SU451978A1 - Позитивный фоторезист - Google Patents

Description

1

Изобретение касаетс  позитивного фоторезиста , используемого в полиграфической и ра/щоэлектронной промышленности.

Известны позитивные фоторезисты на основе эфиров ортонафтохинондназидов (светочувствительный продукт) в сочетании со щелочерастворимыми фенолформальдегидны- ми смолами (пленкообразующий компонент) Недостатком известных позитивных фоторезистов  вл етс  (Дефектность защитного рельефа и недостаточна  стойкость их пленок в щелочах.

: В предлагаемом фоторезисте CBeTO4yBciv вительный компонент-нафтохинондиазид : вз т в количестве 5-40% от веса пленкообразующего компонента, составленного из фенолформальдегидной и эпоксидной смол в весовом соотношении 2:1.

: Про вление органическим растворителем

экспонированного актиничным излучением рельефа осуществл ют после задубливани  экспонированной пленки.

Позитивное изображение с применением этр го фоторезиста получают следующим образом. Подложка с нанесённой пленкой фотора;зиста экспонируетс  актнничным светом через фотомаску, а затем подвергаетс  термообработке (задубливанию), в процессе которой происходит сшивка незасвеченных

участков пленки, котора  тер ет способность раствор тьс  в органы Ч1еских раство , рител х. Засвеченные участки пленки остаютс  практачески несшитыми и легко удал ютс  органическими растворител ми, что позвол ет получить позитивное изображение4 Позитивные фоторезисты данного состава характеризуютс  низким содержанием свете вствнтельного продукта, благодар  чему в растворител х типа циклогексанона и

г этилцеллозольва получают высоков зкую композицию. Дл  известных фоторезистов

неосуществимо, так как нельз  перевести в раствор большое количестио (вО% от веса пленкообразующего компонента) светочувствительного продукта, обладающего относительно невысокой растворимостью. Предлагаемый фоторезист характеризуетс 

. повышенной по сравнению с фоторезистами на основе фенолформальдегидных смол адгезией к стеклу. Разрещакнца  способность

3

предлагаемого фоторезиста составл ет не менее 200 линий/мм.

Пример 1. 14О мг эфира 1,2-нафтрхинондиазид- ( 2 )-5-сульфокислоты и фенолформальдегидной смолы к 1,4 г

смолы Э-ОО С типа .Фенокси раствор ют в 14 мл циклогексанона. Раствор фильтруют и нанос 5 методом центрифугировани  на алюминиевую пластинку. Пленку фоторезиста сушат при 9О°С в течение 15 экспонируют через фотомаску (штрихова  мирра. Затем провод т термообработку пленки при 140°С в течение 2О мин, про вл ют рельеф в циклогексаноне в течение 40 сек и трав т в 5%-ном водном растворе КОН в течение 1О мин. Получают изображение на алюминиевой пластине с минимальной шириной штриха 20 мкм,

Пример 2. 140 мг эфира 1,2-нафтахинондиазид- (2)-5-сульфокислоты и бисфенола и 1,4 г смолы Э-ОО С типа Фенокси раствор ют в 14 мл циклогексанона . Нанесение, обработку фоторезиста и травление подложки провод т, как в при- мере 1, .Получают элемент изображени  с шириной штриха 20 мкм.

Пример 3. Операции выполн ют в последовательности, указанной в примере 1, но с использованием в качестве свето- чувствительного продукта эфира 1,2-нафто- хинондиазид-(2 )-5-сульфокислоты и продукта конденсации бисфенола с формальдегидом (мол рное отношение 2:2). Получают элемент изображени  с шириной штриха 2О мкм.

Пример 4. Операции вылолн к г в последовательности, указанной в примере

1, но с использованием в качестве подложки обычного стекла. После травлени  на подложке получают минимальный элемент с шириной штриха в мкм.

Пример 5. 7,5 г эфира 1,2-нафтохинондиазид- ( )-5-сульфокислоты и фенолформальдегидной смолы, 12,5 г фенолформальдегидной смолы и 6,25 г эпоюсидной смолы Э-5О раствор ют в 13О мл диоксана. Раствор фильтруют и нанос т на стекл нную пластинку. Пленку фоторезиста сушат при 9О°С в течение 15 мин. и экспонируют через фотомаску (штрихова 

ирра). Затем провод т термообработку при в течение 20 мин, про вл ют рельеф в ацетоне в течение 30 сек. После равлени  на подложке получак т минимальный элемент с шириной штриха в 4,5 мк.

Предмет изобретени 

Позитивный фоторезист, состо щий из пленкообразующего компонента - смеси эпоксидной и фенолформальдегидной смол, светочувствительного компонента - производного нафтохинондиазида и растворител , отличающийс  тем, что с целью увеличени  щелочестойкости и уменьшени  дефектности зашитно1Х) рельефа, в его составе светочувствительный компонент вз т в ко;шчестве 5-4О% от веса пленкообразующего, составленного из фенолформальдегидной и эпоксидной смол в весовом соотношении 2:1.