SE466914B - Foerfarande foer framstaellning av svart titannitrid - Google Patents
Foerfarande foer framstaellning av svart titannitridInfo
- Publication number
- SE466914B SE466914B SE8901417A SE8901417A SE466914B SE 466914 B SE466914 B SE 466914B SE 8901417 A SE8901417 A SE 8901417A SE 8901417 A SE8901417 A SE 8901417A SE 466914 B SE466914 B SE 466914B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- reactor
- plasma
- titanium
- titanium halide
- direct current
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 title 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 26
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical group Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 17
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- -1 titanium halide Chemical class 0.000 claims description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 14
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 claims description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 19
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 19
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000002482 conductive additive Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229940058401 polytetrafluoroethylene Drugs 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQVZOORKDNCGCK-UHFFFAOYSA-N 2-[(2,4-dichlorophenyl)methyl]-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC(Cl)=CC=2)Cl)=C1 HQVZOORKDNCGCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010024453 Ligament sprain Diseases 0.000 description 1
- 208000010040 Sprains and Strains Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000012258 culturing Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000001420 photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/082—Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
- C01B21/0821—Oxynitrides of metals, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/076—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with titanium or zirconium or hafnium
- C01B21/0763—Preparation from titanium, zirconium or hafnium halides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
Description
Åse
10
15
20
30
A
l
1
exakt överensstämma med den kemiska sammansättningen för
titannitrid, och i realiteten kan dessa mängder variera inom
avsevärda gränser. Normalt kan ifrågavarande mängder motsvara
titannitrider med den empiriska formeln TixNY, enligt vilken
det molära förhållandet mellan x och y ligger inom intervallet
0,85 till 1,25 och företrädesvis 0,90 till 1,20.
Det svarta pulvret innehåller syre, såsom torde framgå
av sammanhanget, i en mängd inom intervallet 1 till 10 vikt-
procent av produktens totalvikt. I vissa materialprover, som
undersökts genom ytanalys (t ex röntgenbaserad fotoelektron-
spektroskopi) har det visat sig att syret övervägande befinner
sig pà titannitridpartiklarnas yta, varvid dock röntgendiff-
raktionsanalys icke indikerade förekomst av någon separat
titanoxidfas.
Mängden syre, titan och kväve är relaterad till vad som
erfordras i anslutning till produktens applikationsområde, och
detta gäller även speciellt varje specifik partikeldimension
hos produkten och denna aspekt belyses mera ingående i be-
skrivningen som följer.
Enligt uppfinningsföremàlet innefattas även ett förfa-
rande för framställning av svart titannitrid i form av att man
upphettar ammoniak och titanhalogenid till en förbestämd
reaktionstemperatur i anslutning till ett elektriskt plasma,
som bildas i ett icke oxiderande gasflöde med utgångspunkt
från en urladdning av likströmselektricitet mellan ett elekt-
rodpar, varvid den upphettade gasen tillföres via ett in-
loppsmunstycke in i en reaktor, och denna reaktor har sådan
konstruktion och sådant arbetssätt att cirkulation igàngsättes
hos det gasformiga materialet inuti reaktorn, varigenom recir-
kulationsförhàllandet (RR) överstiger 2,5, och det svarta
titannitridpulvret kan tillvaratas och enligt metoden definie-
ras recirkulationsförhållandet enligt angiven formel
RR _ 0,425 uns [D] 1/2 -o,42s
varan vn
varvid
RR recirkulationsförhallande
10
15
20
25
30
35
a A 466 914
MN = gasströmmens massflödeshastighet via inloppsmunstycket
R = inre radien för den reaktor inom vilken flöde äger rum
fràn munstycket
M = massflödeshastighet vid avstàndet 4R nedströms inlopps-
munstycket
Rn = radien för inloppsmunstyoket
Dn = densiteten för det gasflöde som passerar inloppsmun-
stycket
D = densiteten för gaser inom reaktorn vid avståndet 4R ned-
ströms inloppsmunstycket.
I sådana fall då reaktorn icke uppvisar konstant inre
radie ställer sig formeln fortfarande tillämpbar om radien R
approximeras till medelvärde.
Likaså kan en approximation vidtas beträffande densite-
terna som beräknas genom att reaktioner och dissociering
försummas.
Normalt ligger halten titanhalogenid utan att man fäster
avseende vid reaktion eller dissociering inom intervallet 5
till 30 molprocent, företrädesvis 7 till 25 molprooent av det
totala gasflödet.
Uppbyggnaden för reaktorn i diagramform framgår genom de
bifogade ritningarna av fig. 1. Enligt ritningen är reaktorn 1
cylindrisk samt uppvisar konstant inre radie (R) i längd-
riktningen. Det uppvärmda gasflödet tillföres via inloppet 13
genom munstycket 2 med inre radien Rn. Ett antal inlopp 4 är
avsedda för reaktanterna. Genom diagrammet framgår en punkt X .
vid avståndet 4 reaktorradier i reaktorns längdriktning från
inloppsmunstycket jämte en anordning 10 för att separera
produkten som släppas ut vid uttaget 14.
Reaktanterna uppvärmes till lämplig temperatur genom ett
gasflöde i form av icke oxiderande gas som inertgas, t ex
argon eller kväve eller väte. Denna gas upphettas genom att
4
UI
10
20
30
6
6
914
den får passera mellan ett elektrodpar vilket försörjes av
likström med lämplig effektniva, vilken är tillräcklig för att
i det därigenom erhållna gasplasmat tillföra reaktorn till-
räcklig värmeenergi för uppvärmning av reaktanterna till
erforderlig reaktionstemperatur. Den energi som överföres till
gasplasmat vilket inmatas via inloppsmunstycket är beroende av
ett flertal olika parametrar och det ställer sig önskvärt att
upprätta en nettoeffekt i plasmat av 50 till 500 kcal per
minut per mol titanahlogenid.
Spänningar och strömstyrkor kan användas inom ett brett
intervall. Det ställer sig dock i ett stort antal fall lämp-
ligt att den tillförda likströmsspänningen ligger inom ett
intervall mellan 25 och 50 V för argon samt mellan 90 och 250
V, företrädesvis mellan 90 och 220 V för kväve eller väte samt
att strömstyrkorna ligger mellan 200 ampere och 600 ampere för
argon och mellan 80 ampere och 250 ampere för kväve och väte.
Reaktanterna innefattar titanhalogenid och ammoniak.
Halogeniderna är exempelvis fluorider och klorider, varvid
titantetraklorid föredras. Reaktanterna tillföres separat i
reaktorn vid gasplasmazonen via ett eller flera inlopp. Den
använda flödeshastigheten är relaterad till den till gasplas-
mat överförda effekten, varvid dock hastigheterna exempelvis
kan variera mellan 0,1 och 5,0 mol per minut för titanhaloge-
nid och mellan 0,2 och 15,0 per minut för ammoniak.
Reaktorn är så konstruerad och arbetar under sådana
betingelser att recirkulationsförhàllandet enligt tidigare
definition uppvisar ett värde av minst 2,5. Förhållandet
överskrider normalt icke 10, varvid ett intervall motsvarande
värden mellan 3 och 9 föredras.
Som torde framgå av sammanhanget är den exakta samman-
sättning som eftersträvas hos produkten enligt uppfinningsfö-
remalet i viss man sammankopplad med den färdiga produktens
användningsområde, och produkten kan innefatta andra element
än titan, kväve och syre. Reaktanterna kan innefatta införli-
vande av andra metall- eller icke metallhalogenider, t ex
kiselklorid, borklorid, zirkoniumklorid, aluminiumklorid eller
tennklorid allt efter behov. Materialen kan direkt tillföras i
reaktorn eller förblandas med en eller flera av reaktanterna.
Efter reaktion kan föreliggande produkt avlägsnas fràn
10
15
20
25
30
35
s 466 914
gasflödet med hjälp av någon lämplig filtreringsmetod, an-
tingen före eller efter nedkylning. Filter i form av pàsfor-
migt dukmaterial i likhet med förvärmt keramiskt filter kan
vid behov användas. En skrubber med tillförd fluidum kan vid
behov användas, och det har lägligt nog befunnits att tvätt-
ning av gasflödet med klorvätesyra som innehåller upp till 20
% HCl är ett lämpligt tillvägagångssätt. '
Speciell apparatur för att genomföra föreliggande förfa-
rande kommer att beskrivas som följer med utgàngspunkt fràn
exemplen enbart i anslutning till bifogad ritning enligt vil-
ken fig. 2 utgör en del av en tvärsnittsvy i diagramform av en
reaktor och en första nedkylningssektion, och fig. 3 är en vy
i diagramform av apparaturen enligt fig. 2 jämte vidhängande
skrubberanläggningar. Som framgår av fig. 2 och 3 upphettas
reaktorn 1 med hjälp av flamformigt plasma fràn munstycket 2
med utgàngdspunkt från en plasmakanon genom vilken ickeoxide-
rande gas strömmar. Reaktanterna (t ex titantetraklorid, och
ammoniak) tillföras en första reaktionszon 3 via flamringar 4,
vilka är tillverkade av nickel.
Hetgaserna inmatas därefter i en ytterligare reaktions-
zon som är tillverkad av cement med hög aluminiumoxidhalt 5
och isolerad genom ett lager med isolercement 6, varefter de
utströmmar i en första nedkylningszon 7, som är tillverkad av
stål och nedkyld genom finfördelade vattenstràlar 8.
I samband med att reaktanterna lämnar nedkylningszonen 7
undergàr de avkylning med kväve med hjälp av en perforerad
avkylningsring Q av aluminium, och de strömmar in i en upp-
sättning med filter 10, vari produkten separeras från avgaser-
na. Sura avgaser (t ex HCl) avlägsnas med tvà skrubberanord-
ningar 11 före utsläpp i atmosfären. Flödet genom skrubberan-
läggningen 11 upprätthàlles genom ett luftblandningsrör 12.
Föreliggande produkter kan användas inom talrika
tillämpningar. Produkten kan användas som ett svart pigment
för bläck, färger, plaster och kosmetika samt även i form av
en elektriskt ledande tillsats för dessa produkter med appli-
kationer inom elektromagnetisk interferensavakärmning eller i
samband med antistatiska applikationer. Produkten kan även
användas som elektriskt ledande tillsats för keramiska mate-
rial baserade pà kiselnitrid, zirkoniumoxid eller aluminium-
4
10
15
20
25
30
35
914 6
oxid för att underlätta bearbetning i anslutning till elekt-
risk urladdning eller vid framställning av värmelement. Pro-
dukten resulterar även i förbättrad hårdhet och hållfasthet
hos sintrade keramer, t ex karbider, vilka kan användas som
skärverktyg. Produkterna kan även användas för beläggning av
andra komponenter, t ex extrusionsmunstycken för att förbättra
nötningsbeständigheten samt även då man önskar uppnå dekorati-
va beläggningar pà olika föremål. Produkterna kan även använ-
das som rengöringsmedel med slipverkan samt i form av antista-
tiska tillsatser för magnetiska inspelningsband. Produkterna
kan även sintras utan att tillsatsmedel användes, varigenom
man erhåller keramiska föremål med guldliknande lysteryta
vilka ställer sig lämpliga i samband med smycketillverkning
eller ornamentering. Sintrade stycken kan användas som elekt-
roder eller förstoftningstargetar och kan användas vid fram-
ställning av guldliknande beläggningar med lysteryta.
I sådana fall då produkten användes i form av ledande
tillsats ställer det sig fördelaktigt om produkten innehåller
1 till 4 viktprocent syre samt uppvisar en specifik yta av 10
till 35 m2 per gram, varvid speciellt föredras 1,5 till 3
viktprocent syre samt en specifik yta av 15 till 30 m2 per
gram.
Om produkten skall användas i form av svart pigment
eller i keramer ställer det sig fördelaktigt om produkten
innehåller syre i en mängd av 4 till 10 viktprocent, speciellt
mellan 6 och 10 viktprocent samt uppvisar en specifik yta
mellan 35 och 80, företrädesvis 50 coh 80 m3 per gram.
Uppfinningen åskådliggöres genom exemplen som följer.
De värden för syrehalten som anges avser sådana värden
som bestämmes med utgångspunkt från en nyligen framställd
produdkt. Ytterligare oxidation och/eller hydrolys kan inträf-
fa vid förlängd kontakt med luft och/eller vatten, speciellt
vid förhöjda temperaturer.
Exempel 1
Ett likströmsbaserat plasma upprättades i argon med
flödeshastigheten 3,4 mol/min via ett elektrodpar som försörj-
des med 39,5 volt och 525 ampere likström. Då reaktorn som var
belägen under plasmainloppet hade temperaturstabiliserats
inmatades titantetraklorid med hastigheten 1,0 mol per minut
10
20
30
35
w 4-66 914
samt ammoniakgas med 3,5 mol per minut och vid den flamzon som
omslöts av den längst ut belägna delen av plasmat. Genom
plasmat överfördes värme till reaktorn i mängden per tidsenhet
145 kcal per minut (10,2 kwatt). Titantetrakloridhalten var
hög <12,0 X) och de olika variablerna i ekvationen som lag
till grund för recirkulationsförhàllandet uppvisade värdena
Mn = 136 g/min; M = 402 g/min; Rn = 3 mm; R = 55 mm; Dn =
s,sx1o“5gcm“3 och D = a,?x1o'4 gem-3.
Recirkulationsförhàllandet var 6,4.
Produkten avskildes från gasflödet genom filtrering i en
skrubber med vattenhaltig HCI (15 %) samt hade den specifika
ytan (BET) 23 m2 per gram jämte syrehalten 1,7 viktprocent.
Den pà angivet sätt framställda produkten ställer sig
mera föredelaktig som elektrisk ledande tillsats jämfört med
titannitridpulver, vilka framställts enligt andra tillväga-
gangssätt, såsom framgår av jämförelsen som följer.
Pulver med utgångspunkt från exempel 1 jämfördes med
pulvret A vilket framställdes genom nitridering av titanmetall
(specifik yta 3 m2 per gram, syrehalt 0,6 %). Värdera pulvret
med tillsatshalten 25 viktprocent maldes i kulkvarn med kisel-
nitrid och magnesiumoxid (1 %> i propan-2-ol under 2 timmar.
Blandningarna torkades i luft och varmpressades vid 20 MPa
kväve och 1?O0°C under 15 minuter.
Den elektriska resistiviteten för de sintrade material-
styckena befanns vara 1,6x109 ohmmeter för det 25 procentiga
pulvret A och 4,4x10"2 ohmmeter för den 25-procentiga produk-
ten enligt exempel 1.
Produkten enligt exempel 1 ställer sig även mera fördel-
aktig jämfört med de titannitrider som framställts enligt
andra procedurer därigenom att kompakta keramiska formproduk-
ter kan framställas oberoende av om varmpressning eller sint-
ring utan tryck användes.
Pulvret enligt exempel 1 och pulvret A varmpressades
utan bindemedel eller sintringshjälpmedel vid 20 MPa och
1400°C. Pulvret enligt exempel resulterade i en densitet
överstigande 99 % inom 2,5 minuter under det att pulvret A
efter 6 minuter upphörde att förtätas vid en densitet som
endast uppgick till 80 %.
Sintring utan tryck i kväve vid 1600°C under 30 minuter
10
15
20
30
35
ledde till liknande resultat. Pulvret enligt exempel 1 resul-
terade i en keramisk formad produkt vars densitet överstiger
99 X samt med ljus guldfärgad lysteryta under det att pulvret
A resulterade i ett materialstycke med en densitet av endast
65 % och som var mörkbrunt till färgen.
Exempel 2
Exempel 1 upprepades, varvid dock ett plasma användes
med utgångspunkt fràn kväve, och värme tillfördes reaktorn i
en mängd av 160 kcal per minut (11,2 kwatt). Titantetraklori-
dens halt var 8,5 2. De variabler som användes med avseende pà
att fastställa recirkulationsförhállandet uppvisade värden som
Mn = 92 g/min, M = 454 g/min, Rn = Dn
= 6,1x10'5 gcm"3 samt D = 2,8x10°4 gcm"3.
följer: 3 mm, R = 57 mm,
Recirkulationsförhällandet var 3,1.
Den skrubberfilteruppsamlade produkten hade en specifik
yta (BET) av 39 m2 per gram samt syrehalten 5,7 viktprocent.
Exempel 3
En ytterigare undersökning vidtogs därigenom att ett
likströmsbaserat plasma upprättades i argon samt värmeenergin
94 kcal per minut (6,6 kwatt) tillfördes reaktorn. Titantetra-
klorid med hastigheten 0,5 mol per minut och ammoniakgas med
hastighet 1,0 mol per minut inmatades vid zonen för plasmats
längst ut belägna del. Titantetrakloridhalten var 10,4 % och
värdena för de variabler som lag till grund för recirkula-
116 g/min, M = 244
25 mm, nn = Lsxio-S gem* och D =
tionsförhàllandet var som följer: Mn =
g/min, Rn = R =
3,5x10'4 gcm'3.
3 mm,
Recirkulationsförhàllandet var 3,3.
Produkten tillvaratogs i ett pàsformigt dukfilter fram-
ställt av polytetrafluoreten och uppvisar den specifika ytan
(BET) 76 m2 per gram samt innehåller 7,5 viktprocent syre.
Exempel 4
Ett likströmsplasma upprättades i argon och man tillför-
de värmeenergin 184 kcal/min (12,9 kwatt) i reaktorn. Titan-
tetraklorid med hastigheten 1,6 mol per minut och ammoniakgas
med hastigheten 5 mol per minut inmatades vid zonen för plas-
mats längst ut belägna del. Titantetrakloridhalten var 13,2 X
och värdena för de variabler som låg till grund för recirkula-
tionsförhàllandet var som följer: Mn = 204 g/min, M = 609
UI
10
20
30
9 466 914
g/min, Rn = 3 mm, R = ss mm, nn = s,5x1o*5 gcm'3 och D =
3,6x1O'4 gcm"3.
Recirkulationsförhállandet var 5,7.
Produkten, som tillvaratogs i ett skrubberfilter vilket
innehöll 10 % HCl, uppvisade den specifika ytan (BET) 17 m2
per gram och innehöll 2,8 viktprocent syre.
Exempel 5
Ett likströmsplasma upprättades i kväve, varvid värme-
energin 333 kcal/min (23,3 kwatt) tillfördes reaktorn. Titan-
tetraklorid med hastigheten 1,7 mol per minut och ammoniakgas
med hastighet 3 mol per minut inmatades vid zonen för den
längst ut belägna plasmadelen. Titantetrakloridhalten var 15,4
% och värdena för de variabler som làg till grund för recirku-
lationsförhallandet var som följer: Mn = 88 g/min, M = 552
g/min, am = 3 mm, R = 75 mm, nn = 3,3x1o"5 gcm'3 och D =
a,2x1o“4 gcm“3.
Recirkulationsförhàllandet var 4,8.
Produkten uppsamlades i ett skrubberfilter som innehöll
20 % HCl, varvid den specifika ytan (EET) uppgick till 23 m2
per gram och svrehalten var 2,8 viktprocent.
Exempel 6
Ett likströmsplasma upprättades i kväve, varvid värme-
energin 630 kcal/min (44,1 kwatt) tillfördes reaktorn. Titan-
tetraklorid med hastigheten 1,4 mol per minut och ammonikagas
med hastighet 4 mol per minut inmatades vid området för den
längst ut belägna plasmazonen.
Titantetrakloridhalten var 12,1 X och värdena för de
variabler som làg till grund för recirkulationsförhàllandet
var som följer: Mn = 146 g/min, M = 508 g/min, Rn = B mm, R =
100 nmn Dn = 3,0x10"5 gcm'3 och D = 2,7x10"4 gcm'3.
Recirkulationsförhàllandet var 4,1.
Produkten tillvaratogs i ett skrubberfilter med 10 Z
Cl, varvid den specifika ytan (EET) uppgick till 21 m2 per
gram samt syrehalten var 3,6 viktprocent.
Exempel 7
Ett likströmsplasma upprättades i kväve, varvid värme-
energin 290 kcal/min (20,3 kwatt) tillfördes reaktorn. Titan-
tetraklorid med hastigheten 1,4 mol per minut och ammoniak med
hastighet 3 mol per minut inmatades vid omrâdet för plasmats
G1
10
15
20
30
35
466 914 m
längst ut belägna del. Titantetrakloridhalten var 18,9 % och
värdena för de variabler som lag till grund för recirkula-
tionsförhállandet var som följer: Mn = 56 g/min, M = 481
g/min, Rn = e mm, R = 100 mm, Du = 2,ex1o"5 gem* och D =
4,6x1o'4 gem-Ä
Recirkulationsförhallandet var 2,7.
Produkten, som uppsamlades med ett skrubberfilter som
innehöll 10 % HCl, uppvisade den specifika ytan (BET) 38 m2
per gram och innehöll 5,9 viktprocent syre.
Exempel 8 D
Ett likströmsplasma upprättades i argon och värmeenergin
156 kcal/min (10,9 kwatt> tillfördes reaktorn. Titantetra-
klorid med hastigheten 0,9 mol per minut, kiseltetraklorid med
hastigheten 0,1 mol per minut och ammoniak med hastighet 3,5
mol per minut inmatades vid omradet för plasmats längst ut
belägna del. Halten för tetrakloriderna var 10,3 molprocent,
och värdena för de variabler som lag till grund för recirkula-
tionsförhàllandet var som följer: Mn = 208 g/min, M = 479
g/min, Rn = 3 mm, R = ss mm, on = 7,sx1o'5 gem* och n =
4,ex1c'4 gcm'3.
Recirkulationsförhallandet var 7,9.
Produkten uppsamlades i ett skrubberfilter som innehöll
10 % HCl samt befanns uppvisa den specifika ytan (EET) 26 m2
per gram och visade sig innehålla 3,1 viktprocent syre jämte
2,9 viktprocent kisel.
Genom exemplen som följer anges processförlopp som
ligger utom ramen för de angivna parametrarna, och de belyser
nödvändigheten av arbetsförlopp som ligger inom parametrarna
enligt föreliggande uppfinning för att därigenom skall erhål-
las den eftersträvade och säkerställda fina partikeldimensio-
nen jämte sådan syremängd som ligger inom de klart angivna
gränsvärdena.
Exempel 9 (Jämförelseförsök)
Ett likströmsplasma upprättades i argon, varvid värme-
energi i en mängd av 41 kcal/min (9,9 kwatt) tillfördes reak-
torn. Titantetraklorid med hastigheten 0,8 mol per minut och
ammoniakgas med hastighet 1,6 mol per minut inmatades vid
omradet för plasmats längst ut belägna del. Titantetrakloriden
var 6,0 X och värdena för de variabler som låg till grund för
10
15
20
1, 466 914
recirkulationsförhàllandet var som följer: Mn = 92, g/min, M =
615 g/min, Rn = 3 mm, R = 25 mm, Dn = 3,9x10_5 gcm"3 och D =
4,0x10'4gcm"3.
Recirkulationsförhàllandet var 1,3.
Produkten som tillvaratogs i ett pàsfilter av polytetra-
fluoretenduk uppvisade den specifika ytan (BET) 99 m2 per gram
och innehöll 13,5 viktprocent syre.
Vid sintring av denna produkt utan tryck i kväve vid
1600°C under 30 minuter erhölls ett format material med en
densitet av endast 45 X och som var svagt mörktbrunfärgat.
Exempel 10 (Jämförelseförsök)
Ett likströmsplasma upprättades i argon, varvid värme-
energi tillfördes i en mängd av 110 kcal/min (7,7 kwatt) i
reaktorn. Titantetraklorid med hastigheten 0,5 mol per minut
och ammoniakgas med hastigheten 1,0 mol per minut inmatades
vid omrâdet för plasmats längst ut belägna del. Titantetra-
kloridhalten var 5,5 % och värdena för de variabler som lag
till grund för recirkulationsförhàllandet var som följer: Mn =
104 g/min, M = 416 g/min, Rn = 3 mm, R = 25 mm, Dn = 5,5x10"5
gcm“3 och D = 4,5x10'4 gcm'3.
Recirkulationsförhállandet var 2,1.
Produkten, som tillvaratogs i pàsfilter av polytetra-
fluoroetenduk uppvisade den specifika ytan (BET) 71 m2 per
gram och innehöll 10,3 viktprocent syre.
Claims (11)
1. Förfarande för framställning av svart titannitrid genom reaktion mellan ammoniak och en titanhalogenid, k ä n n e t e c k n a t av att ammoniaken och titanhalogeniden upphettas till förbestämd reaktionstemperatur med hjälp av elektriskt plasma som bildas i ett flöde med icke oxiderande gas och som alstras genom urladdning med likströmselektricitet mellan ett elektrodpar, varvid den upphettade gasen via ett in- loppsmunstycke inmatas i en reaktor, och reaktorn har sådan uppbyggnad och sådant arbetssätt att cirkulation av det gas- formiga materialet förorsakas i reaktorn, varigenom recirkula- tionsförhållandet (RR) blir större än 2,5, samt att det svarta titannitridpulvret tillvaratas, varvid förfarandet baseras på ett recirkulationsförhållande som definieras enligt angiven formel: RR. = V2» _0425- hLRn 1Dn , varvid Mn = gasflödets massflöde genom inloppsmunstycket R = den inre radien för reaktorn med flöde från munstycket M = massflöde vid avståndet 4R nedströms inlopps- munstycket Rn = inloppsmunstyckets radie Dn = densiteten för det gasflöde som passerar genom inloppsmunstycket _ . D = densitet för gaser inom reaktorn vid avståndet 4R nedströms inloppsmunstycket
2. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att halten för titanhalogeniden utan hänsyn tagen till reaktio- ner eller dissociering ligger inom intervallet 5 till 30 molprocent med avseende på det totala gasflödet.
3. Förfarande enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att titanhalogenid ligger inom intervallet 7 till 25 %.
4. Förfarande enligt något av kraven 1, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n a t av att titanhalogeniden är titantetra- klorid.
5. Förfarande enligt kravl, k ä n n e t e c k n a t av f! 10 15 20 466 914 /2 att den nettoeffekt som erhålles i plasmat är mellan 50 och 500 kcal per minut per mol titanhalogenid.
6. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att den icke oxiderande gasen är argon och att plasmat alstras genom en likströmmsspänning av 25 till 50 volt samt strömstyr- kan 200 till 600 ampere.
7. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att den icke oxiderande gasen är kväve eller väte och att plasmat alstras genom en likströmsspänning mellan 90 och 250 volt och en strömstyrka mellan 80 och 250 ampere.
8. Förfarande enligt krav 7, k ä n_n e t e c k n a t av att likströmsspänningen är 90 till 220 volt.
9. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att massflödeshastigheten för titanhalogenid är mellan 0,1 och 5,0 mol per minut.
10. Förfarande enligt krav 1, k ä n.n e t e c k n a t av att recirkulationsförhållandet (RR) icke överstiger 10.
11. Förfarande enligt krav 11, k ä n n e t e c k n a t av att recirkulationsförhållandet (RR) är 3 till 9.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB888809651A GB8809651D0 (en) | 1988-04-23 | 1988-04-23 | Nitrogen compounds |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE8901417D0 SE8901417D0 (sv) | 1989-04-19 |
SE8901417L SE8901417L (sv) | 1989-10-24 |
SE466914B true SE466914B (sv) | 1992-04-27 |
Family
ID=10635738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE8901417A SE466914B (sv) | 1988-04-23 | 1989-04-19 | Foerfarande foer framstaellning av svart titannitrid |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5002646A (sv) |
EP (1) | EP0340907B1 (sv) |
JP (1) | JPH0222110A (sv) |
AU (1) | AU611274B2 (sv) |
CH (1) | CH678522A5 (sv) |
DE (1) | DE3913200A1 (sv) |
FR (1) | FR2630427B1 (sv) |
GB (2) | GB8809651D0 (sv) |
IT (1) | IT1231757B (sv) |
SE (1) | SE466914B (sv) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8913106D0 (en) * | 1989-06-07 | 1989-07-26 | Tioxide Group Plc | Production of nitrogen compounds |
US5137542A (en) * | 1990-08-08 | 1992-08-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive printed with an electrically conductive ink |
US5118488A (en) * | 1990-08-28 | 1992-06-02 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Process for making whiskers, fibers and flakes of transition metal compounds |
US5188979A (en) * | 1991-08-26 | 1993-02-23 | Motorola Inc. | Method for forming a nitride layer using preheated ammonia |
DE4214719C2 (de) * | 1992-05-04 | 1995-02-02 | Starck H C Gmbh Co Kg | Verfahren zur Herstellung feinteiliger Metall- und Keramikpulver |
GB9306802D0 (en) * | 1993-04-01 | 1993-05-26 | Tioxide Specialties Ltd | Process for the production of silicon nitride |
US5405515A (en) * | 1993-08-17 | 1995-04-11 | Fang; Pao-Hsien | Method and apparatus for production of a carbon nitride |
JPH08170174A (ja) * | 1994-12-14 | 1996-07-02 | Nec Corp | TiN膜の形成方法 |
US5749937A (en) * | 1995-03-14 | 1998-05-12 | Lockheed Idaho Technologies Company | Fast quench reactor and method |
US7576296B2 (en) | 1995-03-14 | 2009-08-18 | Battelle Energy Alliance, Llc | Thermal synthesis apparatus |
WO2001046067A1 (en) | 1999-12-21 | 2001-06-28 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Hydrogen and elemental carbon production from natural gas and other hydrocarbons |
US7354561B2 (en) | 2004-11-17 | 2008-04-08 | Battelle Energy Alliance, Llc | Chemical reactor and method for chemically converting a first material into a second material |
TW200631898A (en) * | 2004-12-28 | 2006-09-16 | Ishihara Sangyo Kaisha | Black-type titanium oxynitride |
JP5095939B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2012-12-12 | 石原産業株式会社 | 黒色系酸窒化チタン |
WO2006070794A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 表示素子用黒色樹脂組成物、及び表示素子用部材 |
KR101485436B1 (ko) | 2007-03-20 | 2015-01-23 | 도레이 카부시키가이샤 | 흑색 수지 조성물, 수지 블랙 매트릭스, 컬러 필터 및 액정표시장치 |
ATE512118T1 (de) * | 2007-11-15 | 2011-06-15 | Umicore Nv | Verfahren zur herstellung von rutiltitandioxidpulver |
JP4945544B2 (ja) * | 2008-11-04 | 2012-06-06 | 株式会社ホンダアクセス | 車両部品の装飾構造 |
US8591821B2 (en) | 2009-04-23 | 2013-11-26 | Battelle Energy Alliance, Llc | Combustion flame-plasma hybrid reactor systems, and chemical reactant sources |
TWI483999B (zh) * | 2009-06-15 | 2015-05-11 | Toray Industries | 黑色複合微粒子、黑色樹脂組成物、彩色濾光片基板及液晶顯示裝置 |
WO2018061644A1 (ja) * | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 金属窒化物含有粒子、分散組成物、硬化性組成物、硬化膜、及びそれらの製造方法、並びにカラーフィルタ、固体撮像素子、固体撮像装置、赤外線センサ |
JP6667422B2 (ja) * | 2016-11-22 | 2020-03-18 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 黒色膜形成用混合粉末及びその製造方法 |
CN108217612A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-29 | 攀枝花学院 | 制备球形氮化钛粉末的方法及设备 |
KR102453516B1 (ko) | 2018-03-13 | 2022-10-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화막의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2413778A (en) * | 1944-10-14 | 1947-01-07 | Du Pont | Production of titanium nitride |
GB787516A (en) * | 1955-02-24 | 1957-12-11 | British Titan Products | Improvements in or relating to the preparation of titanium nitride |
DE1066549B (de) * | 1957-07-17 | 1959-10-08 | Societe Anonyme des Manufactures des Glaces et Produits Chimiques de Saint-Gobain, Chauny &. Cirey, Paris | Verfahren zur Herstellung von chemischen Verbindungen von hohem Reinheitsgrad |
DE1160831B (de) * | 1962-04-21 | 1964-01-09 | Knapsack Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Titannitrid |
FR1359434A (fr) * | 1962-04-21 | 1964-04-24 | Knapsack Ag | Procédé et appareil pour la préparation du nitrure de titane |
GB1199811A (en) * | 1968-03-09 | 1970-07-22 | British Titan Products | Production of Nitrogen-Containing Compounds |
US3591338A (en) * | 1968-06-05 | 1971-07-06 | Du Pont | Preparation of metal nitrides |
JPS4945079B1 (sv) * | 1969-01-07 | 1974-12-02 | ||
US4022872A (en) * | 1975-11-12 | 1977-05-10 | Ppg Industries, Inc. | Process for preparing finely-divided refractory powders |
US4080431A (en) * | 1976-12-20 | 1978-03-21 | Ppg Industries, Inc. | Recovery of refractory hard metal powder product |
US4851206A (en) * | 1981-07-15 | 1989-07-25 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University, Stanford University | Methods and compostions involving high specific surface area carbides and nitrides |
JPS5976802A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-02 | Japan Metals & Chem Co Ltd | 気相反応法による窒化チタン超微粉体の製造方法 |
JPS6051616A (ja) * | 1983-08-30 | 1985-03-23 | Mitsubishi Metal Corp | 微細な有色粉末の製法 |
GB2167395B (en) * | 1984-11-23 | 1989-05-17 | Mitsubishi Metal Corp | Black pigment |
FR2591412A1 (fr) * | 1985-12-10 | 1987-06-12 | Air Liquide | Procede de fabrication de poudres et reacteur etanche a plasma micro-onde |
JPS62260864A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-13 | Mitsubishi Metal Corp | 黒色顔料 |
US4929433A (en) * | 1987-10-22 | 1990-05-29 | Alfred University | Method for the preparation of sinterable nitrides |
-
1988
- 1988-04-23 GB GB888809651A patent/GB8809651D0/en active Pending
-
1989
- 1989-03-31 GB GB8907258A patent/GB2217699B/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-03 EP EP89303247A patent/EP0340907B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-04 CH CH1236/89A patent/CH678522A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1989-04-05 AU AU32460/89A patent/AU611274B2/en not_active Ceased
- 1989-04-19 IT IT8947867A patent/IT1231757B/it active
- 1989-04-19 SE SE8901417A patent/SE466914B/sv not_active IP Right Cessation
- 1989-04-20 US US07/340,790 patent/US5002646A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-21 JP JP1103280A patent/JPH0222110A/ja active Pending
- 1989-04-21 FR FR898905370A patent/FR2630427B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-21 DE DE3913200A patent/DE3913200A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE8901417L (sv) | 1989-10-24 |
GB2217699A (en) | 1989-11-01 |
SE8901417D0 (sv) | 1989-04-19 |
FR2630427B1 (fr) | 1992-12-11 |
EP0340907A1 (en) | 1989-11-08 |
AU3246089A (en) | 1989-10-26 |
AU611274B2 (en) | 1991-06-06 |
DE3913200A1 (de) | 1989-11-02 |
IT1231757B (it) | 1991-12-21 |
JPH0222110A (ja) | 1990-01-25 |
CH678522A5 (sv) | 1991-09-30 |
GB2217699B (en) | 1991-11-20 |
FR2630427A1 (fr) | 1989-10-27 |
GB8907258D0 (en) | 1989-05-17 |
IT8947867A0 (it) | 1989-04-19 |
US5002646A (en) | 1991-03-26 |
GB8809651D0 (en) | 1988-05-25 |
EP0340907B1 (en) | 1991-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE466914B (sv) | Foerfarande foer framstaellning av svart titannitrid | |
AU2005203123B2 (en) | Process for making metal oxide nanoparticles | |
US7465430B2 (en) | Apparatus for making metal oxide nanopowder | |
KR100251664B1 (ko) | 미립자 금속 분말 | |
CN103415644B (zh) | 涂层以及用于涂层的方法和装置 | |
US6254940B1 (en) | Electrically assisted synthesis of particles and film with precisely controlled characteristic | |
JP3274740B2 (ja) | 金属およびセラミツク微粉末を製造するための装置及び方法 | |
US3532462A (en) | Method of effecting gas-phase reactions | |
JP5669755B2 (ja) | 分別昇華/逆昇華によって固体混合物を連続的に精製するための方法及び装置 | |
US6416862B1 (en) | Ultrafine particulate zinc oxide and production process thereof | |
AU2326500A (en) | Ultra-fine particles of zinc oxide, method for preparing the same and cosmetic comprising the same | |
US5081081A (en) | Stabilized metal oxide powder composition | |
US5389585A (en) | Fine non-oxide ceramic powders | |
EP1215174B1 (en) | Highly white zinc oxide fine particles and method for preparation thereof | |
NL8602755A (nl) | Als keramisch materiaal geschikt aluminiumoxyde en werkwijze voor de bereiding daarvan. | |
AU617943B2 (en) | Production of nitrogen compounds | |
US5470446A (en) | Process for the production of silicon nitride | |
Zhao | Evaluation of novel deposition technique: Enhanced chemical vapor deposition | |
Cerqueira et al. | NANOMETRIC Al 2 0 3-ZrO 2 POWDERS PRODUCTION BY ARC PLASMA TREATMENT | |
Subramaniam et al. | Synthesis of Alumina from In-Flight Sillimanite |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NAL | Patent in force |
Ref document number: 8901417-9 Format of ref document f/p: F |
|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 8901417-9 Format of ref document f/p: F |