SU433252A1 - Испаритель - Google Patents

Испаритель

Info

Publication number
SU433252A1
SU433252A1 SU1680384A SU1680384A SU433252A1 SU 433252 A1 SU433252 A1 SU 433252A1 SU 1680384 A SU1680384 A SU 1680384A SU 1680384 A SU1680384 A SU 1680384A SU 433252 A1 SU433252 A1 SU 433252A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
evaporator
sections
crucible
components
substrates
Prior art date
Application number
SU1680384A
Other languages
English (en)
Original Assignee
В. В. Горбачев, В. Г. Дзевалтовский , Г. П. Жариков Ордена Ленина институт кибернетики
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by В. В. Горбачев, В. Г. Дзевалтовский , Г. П. Жариков Ордена Ленина институт кибернетики filed Critical В. В. Горбачев, В. Г. Дзевалтовский , Г. П. Жариков Ордена Ленина институт кибернетики
Priority to SU1680384A priority Critical patent/SU433252A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU433252A1 publication Critical patent/SU433252A1/ru

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

1
Изобретение относитс  к электронной технике , а именно к устройствам дл  нанесени  покрытий в вакууме носредством термического испарени , и может найти .применение в технологии пленочных элементов электронных схем.
Известны испарители, содержащие тигель, разделенный перегородками из материала тигл  на коаксиально расположенные секции, число которых равно числу испар емых компонент , и нагреватели, расположенные в секци х тигл  и служащие дл  поддержани  заданной температуры испарени  дл  каждой компоненты .
Однако известные испарители не обеспечивают стабилизацию конденсата пленок заданного состава.
Целью изобретени   вл етс  обеспечение стабилизации конденсата пленок заданного состава.
Дл  этого поперечные сечени  секций тигл  выбраны в соответствии с требуемым соотношением парциальных давлений паров компонент .
На чертеже приведена схема конструкции испарител .
Испаритель содержит вакуумную камеру 1, манипул тор 2 с подложками а кассетах 3, имеющий отверстие-4-тЦл$.арохода..паров конденсируемого на подложках материала, заслонку 5, испаритель 6 с тиглем, разделенным коаксиальной перегородкой на секции 7 и 8, нагревателем 9 и термопарой 10.
Устройство работает следующим образом.
В секции 7 и 8 испарител  6 загружаютс  навески компонент испар емых материалов, например в секцию 7 загружаетс  л елезо, а в секцию 8 - никель. После откачки вакуумной камеры 1 испаритель 6 нагреваетс  нагревателем 9 до заданной температуры, контролируемой термопарой 10. Открываетс  заслонка 5 и поочередным продвижением кассет 3 над отверстием 4 в манипул торе 2 производитс  конденсаци  сплава на поверхности подложек.
Требуемое соотношение парциальных давлений паров компонент достигают за счет подбора соотношени  площадей испарени  (площадей горизонтального сечени  секций тигл ) и температуры испарени . При изменении температуры испарени  соотношение парциальных давлений паров компонент . измен етс  вследствие различи  в зависимости от скоростей испарени  компонент материалов от температуры .
Усредненное рассто ние от разных участков площадей испарени  каждой секции до поверхности подлол ек практически одинаково и, следовательно,-одинаково соотношение парциальных давлений паров компонент над разными участками поверхности подложек и одинаков состав конденсата по площади подложек .
При расположении испарител  б .под центром отверсти  4 в манипул торе 2, усредненный УГОЛ .падени  пучков паров компонент максимально приближен к нормали к поверхности лодложек. При этом «тени на кра х элементов, конденсируемых через трафарет, минимальны. Минимальна также и анизотропи , возникающа  в магнитных пленках вследствие косого угла падени  пучков пара на поверхность подложек.
Предмет изобретени 
Испаритель, содержащий тигель, разделенный .перегородками из .материала тигл  на коаксиально расположенные секции, число которых равно числу испар емых компонент, и нагреватели, служан;ие дл  поддержани  заданной температуры испарени , отличающийс  тем, что, с целью обеспечени  стабилизации конденсата пленок заданного состава, по.перечные сечени  секций тигл  выбраны в соответствии с требуемым соотношением парциальных давлений паров компонент.
SU1680384A 1971-07-16 1971-07-16 Испаритель SU433252A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1680384A SU433252A1 (ru) 1971-07-16 1971-07-16 Испаритель

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1680384A SU433252A1 (ru) 1971-07-16 1971-07-16 Испаритель

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU433252A1 true SU433252A1 (ru) 1974-06-25

Family

ID=20482624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1680384A SU433252A1 (ru) 1971-07-16 1971-07-16 Испаритель

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU433252A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2515875C2 (ru) * 2008-12-18 2014-05-20 Арселормитталь Франс Промышленный генератор пара для нанесения покрытия из сплава на металлическую полосу (ii)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2515875C2 (ru) * 2008-12-18 2014-05-20 Арселормитталь Франс Промышленный генератор пара для нанесения покрытия из сплава на металлическую полосу (ii)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3316386A (en) Multiple evaporation rate monitor and control
GB1449724A (en) Apparatus for evaporating liquids
SU433252A1 (ru) Испаритель
US2369764A (en) Apparatus for forming optical wedges
GB1089967A (en) Improvements in or relating to arrangements for the manufacture of electronic components comprising thin films
JPH0610118A (ja) 蒸着方法及び蒸発装置
GB2146046A (en) Evaporation cell
US3373050A (en) Deflecting particles in vacuum coating process
Kapff et al. Determination of Vapor Pressures Below 10− 3 mm Hg
SU371639A1 (ru) Всгсоюзнаи
JPS55110028A (en) Apparatus for vacuum evaporation having evaporation source for ion beam sputtering
KR890003961Y1 (ko) 직렬식 유기 용액 분리 장치
SU309416A1 (ru) УСТРОЙСТВО дл ВАКУУЛ1НОГО НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ
SU544711A1 (ru) Испаритель дл нанесени многокомпонентных пленок
SU910842A1 (ru) Испаритель
SU370463A1 (ru) Способ термодинамического контроля
Green et al. Chemical processes at clean {10 1 0} ZnO surfaces. Part 1.—Thermal production of surface defects
ES213384A1 (es) Un aparato para depositar material sobre una superficie por evaporacion en vacio
BALAKHONOVA et al. Effect of mass transfer on heat transfer during evaporation of a liquid from an exposed surface in a rarefied gas atmosphere(Liquid surface evaporation in rarefied gas atmosphere)
Palatnik et al. Preparation of PbTe films of variable composition
JPS54140998A (en) Production of magnetic memory medium
JPS6220865A (ja) 蒸発方法
JPS5943876A (ja) 蒸発源
Skal’skaya et al. 25. BAFFLES, TRAPS AND REFRIGERATION EQUIPMEN’I 7x
US2560573A (en) Drying of bulk products