SU1698919A1 - Полевой полупроводниковый прибор - Google Patents

Полевой полупроводниковый прибор Download PDF

Info

Publication number
SU1698919A1
SU1698919A1 SU894631939A SU4631939A SU1698919A1 SU 1698919 A1 SU1698919 A1 SU 1698919A1 SU 894631939 A SU894631939 A SU 894631939A SU 4631939 A SU4631939 A SU 4631939A SU 1698919 A1 SU1698919 A1 SU 1698919A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
junction
effect transistor
field
increase
source
Prior art date
Application number
SU894631939A
Other languages
English (en)
Inventor
Юрий Петрович Кузнецов
Владимир Васильевич Новиков
Эдуард Емельянович Пахомов
Владимир Нойехович Стрижевский
Original Assignee
Физико-Энергетический Институт Ан Латвсср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Физико-Энергетический Институт Ан Латвсср filed Critical Физико-Энергетический Институт Ан Латвсср
Priority to SU894631939A priority Critical patent/SU1698919A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1698919A1 publication Critical patent/SU1698919A1/ru

Links

Landscapes

  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к полупроводниковой электронике и может быть использовано в усилител х и генераторах несинусоидальной формы. Цель изобретени  повышение параметрической надежности полевого транзистора с управл кщкм р-п-первходом. Расположение дополнительного р-п-перехода на определенном рассто нии от истока позвол ет за счет генерации гор чих электронов при обратном напр жении на этом переходе увеличить ток стока без увеличени  напр жени  на электродах сгока и затвора. 1 ил.

Description

Изобретение относитс  к области полупроводниковой электроники и может быть использовано в усилител х и генераторах сигналов несинусоидальной (Ьормы.
Целью изобретени   вл етс  повышение параметрической надежности.
На чертеже приведена структура полевого прибора, разрез.
На подложке 1 р-типа проводимости толщиной 450-500 мкм расположен р эпитаксиальный слой 2 толщиной 7- 12 мкм, в котором расположена диффузионна  область 3 канала n-типа проводимости толщичой 1,0-1,2 мкм с поверхностным сопротивлением 200 - 2500 Ом на квадрат. В канале расположена область 4 и 5 истока, область стока и первый управл ющий р-п-пере- ход затвора 6. Вне области канала
расположен второй управгчющий р-п-пе- р еход 7.
Второй управл кл1 ;т р-п череход 7 расположен на расетод пш от области истока 4, превышающем ширину области пространственного зар да управл ющего p-n-перехода, во избежание ее короткого замыкани  с областью истока и невозможности получени  режима лавинного пробо .
Полупроводниковый полевой прибор работает следующем образом.
Области i и 5 к 6 подключаютс  к электронной схеме Сне пока а- на) в соответствии с функциональным назначением прибора, а к т,ополнитель- жму р-п-перйхоцу 7 подключают источник пробивного напр женир, с помощью которого управп ют мавинного пробо . Изменением тока „  ьичного
о со оо
CD
пробо  p-n-пейвхода 7 достигаетс  управление током канала полевого прибора без изменени  задающих режим напр жений на истоке, стоке и затворе . Наличие тока пробо  влечет за собой генерацию гор чих электронов, которые, распростран  сь по области 3, станов тс  компонентой тока стока прибора.
Гор чие электроны, испытыва  при своем движении сопротивление, меньшее чем холодные электроны, обусловливают эффект увеличени  тока стока. Таким образом, может быть скомпенсировано ухудшение дополнительных свойств полевого прибора при дестабилизирующих воздействи х и повышена параметрическа  надежность.
Полевой полупроводниковый прибор может быть изготовлен по данной планарно-эпитаксиальной технологии.

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Полевой полупроводниковый прибор, содержащий размещенные в области канала области истока, стока и управл ющие p-n-перёходы, отличающийс  тем, что, с целью повышени  параметрической надежности, один из управл ющих p-n-переходов размещен
    вне области канала на рассто нии
    от области истока, превышающем ширину области пространственного зар да, управл ющего р-п-перехода,
    J 4 В 5
    .-T. . A-r.
    Р п- r/Tj
    1
    гп
    п
    Р+
    . A
    Р п-
    гп
SU894631939A 1989-01-05 1989-01-05 Полевой полупроводниковый прибор SU1698919A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894631939A SU1698919A1 (ru) 1989-01-05 1989-01-05 Полевой полупроводниковый прибор

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU894631939A SU1698919A1 (ru) 1989-01-05 1989-01-05 Полевой полупроводниковый прибор

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1698919A1 true SU1698919A1 (ru) 1991-12-15

Family

ID=21420312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU894631939A SU1698919A1 (ru) 1989-01-05 1989-01-05 Полевой полупроводниковый прибор

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1698919A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Зи С.М. Физика полупроводниковых приборов. М.: Мир, т. 1, 1984Э с. 327, Авторск.ое свидетельство СССР № 1565313, кл. К 01 L 29/80, 1988. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7482238B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
EP0036887B1 (en) Semiconductor devices controlled by depletion regions
KR0137415B1 (ko) 트랜지스터 회로
US5554872A (en) Semiconductor device and method of increasing device breakdown voltage of semiconductor device
SE513283C2 (sv) MOS-transistorstruktur med utsträckt driftregion
Okamoto et al. First demonstration of a monolithic SiC power IC integrating a vertical MOSFET with a CMOS gate buffer
US5430323A (en) Injection control-type Schottky barrier rectifier
US5623151A (en) MOS-gated power semiconductor devices with conductivity modulation by positive feedback mechanism
US5686754A (en) Polysilicon field ring structure for power IC
Tang et al. Investigation into the third quadrant characteristics of silicon carbide MOSFET
KR20030019179A (ko) 절연 기판 상에 형성된 전계 효과 트랜지스터 및 그 집적회로
KR920003012B1 (ko) 쌍방향 제어정류 반도체장치
KR970072376A (ko) 절연기판상의 반도체 장치 및 그 보호 회로
SU1698919A1 (ru) Полевой полупроводниковый прибор
US20020093052A1 (en) Semiconductor device
US5298770A (en) Power switching MOS transistor
US10084441B2 (en) Electronic switching and reverse polarity protection circuit
US6995453B2 (en) High voltage integrated circuit including bipolar transistor within high voltage island area
US3868718A (en) Field effect transistor having a pair of gate regions
KR100463367B1 (ko) 반도체장치
JP3199857B2 (ja) 伝導度変調型mosfet
JPS62290167A (ja) 半導体装置
KR100510436B1 (ko) 수평형 절연 게이트 바이폴라 트랜지스터
JPH0673377B2 (ja) 入力保護回路
WO2024047353A1 (en) A novel transistor device