SU613590A1 - Производные 4,4-диазидостильбен-2,2-дисульфокислоты в качестве фотосшивающих агентов - Google Patents
Производные 4,4-диазидостильбен-2,2-дисульфокислоты в качестве фотосшивающих агентов Download PDFInfo
- Publication number
- SU613590A1 SU613590A1 SU762396055A SU2396055A SU613590A1 SU 613590 A1 SU613590 A1 SU 613590A1 SU 762396055 A SU762396055 A SU 762396055A SU 2396055 A SU2396055 A SU 2396055A SU 613590 A1 SU613590 A1 SU 613590A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- photo
- derivatives
- diazidostylbene
- cross
- disulfonic acid
- Prior art date
Links
Landscapes
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
Description
Изобретение относитс к новым химическим соединени м, конкретно .к производным 4, 4-диазидостильбен-2 21-дисульфокислоты общей формулы
NB
гдвЯи R - водород, гвксил 2-окси этил или R - водород, а R - циклогексил , или RVJR - остаток пиперидина.
Производные 4, 4 -диазилостильбен-2 ,2-дисульфокислоты вл ютс светочувствительными соединени ми и могут быть использованы в качестве фотосшивающих агентов дл приготовлени светокопировальных слоев негативного типа - фоторезисторов, примен емых при формировании защитных покрытий в микроэлектронной, радиотехнической и полиграфической промышленности .
Известно использование в качестве фотосшивающего агента 2,6-бис- 4 - -азидобенэаль1-4-метилциклогексанона (ДЦГ) в композиции с циклокаучуком.
Однако известный фотосишвающий агент имеет ограниченнук растворимость в органических растворител х
tl.
Целью изобретени . вл ютс N-saмещенные 4,4-диазидостильбен-2,2- . -дисульфонамиды указанной общей формулы , которые могут быть использованы в качестве фотосшивающих агентов дл полимеров различных классов и которые хорошо растворимы в кетонах, диоксане, сложных эфирах, моноалкиловых эфирах этиленгликол , а также
с в ароматических углеводородах (при R,R -гексил) и простых спиртах (при R,R -2-оксиэтил).
Указанные свойства определ ютс новой химической структурой новых . производных 4,4-Диазидостильбен-2,2 0 дисульфокислоты.
Предлагаемые соединени получают конденсацией 4,4 -диазидостильбвн-2,2 -дисульфохлорида с аминами формулы HNRR в среде органического смешивающегос с водой растворител , например диоксана, при 20-70°с, в присутствии соединений, св зывающих образутодихс . хлористый водород. В качестве последних целесообразно использовать водные растворы едких щелочей,карбонатов
щелочных металлов или третичные амины , например триэтиламин или пиридин Способ получени предлагаемых соединений прост в технологическом отношении , так как не требует специешьной аппаратуры и основан на испольэовании доступного сырь -4,4-диаэидостильбен-2 ,2-дисульфохлорида и дисшкиламинов.
Преимуществом новых соединений указанной оадей формулы по сравнению с ДЦГ вл етс хороша растворимость jBO многих органических растворител х Достаточна растворимость этих соединений (при R,R-2-оксиэтил) в спиртах позвол ет использовать их в качестве фотосшивакицих агентов дл водорастворимых полимеров, которые также растворимы в спиртах.
Пример, 4,4-Диазидостильбен-2 ,2 ,Ы-бис-( -оксиэтил)-сульфонамид .
23 г 4 ,4-диазидостильбен-2,2-дисульфохлорида раствор ют в 350 мл диоксана, прибавл ют 11,5 г ди-{2-оксиэтил ) -амина, нагревают до и прикапывают в течение 30 мин при размешивании 50 мл 10%-ного водного раствора едкого натра. Размешивают еще 30 мин при , фильтруют и выливают фильтрат в 380 мл .воды. Осадок отдел ют, промывают водой до нейтральной реакции и сушат при 60-70°.С.
Выход 20 г; т.пл. 145-147с.
После кристаллизации из спирта получают мелко кристаллический желтоватый продукт с т.пл. 151,0 152,0с ( с разложением).
Найдено,%: С 44,35; 44,20, Н 5,05; 4,97; N 19,16; 19,08; S 10,63; 10,80.
CiaH zgNgOgSi
Вычислено,%: С 44,29; Н 4,73;
N 18,78; S 10,75.
Продукт растворим в ацетоне, диоксане , спиртах и ароматических углеводородах .
Пример 2. 4,4-Диазидостильбен-2 ,,N-бис-(гексил)-сульфонамид .
Аналогично примеру 1, исход из дигексиламина вместо ди-(2-оксил)-амина , получают 4,4-диазидостильбен-2, 2-ди-С KN -бис-(гексил)-сульфонамид .
Выход 75%. Светло-желтые кристаллы . Т.пл. 106,0-107, (из спирта).
Найдено, %j С 60,16; 59,90; Н 7,84 Г7,88;Ы 14,88; 14,73; S8,26; 8,22;
C3e%oNg04Si
Вычислено, %: С 60,32; Н 7,99; N 14,80; S 8,47.
Вещество хорошо растворимо в ароматических углеводородах, ацетоне и ди оксане несколько хуже в спирте.
Пример 3.4,4 -Диаэидостильбен-2 ,2 ди-(N-циклогвксил-сульфонамид ).
Использу циклогекбиламин вместо ди-(2-оксиэтил)-амина, аналогично примеру 1 получают 4,4-диазидостильбен-2 ,2 -ди-(N-циклогексилсульфонамид ) .
Выход 82%. Кристаллы бледно-кремового цвета. Разлагаетс при без плавлени .
Найдено, %: С 53,01; 53,12; Н 5,82 5,93; N 18,84, 18,71; «510,41; 10,52.
2.6 32Ng04.S
Вычислено, %: С 53,40; Н 5,52; N19,17; 510,97..
Растворим в диоксане, ацетоне, ху же в спиртах.
Пример 4. 4,4-Диазидостильбен-2 ,2-ди-(су.льфонопиперидид) .
Замен ди-(2-оксиэтил)-амин в примере 1 на пиперидин, получают . 4,4-диазидостильбен-2,2-ди-(сульфонопиперидид ).
Выход 69%.
После кристаллизации из лед ной уксусной кислоты получают светло-желтые кристаллы, разлагающеес выше. без плавлени .
Найдено, %: С 51,61; 51,95; Н 5,42 5,28;N20,71; 20,48 ; S11 ,18 ; 11,29..
-i4..e 8 452Вычислено , %: С 51,78; Н 5,07;
20, N .20.13. S 11 ,52..
Полученные производные используют в качестве фотосшивающих агентов дл приготовлени светокопировальных слоев, что иллюстрируетс следующими примерами,
Пример 5. О,05 г полученного соединени указанной общей формул ( R., R -2-оксиэтил) и 1,0 г поливинилпйрролидона (мол.вес 70000) раствор ют в смеси 9 мл изопропилового спирта и 6 мл этилцеллюлозольва.На медну подложку методом центрифугировани нанос т пленку полученного раствора, сушат и экспонируют через маску светом ртутной лампы СВД-120, про вл ют в воде, споласкивают ацетоном и cy-i щат подложку с защитным рельефом. : После травлени подложки насыщенным водным раствором хлорного железа образуетс рельефное негативное изображение маски.
Анс1логичный результат получают, использу вместо поливинилпирролидон поли-(2-метил-5винилпиридин), кватернизованный по атому азота галогенгшкенами . 1
Пример 6. Раствор 0,5 г одного из предлагаемых соединений, описанных в примерах 1-4, и 10 г цик .локаУчука в 50 мл ксилола или смеси ксилол-хлороформ (1:1) нанос т мето-дом центрифугировани на кварецевую пластину, сушат и экспонируют через фотошаблон светом ртутной лампы СБД120; посла про влени , экспонированного сло ксилолом получают негативное изображение фотошаблона.
Аналогичный результат получают, использу раствор 0,5 г одного из соединений, указанной общей формулы, описанных в примерах 2 и 4, и 15 г полиглицидилметакрилата, этерифицированного ненасЕЛценной кислотой (например , коричной кислотой) в 50 мл этилцеллОэольва (про вл ют этилцеллозольвом ).
Приведенные примеры показывают, что предлагаемые соединени могут быть использованы в качестве фотосшиван цих агентов дл полимеров различных классов. Это возможно благодар тому , что синтезированные соединени растворимы в более широком наборе растворителей, чем известный аналог ЩГ.
Claims (1)
1. Авторское свидетельство СССР 242868, кл. С 07 С 49/30, 1963.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762396055A SU613590A1 (ru) | 1976-06-18 | 1976-06-18 | Производные 4,4-диазидостильбен-2,2-дисульфокислоты в качестве фотосшивающих агентов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762396055A SU613590A1 (ru) | 1976-06-18 | 1976-06-18 | Производные 4,4-диазидостильбен-2,2-дисульфокислоты в качестве фотосшивающих агентов |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU613590A1 true SU613590A1 (ru) | 1983-01-15 |
Family
ID=20674029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762396055A SU613590A1 (ru) | 1976-06-18 | 1976-06-18 | Производные 4,4-диазидостильбен-2,2-дисульфокислоты в качестве фотосшивающих агентов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU613590A1 (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0353666A2 (en) * | 1988-08-03 | 1990-02-07 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive agent,photosensitive resin composition containing same, and method of image formation using the composition |
US4994570A (en) * | 1986-10-10 | 1991-02-19 | Miles Inc. | Indicators for the detection of thiol groups |
-
1976
- 1976-06-18 SU SU762396055A patent/SU613590A1/ru active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4994570A (en) * | 1986-10-10 | 1991-02-19 | Miles Inc. | Indicators for the detection of thiol groups |
EP0353666A2 (en) * | 1988-08-03 | 1990-02-07 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive agent,photosensitive resin composition containing same, and method of image formation using the composition |
EP0353666A3 (en) * | 1988-08-03 | 1990-05-23 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive agent,photosensitive resin composition containing same, and method of image formation using the composition |
US5041570A (en) * | 1988-08-03 | 1991-08-20 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive 4,4'-diazidostilbene derivative |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6602647B2 (en) | Sulfonium salt compound and resist composition and pattern forming method using the same | |
JP3854689B2 (ja) | 新規な光酸発生剤 | |
JP3980124B2 (ja) | 新規ビススルホニルジアゾメタン | |
EP1734032A1 (en) | Calixresorcinarene compounds, photoresist base materials, and compositions thereof | |
EP2360153A2 (en) | Photoacid generators and photoresists comprising same | |
JPH07333834A (ja) | 化学増幅ポジ型レジスト材料 | |
JP2007277219A (ja) | スルホニウム塩 | |
DE112013005388T5 (de) | Aromatische Imid-Verbindung und Verfahren zur Herstellung derselben | |
US4624908A (en) | Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using | |
JPH035739B2 (ru) | ||
JP3386041B2 (ja) | 光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法 | |
US4762767A (en) | Negatively operating photoresist composition, with radiation-absorbing additives | |
SU613590A1 (ru) | Производные 4,4-диазидостильбен-2,2-дисульфокислоты в качестве фотосшивающих агентов | |
DE69222203T2 (de) | Hitzebeständige, positiv arbeitende Photoresistzusammensetzung, lichtempfindliches Substrat, und Verfahren zur Herstellung eines hitzebeständigen positiven Musters | |
JPS61121054A (ja) | カラーカプラーを含有するカラー写真記録材料 | |
JPH10168173A (ja) | ポリベンゾオキサゾール及びポリベンゾチアゾール前駆体の製造方法 | |
DE69308403T2 (de) | Hitzebeständige, negativ-arbeitende Photoresistzusammensetzung, lichtempfindliches Substrat und Verfahren zur Herstellung eines negativen Musters | |
US4959293A (en) | Deep UV photoresist with alkyl 2-diazo-1-ones as solubility modification agents | |
US6313314B1 (en) | Method for preparing azide photo-initiators | |
KR20150092176A (ko) | 신규한 술포늄염 화합물, 그 제조 방법 및 광산발생제 | |
EP0412457A1 (en) | Solubilization-inhibitor and positive resist composition | |
JPH05281717A (ja) | 感光性物質、およびそれを含有する耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物と感光性基材、ならびにパターン形成方法 | |
KR900018067A (ko) | 시클릭 설페이트의 제조방법 | |
JP4168191B2 (ja) | スルホニウム塩化合物及びそれを含有する感光性樹脂組成物 | |
DE857737C (de) | Photographische Halogensilberemulsion fuer die Farbenphotographie |