем, что полюсные наконечники Х-отклон ющей системы установлены в плоскости, расположенной по одну сторону от оси лучевода вместе с испарительным тиглем.
  4. 4.Установка по п. 1, отличающа с  тем, что внутренние поверхности полюсных наконечников Х-отклон ющей системы расположены по касательной к цилиндрической поверхности корпуса под углом 20-90° друг к другу.
  5. 5.Установка по пп. 1 и ,отличающа с  тем, что угол между внутренними поверхност ми Х-отклон ющей системы составл ет 45-70°.
  6. 6.Установка по п. 1, отличающа с  тем, что Магнитопровод У-отклон ющей системы выполнен в виде замкнутой рамы, охватывающей лучевод, на сторонах которой, расположенных по обе стороны плоскости симметрии полюсных наконечников Х-отклон ющей системы, установлены катущки возбуждени , а на поперечных указанной плоскости сторонах - полюсные наконечники.
SU762348553A 1975-05-02 1976-04-26 Установка дл электроннолучевого нагрева SU656558A3 (ru)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2519537A DE2519537C2 (de) 1975-05-02 1975-05-02 Elektronenstrahlgerät für Heiz-, Schmelz- und Verdampfungszwecke mit Ablenksystemen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU656558A3 true SU656558A3 (ru) 1979-04-05

Family

ID=5945559

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762348553A SU656558A3 (ru) 1975-05-02 1976-04-26 Установка дл электроннолучевого нагрева

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4061871A (ru)
JP (1) JPS585504B2 (ru)
DD (1) DD125731A1 (ru)
DE (1) DE2519537C2 (ru)
FR (1) FR2309972A1 (ru)
GB (1) GB1509834A (ru)
SU (1) SU656558A3 (ru)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4371774A (en) * 1980-11-26 1983-02-01 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High power linear pulsed beam annealer
CH645137A5 (de) * 1981-03-13 1984-09-14 Balzers Hochvakuum Verfahren und vorrichtung zum verdampfen von material unter vakuum.
DD204947A1 (de) * 1982-04-20 1983-12-14 Manfred Neumann Einrichtung zum elektronenstrahlbedampfen breiter baender
JPS59199937A (ja) * 1983-04-26 1984-11-13 株式会社フジタ 鉄骨鉄筋コンクリ−ト構造物の構築工法
DE3428802A1 (de) * 1984-08-04 1986-02-13 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren und vorrichtung zur steuerung des fokussierungszustandes eines abgelenkten elektronenstrahls
UA43927C2 (uk) * 2000-12-26 2002-01-15 Міжнародний Центр Електронно-Променевих Технологій Інституту Електрозварювання Ім. Е.О. Патона Нан України Електронна гармата з лінійним термокатодом для електронно-променевого нагрівання
ATE332337T1 (de) * 2000-12-28 2006-07-15 Ciba Sc Holding Ag Disazofarbstoffe und ihre kupferkomplexe zum faerben von papier
DE102006031244B4 (de) * 2006-07-06 2010-12-16 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zum Verdampfen eines Materials mittels eines Elektronenstrahls und zum Abscheiden des Dampfes auf ein Substrat
RU2709793C1 (ru) * 2018-07-09 2019-12-20 Публичное акционерное общество "Электромеханика" Электронно-лучевая пушка с повышенным ресурсом эксплуатации

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH318624A (de) * 1954-07-12 1957-01-15 Foerderung Forschung Gmbh Anordnung zum Bohren von Löchern in festen Körpern
US3312858A (en) * 1961-08-31 1967-04-04 Heraeus Gmbh W C Deflecting system for charge carrier beams
DE1248175B (de) * 1961-08-31 1967-08-24 Heraeus Gmbh W C Elektronenstrahlerzeugungssystem
GB1066583A (en) * 1963-05-01 1967-04-26 Ass Elect Ind Improvements relating to electronic bombardment apparatus
US3388235A (en) * 1965-12-01 1968-06-11 United Aircraft Corp Vortex pressure control device
US3360600A (en) * 1966-07-13 1967-12-26 Air Reduction Vapor source assembly
US3379819A (en) * 1966-09-15 1968-04-23 Filmtech Associates Inc Electron gun for evaporating or sublimating material in a vacuum environment
US3535428A (en) * 1968-07-17 1970-10-20 Air Reduction Apparatus for producing and directing an electron beam
DE1955846C3 (de) * 1969-11-06 1973-10-31 Leybold-Heraeus Gmbh & Co Kg, 5000 Koeln Elektronenkanone fur die Erhitzung von Materialien in einem Vakuumbehalter

Also Published As

Publication number Publication date
DE2519537C2 (de) 1982-11-04
FR2309972B1 (ru) 1982-08-13
DD125731A1 (ru) 1977-05-11
JPS51137194A (en) 1976-11-26
FR2309972A1 (fr) 1976-11-26
GB1509834A (en) 1978-05-04
US4061871A (en) 1977-12-06
JPS585504B2 (ja) 1983-01-31
DE2519537A1 (de) 1976-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SU656558A3 (ru) Установка дл электроннолучевого нагрева
US3450824A (en) Method and apparatus for producing and directing an electron beam
SU568406A3 (ru) Электроннолучева трубка
US2564737A (en) Cathode-ray tube
US3268648A (en) Apparatus for vaporizing materials by an electron beam
US4131753A (en) Multiple electron-beam vapor source assembly
KR100711529B1 (ko) 아크-프리 전자총
US4180760A (en) Flat cathode ray tube having magnetically collimated electron beam device
GB1467487A (en) X-ray tubes
JPH06228744A (ja) 電子ビーム源アセンブリ
US5182488A (en) Electron beam gun for use in an electron beam evaporation source
US4724796A (en) Vaporization arrangement with a rectangular vaporization crucible and several electron guns
US3869675A (en) Heating arrangement with focused electron beams under vacuum
US4947404A (en) Magnet structure for electron-beam heated evaporation source
GB1096349A (en) Improvements in electron beam tubes
US3047758A (en) Cathode ray tubes
US3192425A (en) X-ray tube with adjustable electron beam cross-section
SU980560A1 (ru) Электронно-лучевое испарительное устройство
US3407322A (en) Infrared camera tube with cooling means for internal elements
US3226542A (en) Mass spectrometer arc-type ion source having electrode cooling means
US3857014A (en) Electron beam generator
SU313510A1 (ru)
KR860008677A (ko) 화상 픽업장치 및 텔레비젼 카메라 관
US3723782A (en) Arc lamp with magnetic vortex anode
US3852560A (en) Continuous electronic heating device for metallic wire and sheet metal