SE459493B - Icke-iriserande glasfoeremaal samt foerfarande foer dess framstaellning - Google Patents

Description

459 4-93 2 vilket mellanbeläggningar kunde påföras såsom en gradient- beläggning på en kontinuerlig produktionslinje, exempelvis de linjer som användes vid kommersiell skivglastillverkning, exempelvis float-glastillverkningslinjer. vid förfarandet enligt patentet 4 206 252 tillfördes en gas- formig blandning av reaktionskomponenter till en reaktionszon, genom vilken det heta substratet rörde sig. Blandningen val- des så att vissa reaktionskomponenter reagerade och avsattes på substratet snabbare än andra. sig framåt, När sålunda substratet rörde kom det i kontakt med en oändlig serie av konstant varierande beläggningskompositioner. Resultatet var att den belagda glasprodukten upptog en beläggning med, idealt, ett konstant varierande mellanskikt mellan substratet och den ledande tennoxídbeläggningen.

Den metod som användes vid beläggningsförfarandet enligt patentet 4 206 252 krävde avsevärd omsorg och övervakning för att på lämpligt sätt upprätthålla gastätningar vid reaktions- zonen genom vilka det heta glaset passerade. Föreliggande uppfinning härrör från sökandens strävanden att minimera till- slutningsproblemet vid kontinuerliga beläggningsapparater.

Såsom framgår av det följande löser det uppfunna nya förfaran- det icke endast tillslutningsproblemet utan ger även en mycket god, anti-iriserande, belagd glasprodukt av ny konstruktion.

Det bör förstås att uttrycket "tätning" som användes häri icke avser en extremt tät tätning utan endast hänför sig till prak- tiska medel för minimering av förlusten av gasformigt material från reaktionszonen och för att härigenom återföra detta till primärapparatens ventileringsorgan.

Uppfinningen avser ett föremål framställt av minst en transpa- rent glasskiva och innefattande på denna en första oorganisk beläggning av ett infrarödreflekterande material, vilket mate- rial är av den typ som är en transparent halvledare och nor- malt uppvisar iriseringsfärger vid dagsljusbelysning, och vari en mellanskiktsbeläggning finnes mellan glaset och den första beläggningen, samt denna andra beläggning utgör medel för att 459 493 3 väsentligen minska iriseringsfärgerna hos den första belägg- ningen genom att erbjuda minst två ytterligare gränsytor, vilka tillsammans med massan av den andra beläggningen bildar medel för att reflektera och bryta ljus, så att synligheten i dagsljusbelysning av iriseringsfärgerna väsentligen minskas, och varvid mellanskiktsbeläggningen har ett genomsnittligt brytningsindexvärde definierat såsom cirka kvadratroten av produkten av brytningsindexvärdena för glaset och för den första, infrarödreflekterande beläggningen, varvid mellan- skiktsbeläggningen utgöres av två delskikt med olika bryt- ningsindex, vilka vardera har en tjocklek av cirka l/4 våg-- längd hos ljus med en vakuumvåglängd av cirka 500 nm, och var- vid delskiktet med högre brytningsindex är anbringat längre bort från glasskivan. Föremålet kännetecknas av att åtminstone ett av delskikten innefattar en del vari dess bryt- ningsindex sjunker med ökande avstånd från glasskivan.

Uppfinningen avser även ett förfarande för framställning av sådana föremål, som kännetecknas av att man framställer mel- lanskiktet genom att två reaktionsblandningar bringas att strömma över (tvärs över) glasskivan från cirka centrum av en reaktionszon, genom vilken glasskivan föres, varvid för segre- gering av strömningsbanorna för vardera av dessa blandningar en av reaktionsblandningarna bringas att strömma i motström mot glasskivans rörelse och den andra reaktionsblandningen bringas att strömma i medström med glasskivans rörelse.

Två gasformiga reaktionskomponentkompositioner som kan ha olika sammansättning inmatas i reaktionszonen, där den mellanliggande anti-iriserande beläggningen (kallat mel- lanskikt) avsättes på glaset. Kompositionerna vandrar längs glaset mot motsatta ändar av reaktionszonen. Mel- lanskiktet kommer att bestå av två underskikt, vilkas sammansättning bestämmes av de gasformiga utgångskom- positionerna. värdefullt är att varken reaktionsåontät- ningen där glaset inträder eller reaktionszontätningen där glaset utmatas behöver innesluta en reaktionskomponent- komposition som är rik på reaktionskomponenter. Endast reak- ggg 493 4 É tionskomponenter som är väsentligen utarmade på koncentration ønäv kritisk reaktionskomponent, innan de når dessa tätningar, användes i de mest gynnsamma utföringsformerna av uppfinning- en. Detta tillvägagångssätt onödiggör användningen av gas- kvarhållande tryckskillnader eller andra sådana åtgärder vid tätningarna. Det gör sålunda konstruktionen av tätningen generellt mindre kritisk. Det finns ett flertal andra för- delar med processen: t.ex. att den linjära hastigheten hos glaset kan vara högre än vid tidigare beläggningsprocesser.

Med "väsentlig utarmning" avses den betingelse varigenom otillräcklig mängd reaktionskomponent återstår för att åstad- komma en väsentlig skillnad ifråga om de optiska egenskaperna hos glaset, om ett visst läckage skulle uppträda vid de tätade ändarna av reaktionszonen.

Den föredragna tillämpningen av den ovan beskrivna processen är baserad på upptäckten av en beläggning, som har en värde- full brytningsindexprofil.

Det har upptäckts att mycket goda icke-iriserande egenskaper kan åstadkommas med användning av tvåstegs-gradíentbelägg- ningar, som i sig uppvisar brytningsindexvärden mellan 1,6 och 1,7 (närmast glaset) och 1,8 till 1,9 (längst bort från gla- set), även när en specifik gradient hos en av eller båda beläggningarna varierar i motsatt riktning mot den primära uppåtriktade trenden hos brytningsindexet från glassubstratet till tennoxidbeläggningen. Det har sålunda helt överraskande upptäckts att en speciell modifikation av tvåkomponent-mellan- skiktsbeläggningar, som beskrives i US-patentet 4 187 336, kan användas med förfarandet enligt uppfinningen.

Av arbetet med värdering av det förfarande som beskrives häri har det klarlagts att den exakta formen eller lutningen hos brytningsindexprofilen hos l/4~våglängdsskikt icke behöver vara någon speciell form. Sålunda kan exempelvis de idealise- rade och föredragna lutningarna på figur 4 ersättas med dessa på figurerna 5, 6 eller med fortsatt bibehållande av en till- i i 459 495 5 räcklig anti-iriserande effekt på den färdiga infrarödreflek- terande glasprodukten.

Alla dessa åskådliggjorda utföringsformer, även dessa med överraskande användbarhet, kan uppfattas som utföringsformer av den uppfinning som beskrives i US-patentet 4 187 336, vari t.ex. mitt iriseringsundvikande mellanskikt var sammansatt av två l/4-våglängdsskikt med ett brytningsindexvärde av i genom- snitt ca 1,63 resp. 1,861.

Sålunda beräknas t.ex. tjockleken av vardera av de två 1/4- -våglängdsskiktkomponenterna i ett iriseringsundvikande i mellanskikt enligt den tidigare kända metoden: (4) = En avvikelse av ca 25 % kan tolereras, men förfarandet kan konstruktionsvåglängd/(brytningsindex) tjockleken. lätt regleras väl inom en sådan begränsning.

I praktiken väljes konstruktionsvåglängden så att den är en våglängd inom det synliga området av ca 550 nm. Användning av en sådan våglängd såsom ett konstruktionskriterium är till- fredsställande vid konstruktion av anti-iriserande föremål.

Det bör förstås att det förfarande som anges häri även kan an- vändas i kombination med andra processteg för åstadkommande av en väsentligen anti-iriserande mellanskiktskonstruktion. När exempelvis mellanskiktet är uppbyggt av fyra delskikt (sub- skikt), kan två centrum-flödeskonstruktioner anordnas i serie, och när fyrastegs-delskikt användes för bildning av mellan- skiktet, som beskrives i US-patentet 4 187 336 kunna användas för skulle en enkelbeläggningsprocess likartad med den åstadkommande av ett tredje delskikt (subskikt) med lämplig tjocklek.

Icke desto mindre antages att med undantag av speciella betingelser är den mest ekonomiska processen den beskrivna två-delskiktsutföringsformen, exempelvis beskriven i figur 2. Även om uppgifterna i föreliggande text speciellt beskriver _4__5_9 493 l sträckning är baserade på kisel- och tennoxider, kan sammaww 6 förfarandet i samband med delskikt (subskikt), som i stor ut- process lätt anpassas till avsättning av de olika delskikten inkluderande t.ex. sådana baserade på blandningar av kisel- oxíd, aluminiumoxider, zinkoxid, magnesiumoxid, indiumoxid, germaniumoxid och galliumoxid, helt såsom beskrives i tabell B i US-patentet 4 187 336 såsom användbart vid avsättning av delskikt med brytningsindexvärden mellan 1,62 och 1,65, dvs. användbart för framställning av ett av de två delskikten som är beläget längst bort från ett typiskt glassubstrat. Vidare kan delskiktet som är beläget längst bort från glaset fram-' ställas av många blandningar inkluderande de som beskrives i tabell C i US-patentet 4 187 336. ÅSKÅDLIGGÖRANDE UTFÖRINGSFORM AV UPPFINNINGEN I denna ansökan och åtföljande ritningar visas och beskrives en föredragen utföringsform av uppfinningen och föreslås olika alternativ och modifikationer av denna, men det bör förstås att dessa icke är avsedda att vara uttömmande och att andra förändringar och modifikationer kan göras inom omfånget för uppfinningen. Dessa förslag häri är valda och införlivade för åskådliggörande för att andra fackmän skall förstå uppfinning- en och principerna för denna bättre och bli i stånd att modi- fiera denna och utöva denna i en mångfald former, såsom kan vara bäst lämpat under betingelserna i ett speciellt fall.

I RÉTNINGARNA Figur l är en schematisk längdsektion genom en anordning konstruerad för att genomföra förfarandet enligt uppfinningen.

Figur 2 är en schematisk sektion genom en belagd glasskiva framställd enligt uppfinningen.

Figur 3 åskådliggör ett föredraget schema för framställning av ett anti-iriserande skikt enligt uppfinningen. 459 493 7 Figurerna 4, 5 och 6 är andra beläggningsschema som kan genom- föras med förfarandet enligt uppfinningen.

Figur 7 åskådliggör att endast delar av mellanskiktet kan ha fallande brytningsindex.

Av figur 1 framgår att beläggningsanordningen 10 är arrangerad att mottaga en het glasskiva längs en processlinje, vilken t.ex. kan vara en processlínje av float-glastyp.

Apparaten 10 innefattar en inloppsöppning 12 för glasskivan 14, en första beläggningsreaktorzon 16, en andra beläggnings- reaktorzon 18 samt en glasutloppsöppning 20. Beläggningsreak- torzonerna 16 och 18 tillföres en reaktionsblandningsfluid via gasinloppssamlingsledningar 22 och 24 samt gastillföringsmun- stycken 26 resp. 28. Reaktionskomponentblandningen som till- föres via strömningsbanan innefattande samlingsledningen 22 och gastillföringsmunstycket 26 tillför en reaktionsblandníng, som strömmar i motström längs glaset i zonen 16 och gradvis mot gasutloppsöppningen 30 samt gasutloppssamlingsledningen 32.

Reaktionskomponentblandningen som tillföres via en strömnings- bana innefattande samlingsledningen 24 och gastillföringsmnn- stycket 28 tillför en reaktionsblandning, som strömmar i meä- ström längs glaset i zonen 18 gradvis mot gasutloppsöppningen 34 och gasutloppssamlingsledningen 36. Varje reaktionskompo- nentblandning är vald så att den avsätter en tunn, vanligen l/4 våglängd i optisk tjocklek, beläggning av det lämpliga brytningsindexvärdet. Vid framställning av de icke-iriserande beläggningarna är av speciellt intresse för uppfinnaren en reaktionsblandning som strömmar genom zonen 16, avsättande ett skikt med förhållandevis lågt brytningsindex, och en reak- tionsblandning som strömmar genom zonen 18, avsättande ett skikt med förhållandevis högt brytningsindex. Reaktionsbland- ningarna väljes så att de är väsentligen utarmade, innan de når utlopps- eller inloppsöppningarna. 59 493 8 r gden av anordningen från gasinloppet till gasutr loppet väljes lämpligen så att den är ca 30 cm. Anordningen är upphängd från eller monterad på bärande rör 38.

Den totala län Reaktions- hastigheterna och andra reaktionszonbetingelser förbättras väsentligt genom att man håller de ytor av apparaten 10 som finnes i reaktionszonen vid en förhållandevis låg temperatur för att motverka avsättning av beläggningsmaterial på dessa.

Sålunda införes kylfluid, exempelvis kvävgas, de två kylkamrarna 40, i var och en av som vardera är förenad med en av reak- tionszonerna 16 och 18. Kylgaserna införes genom öppningar 42 Gaserna avlägsnas från beläggnings- anordningen vid utloppsöppningen 46. i kyltillföringsrör 44.

Utrymmet nära glaset vid inloppsöppningen 12 och utloppsöpp- ningen 50 är försedda med tillslutningsklaffar (tillslutnings~ flappar), som lämpligen är utförda av veckade tätningar av böjligt glasfibertyg 52, för att minska läckaget. Om emeller- tid reaktionskomponenterna väljes på lämpligt sätt, så att de när i det närmaste effektivt utarmade nära utloppsöppningarna, är denna tillslutning icke särskilt kritisk för processen.

Värmeisolering 56 hjälper till att bibehålla den lämpliga tem- peraturen för driften av apparaten genom att åtskilja varmgas- utloppssamlingsledningen från det gaskylda huset 54. Vid an- vändning är anordningen lämpligen anbringad så att den ger en höjd av ca 6,4 mm till gasflödet över glassubstratet. Rullar 58 uppbär glaset när det rör sig längs processlinjen på det sätt som är välkänt inom glastillverkningsindustrin.

En lämplig kombination av beläggningsreaktionsblandningar kan tillföras på följande sätt och innefattar en första blandning med förhållandevis lågt brytningsindex som påföres i zon l6 samt en andra blandning med förhållandevis högt brytningsindex som tillföres i zon 18.

Den första blandningen innefattar: 459 493 9 Volymprocent iwïïë-dimetoxitetrametyldisilan 0,Ä" I Tetrametyltenn 1,2 Bromtrifluormetan 2,0 Torr luft resten 5 Den andra blandningen innefattar: L l,2-dimetoxitetrametyldisilan 0,15 Tetrametyltenn 1,5 Bromtrifluormetan 2,0- Torr luft resten Glaset vandrar ca 10 cm per sekund genom zonen och inträder i zonen vid ca 580°C. Gasblandningarna infördes vardera i en mängd per tidsenhet av ca 2 liter per sekund per meter belägg- ningsanordningsvikt och vid ca 300°C. Ytan av reaktionszon- anordningen som var anordnad ovanför glaset hålles lämpligen vid ca 350°C.

Den avsatta beläggningen liknar nära, i profil, den belägg- ning, som visas på figur 3, vari det nedåtlutande segmentet av linjen representerar mellanskiktsdelen 60(a) på figur 2 och det uppåtlutande segmentet av linjen representerar mellan- skiktsdelen 60(b) på figur 2.

Figur 2 representerar en glasprodukt 59, som först belagts enligt uppfinningen med en dubbel iriseringsundertryckande mellanbeläggning 60 mellan ett glasföremål 64 och en tunn tennoxidbeläggning 62.

Det har visat sig önskvärt att utnyttja dialkoxipolysilaner vid förfarandet enligt uppfinningen. Dialkoxipermetylpoly- silaner, i synnerhet metoxiterminerade dimetoxipermetylpoly- silaner, har varit värdefulla, eftersom dessa tillåter ökade beläggningshastigheter och minskad antändbarhet jämfört med tetrametyldisilan. Sådana metoximaterial har formeln: 4 9 493 -~ lO Me0(Me2Si)n0Me vari n är från ca 2 till 10. Värden av n från 2 till 6 synes möjliggöra mycket goda reaktions- och beläggningshastigheter.

Det optimala antalet kiselbärande grupper kan variera med ß olika beläggningshastigheter. Ãngtrycket sjunker med ökande värden av n och för en viss given apparat uppvisar det vanli- gen en övre begränsning av värdet av n, ningar som kan förflyktigas. 3 som definierar före- Såsom exempel skulle förångning av dialkoxiföreningen i en kvävebärargas såsom utspädnings- medel före blandning med luft tillåta användning av högre för- ångningstemperaturer, eftersom mängden syre skulle minskas och mindre mängd syre skulle vara tillgänglig för den förtidiga reaktionen med silanföreningen. I praktikan kan kompositioner innefattande en blandning av reaktionskomponenter med olika värden av "n" användas utan några allvarliga problem. Det bör observeras att de lägre alkoxiföreningarna, såsom de före- dragna metoxiföreningarna, ofta medför avsättning av ett mate- rial av silikontyp, dvs. avsevärda kol-kiselbindningar kvar- lämnas i beläggningen. Den relativa storleken av denna effekt kan variera väsentligt med förändringar av temperaturen och närvaron av föroreningar. Under alla förhållanden stör den icke verksamheten av processen eller de därmed framställda produkterna, även om denna faktor gör det väsentligt att över- vaka brytningsindex hos produkt som framställes under varie- rande betingelser för att säkerställa att dess brytningsindex ligger inom lämpliga gränser. Den process som beskrives är emellertid en process, vid vilken produkterna med lämpligt index endast behöver ha i det närmaste lämpliga optiska tjock- leksvärden, t.ex. plus-eller-minus 25 % , för att ge lämplig anti-iriserande effekt.

Det är fördelaktigt, om det först avsatta materialet innehål- ler minst ca 60 % kiseloxid, baserat på total oxidmängd. Om detta icke är fallet, är det önskvärt att åstadkomma en tunn, t.ex. 10 till 100 ångström, anti-slöj- eller anti-grumlings- beläggning över glassubstratet under det dubbla mellanskiktet. 459 495 ll Sedan dubbelskikts-, anti-iriseringsbehandlingen har genom- __förts på beläggningen, kan en fluordopad beläggning av tenn: 4 oxid, företrädesvis med en tjocklek av ca 0,1 till 0,4 pm, tilläggas för att ge effektiv reflexion av lângvâgig infraröd strålning och det värme som är förenat med sådan strålning.

Det bör förstås att ett speciellt värde med uppfinningen är att tillåta effektiv tillverkning av transparenta skivor, som kan vara belagda med en ultratunn, exempelvis en tjocklek av 0,2 till 0,7 pm, beläggning av fluordopad tennoxid för att verka såsom en infrarödreflekterande skiva. Uppfínningen'gör det möjligt att uppnå dessa syften med glassubstrat, som är klara eller med mycket lätta färgtoner och i själva verket med glassubstrat, som är fria från metalltoner och är fria från gråa, bronsfärgade eller andra sådana mörka toner som i sig kan väsentligen undertrycka synligheten av irisering.

Den totala beläggningstjockleken hos det dubbla mellanskiktet och mellanskiktet samt infrarödbeläggningen är från 0,3 till l um. Eventuellt tjockare material fungerar enbart för att minska transmissionen av synligt ljus.

Ett anti-slöjskikt (anti-grumlingsskikt) av amorft material, företrädesvis kiseloxid eller kiseloxinitrid, kan användas mellan glassubstraten och det dubbla mellanskiktet. Kiseloxid är lämpligt och föredraget.

Filmen av mellanskiktet närmare glaset har vanligen ett genom- snittligt brytningsindex av cirka det som anges med den idea- liserade formeln vari nsc är brytningsindex för en överbeläggning liknande tennoxid och ngl är brytningsindex för glaset. Det längre bort belägna mellanskiktet har ett genomsnittligt brytnings- index, som anges med formeln _§}§9 '4É33 12 n :n o,74n ø,2e .___ b sc gl vari nsc är brytningsindex för en överbeläggning, såsom tenn- oxid, och ngl är brytningsindex för glaset. Dessa indexvärden beräknas mellan ca 1,6 och 1,7 för n a och mellan ca 1,8 och 1,9 för n b, när en överbeläggning har ett brytningsindex av ca 2 och glaset har ett brytningsindex av ca l,5.

Det är uppenbart för fackmän att olika förändringar och ytter- ligare modifikationer av uppfinningen kan genomföras häri utan att man avviker från uppfinningstanken eller från omfånget'av de följande patentkraven.

Claims (19)

459 493 13 PATENTKRAV

1. Föremål framställt av minst en transparent glasskiva och innefattande på denna en första oorganisk beläggning av ett infrarödreflekterande material, vilket material är av den typ som är en transparent halvledare och normalt uppvisar iri- seringsfärger vid dagsljusbelysning, och vari en mellanskikts- beläggning finnes mellan glaset och den första beläggningen, samt denna andra beläggning utgör medel för att väsentligen minska iriseringsfärgerna hos den första beläggningen genom' att erbjuda minst två ytterligare gränsytor, vilka tillsammans med massan av den andra beläggningen bildar medel för att reflektera och bryta ljus, så att synligheten i dagsljusbelys- ning av iriseringsfärgerna väsentligen minskas, och varvid mellanskiktsbeläggningen har ett genomsnittligt brytnings- indexvärde definierat såsom cirka kvadratroten av produkten av brytningsindexvärdena för glaset och för den första, infraröd- reflekterande beläggningen, varvid mellanskiktsbeläggningen utgöres av tvâ delskikt med olika brytningsindex, vilka var- dera har en tjocklek av ca l/4 våglängd hos ljus med en vakuumvåglängd av ca 500 nm, och varvid delskiktet med högre brytningsindex är anbringat längre bort från glasskivan, k ä n n e t e c k n a t därav, att åtminstone ett av delskik- ten innefattar en del vari dess brytningsindex sjunker med Ökande avstånd från glasskivan.

2. I Föremål enligt patentkrav l, k ä n n e t e c k n a t därav, att brytningsindexvärdet sjunker hos vardera av del- skikten med tilltagande avstånd från glasskivan.

3. Föremål enligt patentkrav 1 eller 2, k ä n n e - t e c k n a t därav, att minst ett delskikt har ett graderat eller kontinuerligt varierande brytningsindex, som sjunker med ökande avstånd från glasskivan, samt att brytningsindex hos det andra delskiktet gradvis stiger med ökande avstånd från glasskivan. 459 493 14 Föremål enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att minst ett delskikt upp-

4. visar ett med avståndet från glasskivan varierande brytnings- index, som först ökar och därefter minskar med ökande avstånd från glasskivan.

5. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att den första, infraröd- reflekterande beläggningen utgöres av tennoxid.

6. Förfarande för framställning av ett föremål innefat- tande minst en transparent glasskiva och på denna en första oorganisk beläggning av ett infrarödreflekterande material, vilket material är av den typ som är en transparent halvledare och normalt uppvisar iriseringsfärger vid dagsljusbelysning, och vari en mellanskiktsbeläggning finnes mellan glaset och den första beläggningen, samt denna andra beläggning utgör medel för att väsentligen minska iriseringsfärgerna hos den första beläggningen genom att erbjuda minst två ytterligare gränsytor, vilka tillsammans med massan av den andra belägg- ningen bildar medel för att reflektera och bryta ljus, så att synligheten i dagsljusbelysning av iriseringsfärgerna väsent- ligen minskas, och varvid mellanskiktsbeläggningen har ett genomsnittligt brytningsindexvärde definierat såsom cirka kvadratroten av produkten av brytningsindexvärdena för glaset och för den första, infrarödreflekterande beläggningen, varvid mellanskiktsbeläggningen utgöres av två delskikt med olika brytningsindex, vilka vardera har en tjocklek av ca l/4 våg- längd hos ljus med en vakuumvåglängd av ca 500 nm, och varvid delskiktet med högre brytningsindex är anbringat längst bort från glasskivan, varvid åtminstone ett delskikt innehåller en del i tjockleksriktningen räknat, vari dess brytningsindex sjunker med ökande avstånd från glasskivan, t e c k n a t k ä n n e - därav, att man framställer mellanskiktet genom att två reaktionsblandningar bringas att strömma över (tvärs- över) glasskivan från cirka centrum av en reaktionszon, vilken glasskivan föres, genom varvid för segregering av strömnings- banorna för vardera av dessa blandningar en av reaktionsbland- 15 ningarna bringas att strömma i motström mot glasskivans rörelse och den andra reaktionsblandningen bringas att strömma i medström med glasskivans rörelse.

7. Förfarande enligt patentkrav 6, k ä n n e t e c k - n a t därav, att reaktionsblandningarna och strömningshastig- heterna samt glastemperaturen väljes så att reaktionsbland- ningarna är till stor del utarmade, när de når endera änden av reaktionszonen.

8. Förfarande enligt patentkrav 6 eller 7, k ä n n e 1 t e c k n a t därav, att minst en reaktionsblandning väljes så att den bildar ett mellanskikt, som har ett brytningsindex överstigande brytningsindex hos glaset, men vilket brytnings- index sjunker med stigande avstånd i mellanskiktet från glas- skivan räknat.

9. Förfarande enligt något av föregående patentkrav, Ü k ä n n e t e c k n a t därav, att mellanskiktet påföres som beläggning på en skiva av klart glas eller glas med ljus eller svag färgton, varvid glasskivan är fri från metalliska, grå eller bronsfärgade och andra mörktonade toner, som i sig väsentligen kan undertrycka synlígheten av irisering.

10. Förfarande enligt något av patentkraven 6-9, k ä n - n e t e c k n a t därav, att man såsom första, oorganisk beläggning av infrarödreflekterande material påför ett skikt av tennoxid.

11. ll. Förfarande enligt patentkrav 10, k ä n n e t e c k - n a t därav, att steget för mellanskiktsbeläggning och steget för efterföljande tennoxidbeläggning avpassas så att vid dessa steg tillsammans bildas beläggning med en sammanlagd tjocklek av från 0,3 till l pm.

12. 'l2. 3 Förfarande enligt något av patentkraven 6-ll, k ä n n e t e c k n a t därav, att det såsom steg innefattar påföring av ett delskikt av mellanskiktsbeläggníngen innehål- 459 493 16 lande minst 60 % kisel på glasskivan.

13. Förfarande enligt något av patentkraven 6-12, k ä n n e t e c k n a t därav, att mellanskiktsbeläggnings~ steget innefattar avsättning av två skikt innefattande: (a) ett delskikt närmare glasskivan med ett effek- tivt brytningsindex av ungefär det som anges med formeln n :n 0,26n 0,74 a sc gl och (b) ett andra delskikt på större avstånd från glas- skivan med ett effektivt brytningsindex av ungefär det som anges med formeln _ 0,74 0,26 nb_nsc ngl vari nsc är brytningsindex för den första, infrarödreflekte~ rande beläggningen och ngl är brytningsindex för glasskivan.

14. Förfarande enligt patentkrav l2, k ä n n e t e c k - n a t därav, att delskiktet innehållande minst 60 % kisel utgöres av kiseldioxid.

15. Förfarande enligt något av patentkraven 6-14, k ä n n e t e c k n a t därav, att beläggningsstegen genom- föres till sådan tjocklek och med sådana material, att ett färgmättnadsvärde under 8 uppnås för föremålet.

16. Förfarande enligt patentkrav 6, 9 eller 10, k ä n - n e t e c k nfa t därav, att mellanskiktsbeläggningssteget innefattar påföring av två skikt inkluderande (a) ett skikt, närmare glasskivan och med ett effektivt genomsnittligt brytningsindex inom områ- det ca 1,6 till 1,7, ' (b) ett andra skikt, närmare den infrarödreflekte- rande beläggningen samt med ett effektivt genom- 459 493 17 snittligt brytningsindex inom området ca 1,8 till 1,9, och varvid den infrarödreflekterande beläggningen har ett brytningsindex av ca 2 samt glaset har ett brytningsindex av ca 1,5.

17. Förfarande enligt patentkrav 10, k ä n n e t e c k - n a t därav, att mellanskiktsbeläggningssteget och ett efter- följande tennoxidbeläggningssteg tillsammans bildar en total beläggning av från 0,3 till l pm tjocklek.

18. Förfarande enligt något av patentkraven 6-17, k ä n n e t e c k n a t därav, att mellanskiktsbeläggnings- steget innefattar avsättning av två skikt inkluderande: (a) en film närmare glasskivan med ett effektivt brytningsindex av cirka det som anges med formeln 0,26 0,74 n =n n a sc gl och (b) en andra film närmare den infrarödreflekterande beläggningen samt med ett effektivt brytningsindex av cirka det som anges med formeln nb nsc ngl

19. Förfarande enligt något av patentkraven 6-18 för beläggning av en glasskiva, som föres in i och ut ur en reak- tionszon genom tillslutna (men icke hermetiskt tillslutna) öppningar genom att glasskivan bringas i kontakt med en bland- ning av gasformiga reaktionskomponenter i reaktionszonen, k ä n n e t e c k n a t därav, att man inför reaktionsbland- ningen vid den centrala delen av reaktionszonen och bringar reaktionsblandningen att strömma längs glasskivan mot den tillslutna delen med sådan hastighet, att reaktionskomponen- terna är väsentligen utarmade innan de når närheten av de icke-hermetiskt tillslutna öppningarna.