SE453737B - PROCEDURE FOR MANUFACTURING AN OPTICAL COMPONENT WITH MIRROR REFLECTIVE PROPERTIES - Google Patents

PROCEDURE FOR MANUFACTURING AN OPTICAL COMPONENT WITH MIRROR REFLECTIVE PROPERTIES

Info

Publication number
SE453737B
SE453737B SE8500918A SE8500918A SE453737B SE 453737 B SE453737 B SE 453737B SE 8500918 A SE8500918 A SE 8500918A SE 8500918 A SE8500918 A SE 8500918A SE 453737 B SE453737 B SE 453737B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
layer
coating
mirror
microns
thickness
Prior art date
Application number
SE8500918A
Other languages
Swedish (sv)
Other versions
SE8500918D0 (en
SE8500918L (en
Inventor
D W Robinson
Original Assignee
Spafax Holdings Plc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Spafax Holdings Plc filed Critical Spafax Holdings Plc
Publication of SE8500918D0 publication Critical patent/SE8500918D0/en
Publication of SE8500918L publication Critical patent/SE8500918L/en
Publication of SE453737B publication Critical patent/SE453737B/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00605Production of reflex reflectors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00596Mirrors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00865Applying coatings; tinting; colouring

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

45s 7s7_ klart eller opakt plastmaterial, vanligen akrylnitril- butadien-styren-polymerer. Denna metod är mycket dyrbar och är förenad med produktionstekniska problem. Den leder också till en spegelliknande produkt med sämre reflektionsförmåga än som âstadkommes med hjälp av kon- ventionella silver- eller aluminiumytor. Trots använd- ning av ett relativt inert underlagsmaterial av plast för spegeln kan förfarandet för anbringande av flera metallskikt genom elektroplätering ge upphov till besvär- liga elektrolytiska korrosionsproblem då spegeln utsättes för skadliga miljöbetingelser.' Vid en annan teknik förångas aluminium termiskt på baksidan av ett redan överdraget, genomsynligt plastmaterial, vars beläggning är nötningsbeständig till viss grad och tidigare pâförts genom ett separat och dyrbart vâtkemiskt förfarande. 45s 7s7_ clear or opaque plastic material, usually acrylonitrile-butadiene-styrene polymers. This method is very expensive and is associated with production technical problems. It also leads to a mirror-like product with poorer reflectivity than is achieved with the help of conventional silver or aluminum surfaces. Despite the use of a relatively inert plastic substrate material for the mirror, the process for applying several metal layers by electroplating can give rise to troublesome electrolytic corrosion problems when the mirror is exposed to harmful environmental conditions. ' In another technique, aluminum is thermally evaporated on the back of an already coated, transparent plastic material, the coating of which is to some extent abrasion resistant and previously applied by a separate and expensive wet chemical process.

Föremål framställda genom denna teknik begränsas av de överdragna plastunderlagsmaterialens storlek, form och konfiguration, varvid dessa material vanligen utgöres av planalster, och blir dyrbara på grund av att fram- ställningsförfarandena inbegriper flera steg.Articles made by this technique are limited by the size, shape and configuration of the coated plastic backing materials, these materials usually being planar articles, and become expensive because the manufacturing processes involve several steps.

Vakuumunderstödd utfällning av metall på icke be- handlat plastmaterial, som åtföljes av ett vâtkemiskt förfarande för att åstadkomma nötningsbeständighet, är också känd, men är dyrbar och leder till optiska fel- aktigheter.Vacuum-assisted precipitation of metal on untreated plastic material, which is accompanied by a wet chemical process to achieve abrasion resistance, is also known, but is expensive and leads to optical defects.

Ett ändamål med uppfinningen är att komma från de ovan angivna nackdelarna.An object of the invention is to get away from the above-mentioned disadvantages.

Enligt en aspekt av föreliggande uppfinning omfattar ett förfarande för framställning av en optisk komponent med spegelreflekterande egenskaper från ett motsvarande plastmaterialstycke åtgärderna att man underkastar plast- materialstycket avfettning medelst fluorkolvätelösnings- medelsànga, därpå överför plastmaterialstycket till en med ultraljud vibrerad, upphettad lösning av samma lösnings- medel, utför molekylär rening, efter överföring av mate- rialstycket i ett vakuumkärl anbringar ett ytskikt bestå- 453 737 3 i* ende av glas eller oxid av ett spegelreflekterande ämne och därefter genom magnetron-förstoftning påför en be- läggning av det spegelreflekterande ämnet med en tjock- lek av intill 5,0 mikron.According to one aspect of the present invention, a method of manufacturing an optical component having mirror-reflecting properties from a corresponding piece of plastic material comprises the steps of subjecting the plastic piece to degreasing by means of fluorocarbon solvent vapor, then transferring the piece of plastic material to an ultrasonically vibrated, heated solution. performs molecular purification, after transferring the piece of material into a vacuum vessel, applies a surface layer consisting of glass or oxide of a mirror-reflecting substance and then, by magnetron sputtering, applies a coating of the mirror-reflecting substance with a thickness of up to 5.0 microns.

Ytskiktslagret av oxider kan påföras genom magnetrön- förstoftning i ett vakuumkärl i en atmosfär av syre och argon vid ett tryck i omrâdet 2 x 10-3 mbar.The surface layer layer of oxides can be applied by magnetic sputtering in a vacuum vessel in an atmosphere of oxygen and argon at a pressure in the range 2 x 10-3 mbar.

Omedelbart efter molekylarreningen kan trycket i vakuumkärlet minskas till 1 x 10_5 föras, tills trycket när värdet 5 x 1o'4 syrgas tillföras, tills trycket stigit till 2 X 10' mbar.Immediately after the molecular purification, the pressure in the vacuum vessel can be reduced to 1 x 10 -5, until the pressure when the value 5 x 10 -4 oxygen is applied, until the pressure has risen to 2 x 10 5 mbar.

Nyckelskiktet anbringas därefter genom magnetron- mbar och argongas in- mbar, varvid 3 förstoftning med användning av ett mål av den metall som skall avsättas på nyckelskiktslagret. Det senares tjock- lek är företrädesvis av storleksordningen 0,5 - 1,0 mikron.The key layer is then applied by magnetron mbar and argon gas mbar, whereby sputtering using a target of the metal to be deposited on the key layer layer. The thickness of the latter is preferably of the order of 0.5 - 1.0 microns.

Beläggningen av reflekterande material kan sedan på- föras direkt på nyckelskiktslagret och i så fall kan det reflekterande materialet anbringas genom likströms- magnetronförstoftning. ' Vid en utföringsform utgöres beläggningen av spegel- reflekterande material av krom, varvid nyckelskiktslag- ret företrädesvis är ett tunt skikt av kromoxider med en tjocklek mellan 0,5 och 1,0 mikron.The coating of reflective material can then be applied directly to the key layer layer and in that case the reflective material can be applied by direct current magnetron sputtering. In one embodiment, the coating is made of mirror-reflecting material of chromium, the key layer layer preferably being a thin layer of chromium oxides with a thickness between 0.5 and 1.0 microns.

Vid en alternativ utföringsform utgöres beläggning- en av spegelreflekterande material av aluminium, i vil- ket fall nyckelskiktslagret företrädesvis är ett tunt lager av aluminiumoxider med en tjocklek mellan 0,5 och 1,0 mikronf I sistnämnda fallet kan även en hård nöt- ningsbeständig beläggning anbringas på aluminiumet och i detta fall kan ett ovanskikt påföras med hjälp av ett lager av dielektrisk oxid med en tjocklek mellan 0,5 och 5,0 mikron.In an alternative embodiment, the coating consists of mirror-reflecting materials of aluminum, in which case the key layer layer is preferably a thin layer of aluminas with a thickness between 0.5 and 1.0 microns. In the latter case, a hard abrasion-resistant coating can also be used. applied to the aluminum and in this case a top layer can be applied by means of a layer of dielectric oxide with a thickness between 0.5 and 5.0 microns.

Vid en annan alternativ utföringsform av uppfin- ningen kan ytskiktet bildas genom framställning av glas 453 737 in situ, varvid man under plasmaaktiverade betingelser reagerar typiska glasbildande ämnen såsom ett kalcium- karbonat, natriumkarbonat och oxider av kisel med varand- ra. Dylika ämnen kan överföras i reaktivt tillstànd genom bombardemang med ett elektronknippe med hög energi.In another alternative embodiment of the invention, the surface layer can be formed by making glass 453 737 in situ, reacting under plasma-activated conditions typical glass-forming substances such as a calcium carbonate, sodium carbonate and oxides of silicon with each other. Such substances can be transferred in the reactive state by high-energy electron beam bombardment.

Uppfinningen kan utövas på olika sätt och en spe- cifik utföringsform kommer nu att beskrivas i form av ett exempel.The invention can be practiced in various ways and a specific embodiment will now be described in the form of an example.

I detta exempel omfattar underlagsmaterialet av plast en polykondensatpolymer framställd genom omsätt- ning av en polyhydroxiförening med ett karbonsyraderivat, i det typiska fallet reaktionsprodukten mellan bis-fenol- A och antingen fosgen eller difenylkarbonat, som finns tillgängligt kommersiellt under varumärket "Lexan"-poly- karbonat och tillverkas av General Electric Co-, USA.In this example, the plastic backing material comprises a polycondensate polymer prepared by reacting a polyhydroxy compound with a carboxylic acid derivative, typically the reaction product between bis-phenol-A and either phosgene or diphenyl carbonate, which is commercially available under the trademark "Lexan" polymer. carbonate and manufactured by General Electric Co-, USA.

Passande form och storlek kan erhållas antingen genom ett vanligt förfarande för sprutning av termoplast eller genom skärning till en given, önskad profil ur ett precisionstillverkat, extruderat ark.Suitable shape and size can be obtained either by a conventional method of spraying thermoplastic or by cutting to a given, desired profile from a precision fabricated, extruded sheet.

Underlagsmaterialet ângavfettas i fluorkollösnings- medel, i det typiska fallet "Arklon" P (ICI) i tre 453 737 <* minuter, överföres sedan till en ultraljudvibrerad, upp- värmd lösning av samma lösningsmedel ytterligare tre minuter för rengöring. Det kan vara lämpligt att genom- föra ângavfettningen under tre minuter. Plastmaterialet överföres sedan till en lämplig lokaliseringsjigg i ett processvakuumkärl, varvid operationen utföres under mycket stränga krav på renhet.The support material is steam degreased in fluorocarbon solvent, typically "Arklon" P (ICI) for three 453 737 <* minutes, then transferred to an ultrasonically vibrated, heated solution of the same solvent for another three minutes for cleaning. It may be appropriate to carry out the steam degreasing for three minutes. The plastic material is then transferred to a suitable localization jig in a process vacuum vessel, the operation being carried out under very strict purity requirements.

Vakuumkärleš tillslutes och evakueras till ett mbar. trycket uppnår värdet 1 x 10- Sedan införes argongas, tills 1 mbar. av 1,5 kilovolt appliceras sedan på elektroder i vakuum- tryck av 1 x 10- En växelspänning kärlet och i omedelbar närhet av ytan av det underlags- material av plast som skall behandlas. Den sålunda ini- tierade glimurladdningen upprätthâlles under en period av upp till 20 min, under vilken plastytan undergår "molekylarrening“, vilken behandling, även om den med avseende på verkan är en rening, åstadkommer en yta som lämpar sig bättre för att mottaga det nedan beskrivna överdragsskiktet.The vacuum vessel is closed and evacuated to a mbar. the pressure reaches the value 1 x 10- Then argon gas is introduced, up to 1 mbar. of 1.5 kilovolts is then applied to electrodes in a vacuum pressure of 1 x 10- An alternating voltage vessel and in the immediate vicinity of the surface of the plastic substrate to be treated. The thus initiated glow discharge is maintained for a period of up to 20 minutes, during which the plastic surface undergoes "molecular purification", which treatment, although in terms of effect is a purification, provides a surface which is better suited to receive it below. described coating layer.

Efter molekylarreningen utföres en reaktiv oxida- tionsprocess i syfte att åstadkomma ett nyckelskikts- ytlager på följande sätt. Kärlet evakueras på nytt till 1 x 10-5 mbar tryck och argongas införes, tills trycket når 5 x 10-4 mbar. tills trycket stigit till 2 X 1o'3 mbar.After the molecular purification, a reactive oxidation process is performed in order to provide a key layer surface layer in the following manner. The vessel is evacuated again to 1 x 10-5 mbar pressure and argon gas is introduced until the pressure reaches 5 x 10-4 mbar. until the pressure has risen to 2 X 1o'3 mbar.

Därefter initieras en magnetronförstoftning med Syrgas tillföres sedan, användning av ett mål av krom i vakuumkärlet, så att de laddade kromatomerna samverkar reaktivt med syre för avsättning av nyckelskiktsytlagret av kromoxider på ytan av det intilliggande polykarbonatet. Detta lager består av en eller flera oxider av krom och möjligen också själva metallen. Lagret har företrädesvis en tjocklek av 0,5 - 1,0 mikron.Thereafter, a magnetron sputtering with Oxygen is initiated is then applied, using a target of chromium in the vacuum vessel, so that the charged chromatoms react reactively with oxygen to deposit the key layer surface layer of chromium oxides on the surface of the adjacent polycarbonate. This layer consists of one or more oxides of chromium and possibly also the metal itself. The layer preferably has a thickness of 0.5 - 1.0 microns.

Syretillförseln avbrytes sedan och konventionell magnetronförstoftning med likström av krom igångsättes 453 737 vid måleffekttäthetsnivåer, som successivt ökar från 4 W/cm” till 12 W/cnß. krom är känsliga för antingen tryck- eller sträckpåkän- Det är känt att tunna lager av ningar och att försiktighet är nödvändig på detta sta- dium. I det typiska fallet anbringas ett reflekterande lager i en tjocklek av 0,5 till 5,0 mikron. Även om uppfinningen beskrivits under hänvisning till kromoxider och ett system av flera kromlager, är den icke begränsad härtill.The oxygen supply is then interrupted and conventional magnetron sputtering with direct current of chromium is initiated 453 737 at target power density levels, which gradually increase from 4 W / cm 2 to 12 W / cnß. chromium is sensitive to either pressure or tensile stress- It is known that thin layers of nings and that caution is necessary at this stage. Typically, a reflective layer is applied in a thickness of 0.5 to 5.0 microns. Although the invention has been described with reference to chromium oxides and a system of several chromium layers, it is not limited thereto.

En bättre reflekterande aluminiumspegel kan fram- ställas på liknande sätt med ett reaktivt förstoftnings- skikt av aluminium, som skulle likna kromskiktet och bestå av aluminiumoxider och eventuellt själva alumi- niummetallen, följt av ett skikt av aluminiummetall.A better reflective aluminum mirror can be produced in a similar manner with a reactive sputtering layer of aluminum, which would resemble the chrome layer and consist of aluminum oxides and possibly the aluminum metal itself, followed by a layer of aluminum metal.

I fråga om en mjukare metall såsom denna kan det bli nödvändigt att påföra ett hårt nötningsresistent över- drag av en dielektrisk oxid såsom en oxid av kisel, som antingen förstoftats med hjälp av ett radiofrekvent fält eller en elektronknippeförångning. Båda tekniker- Ett typiskt tjockleks- område för detta överdragsskikt skulle vara 0,5 till 5,0 na är välkända bland fackmännen. mikron.In the case of a softer metal such as this, it may be necessary to apply a hard abrasion resistant coating of a dielectric oxide such as an oxide of silicon, which is either sputtered by means of a radio frequency field or an electron beam evaporation. Both techniques A typical thickness range for this coating layer would be 0.5 to 5.0 na are well known to those skilled in the art. micron.

Alternativt kan de översta överdragsskikten av glas bildas på ett flertal olika sätt, t.ex. genom bildning av glas in situ, varvid typiska glasbildande ämnen såsom kalciumkarbonat, natriumkarbonat och kisel- oxider bringas att reagera med varandra under plasma- aktiverande betingelser. Genom denna metod kan man framställa konventionellt kalcium-natrium-kisel-glas på ytan av plastmaterialet. Alternativt kan också alumi- niumoxid-kisel-glasfilmer och blyglasfilmer framställas på liknande sätt. En annan metod att avsätta ett glas- skikt är genom direkt förångning i vakuum av ett redan bildat glas, t.ex. borsilikat, under användning av elek- tronknippen eller konventionella elektriska upphettnings- 453 737 t v 7 ._ anordningar för att inducera förångning.Alternatively, the upper coating layers of glass can be formed in a number of different ways, e.g. by the formation of glass in situ, whereby typical glass-forming substances such as calcium carbonate, sodium carbonate and silica are reacted with each other under plasma activating conditions. By this method, conventional calcium-sodium-silicon glass can be produced on the surface of the plastic material. Alternatively, alumina-silica-glass films and lead-glass films can also be produced in a similar manner. Another method of depositing a glass layer is by direct evaporation in vacuum of an already formed glass, e.g. borosilicate, using electron beams or conventional electric heating devices to induce evaporation.

Det är även möjligt att använda s.k. utdrygade plaster såsom med glas, talk och krita eller andra mine- ralutdrygade polypropenmaterial. Även om dessa fyll- medel i första hand är avsedda att nedbringa kostnaderna och förbättra egenskaperna, kan även fyllmedelskomponen- ten samreagera med ämnen i ett vakuumkärl för att för- bättra den glasförankrande beläggningens bindning.It is also possible to use so-called elongated plastics such as with glass, talc and chalk or other mineral-extruded polypropylene materials. Although these fillers are primarily intended to reduce costs and improve properties, the filler component can also co-react with substances in a vacuum vessel to improve the bonding of the glass anchoring coating.

Claims (15)

1. 453 '_7§7 8 w Patentkrav_ J. Förfarande för framställning av en optisk komponent med spegelreflekterande egenskaper från ett motsvarande plastmaterialstycke, k ä n n e t e c k n a t av att man underkastar plastmaterialstycket avfettning medelst fluor- kolvätelösningsmedelsånga, därpå överför plastmaterial- stycket till en med ultraljud vibrerad, upphettad lösning av samma lösningsmedel, utför molekylär rening, efter över- föring av materialstycket i ett vakuumkärl anbringar ett ytskikt bestående av glas eller oxid av ett spegelreflek- terande ämne och därefter genom magnetron-förstoftning pâ- för en beläggning av det spegelreflekterande ämnet med en tjocklek av intill 5,0 mikron.A process for producing an optical component having mirror-reflecting properties from a corresponding piece of plastic material, characterized in that the plastic material piece is subjected to degreasing by means of fluorocarbon solvent vapor, then the plastic material piece is transferred to one with ultrasound. vibrated, heated solution of the same solvent, performs molecular purification, after transferring the piece of material in a vacuum vessel, applies a surface layer consisting of glass or oxide of a mirror-reflecting substance and then by magnetron sputtering on - for a coating of the mirror-reflecting substance with a thickness of up to 5.0 microns. 2. Förfarande enligt krav 1, k ä n n e t e c k n a t av att ytlagret anbringas till en tjocklek mellan 0,5 och 1,0 mikron.Method according to claim 1, characterized in that the surface layer is applied to a thickness between 0.5 and 1.0 microns. 3. Förfarande enligt krav 1 eller 2, k ä n n e t e c k - n a t av att beläggningen av spegelreflekterande material har en tjocklek mellan 0,5 och 5,0 mikron.3. A method according to claim 1 or 2, characterized in that the coating of mirror-reflecting material has a thickness between 0.5 and 5.0 microns. 4. Förfarande enligt något av krav 1-3, k ä n n e - t e c k n a t av att ytlagret bildas genom påförande av en beläggning av oxider av det material som användes för att åstadkomma de spegelreflekterande egenskaperna, varvid be- läggningen av oxider anbringas i ett vakuumkärl i en atmos- fär av syre och argon.4. A method according to any one of claims 1-3, characterized in that the surface layer is formed by applying a coating of oxides of the material used to achieve the mirror-reflecting properties, the coating of oxides being applied in a vacuum vessel in an atmosphere of oxygen and argon. 5. Förfarande enligt krav 4, k ä n n e t e c k n a t av att beläggningen av oxider påföres genom magnetron-förstoft- ning i ett vakuumkärl i en atmosfär av syre och argon vid ett tryck i omrâdet 2 x 10-3 mbar.5. A method according to claim 4, characterized in that the coating of oxides is applied by magnetron sputtering in a vacuum vessel in an atmosphere of oxygen and argon at a pressure in the range 2 x 10-3 mbar. 6. Förfarande enligt krav 5, k ä n n e t e c k n a t av omedelbart efter den molekylära reningen trycket i vakuum- kärlet sänkes till 1 x 10-5 mbar och argongas införes, tills 453 737 ¶ U: trycket når värdet 5 x 10-4, varefter syre tillföres, tills trycket har stigit till 2 x 10-3 mbar. - 'Process according to Claim 5, characterized in that immediately after the molecular purification the pressure in the vacuum vessel is reduced to 1 x 10 -5 mbar and argon gas is introduced until the pressure reaches 5 x 10 -4, after which oxygen is applied until the pressure has risen to 2 x 10-3 mbar. - ' 7. Förfarande enligt krav 6, k ä n n e t e c k n a t av skiktet av oxider bygges upp till nämnda tjocklek mellan 0,5 och 1,0 mikron genom magnetronförstoftning med använd- ning av ett mål av den metall, som skall bringas att avsätta sig för att bilda nämnda metall.A method according to claim 6, characterized in that the layer of oxides is built up to said thickness between 0.5 and 1.0 microns by magnetron sputtering using a target of the metal to be deposited to form said metal. 8. Förfarande enligt krav 7, k ä n n e t e c k n a t av att beläggningen av reflekterande material anbringas direkt på nämnda skikt.8. A method according to claim 7, characterized in that the coating of reflective material is applied directly to said layer. 9. Förfarande enligt krav 8, k ä n n e t e c k n a t av det att det reflekterande materialet anbringas genom lik- strömsmagnetronförstoftning under användning av mâleffekt- täthetsnivåer,som successivt ökas från 4 W/cm2 till 12 W/cmz, till en skikttjocklek av 0,5 till 5,0 mikron uppnås.A method according to claim 8, characterized in that the reflective material is applied by direct current magnetron sputtering using target power density levels, which are successively increased from 4 W / cm 2 to 12 W / cm 2, to a layer thickness of 0.5 to 5.0 microns is achieved. 10. Förfarande enligt krav 9, k ä n n e t e c k n a t av att beläggningen av spegelreflekterande material är av krom och har en tjocklek av 0,5 till 5,0 mikron.10. A method according to claim 9, characterized in that the coating of mirror-reflecting material is of chromium and has a thickness of 0.5 to 5.0 microns. 11. Förfarande enligt krav 9, k ä n n e t e c k n a t av att beläggningen av spegelreflekterande material är av alu- minium.11. A method according to claim 9, characterized in that the coating of mirror-reflecting material is of aluminum. 12. Förfarande enligt krav 11, k ä n n e t e c k n a t av att ett hårt nötningsbeständigt ovanskikt anbringas på alu- miniumet med hjälp av ett radiofrekvent fält.12. A method according to claim 11, characterized in that a hard abrasion-resistant top layer is applied to the aluminum by means of a radio frequency field. 13. Förfarande enligt krav 11, k ä n n e t e c k n a t av att ett hårt nötningsbeständigt ovanskikt anbringas på alu- miniumet genom elektronknippeförångning.13. A method according to claim 11, characterized in that a hard abrasion-resistant top layer is applied to the aluminum by electron beam evaporation. 14. Förfarande enligt krav 12, k ä n n e t e c k n a t av att ovanskiktet omfattar ett skikt av dielektrisk oxid med en tjocklek mellan 0,5 och 5,0 mikron. 453 737 _' 10 _:14. A method according to claim 12, characterized in that the top layer comprises a layer of dielectric oxide with a thickness between 0.5 and 5.0 microns. 453 737 _ '10 _: 15. Förfarande enligt krav 14, k ä n n e t e c k n a t av att skiktet av glas anbringas i ett vakuumkärl génøm elektron- knippeförångning.15. A method according to claim 14, characterized in that the layer of glass is applied in a vacuum vessel by means of electron beam evaporation.
SE8500918A 1983-01-26 1985-02-25 PROCEDURE FOR MANUFACTURING AN OPTICAL COMPONENT WITH MIRROR REFLECTIVE PROPERTIES SE453737B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB838302165A GB8302165D0 (en) 1983-01-26 1983-01-26 Producing optical component

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE8500918D0 SE8500918D0 (en) 1985-02-25
SE8500918L SE8500918L (en) 1985-02-25
SE453737B true SE453737B (en) 1988-02-29

Family

ID=10536991

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8500918A SE453737B (en) 1983-01-26 1985-02-25 PROCEDURE FOR MANUFACTURING AN OPTICAL COMPONENT WITH MIRROR REFLECTIVE PROPERTIES

Country Status (20)

Country Link
JP (1) JPS60500502A (en)
AU (1) AU576487B2 (en)
BE (1) BE898767A (en)
CA (1) CA1246370A (en)
CH (1) CH665488A5 (en)
DE (1) DE3490033T1 (en)
DK (1) DK161754C (en)
ES (1) ES8501536A1 (en)
FR (1) FR2539881B1 (en)
GB (2) GB8302165D0 (en)
GR (1) GR81664B (en)
IE (1) IE55013B1 (en)
IT (1) IT1173135B (en)
NL (1) NL8420019A (en)
NO (1) NO843782L (en)
PH (1) PH23007A (en)
PT (1) PT78009B (en)
SE (1) SE453737B (en)
WO (1) WO1984002875A1 (en)
ZA (1) ZA84518B (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5394317A (en) * 1992-11-03 1995-02-28 Grenga; John J. Lamp reflector
FI121061B (en) * 2007-07-04 2010-06-30 Reate Oy Method and apparatus for manufacturing an optical object
DE102011007557B4 (en) 2011-04-16 2023-09-28 EvoChem Advanced Materials GmbH Process for increasing the smudge resistance or scratch resistance of plastic surfaces

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1002584B (en) * 1940-12-14 1957-02-14 Dr Georg Hass Process for improving the adhesive strength of metallic coatings
US3372008A (en) * 1961-05-29 1968-03-05 Philips Corp Metal reflector and method of manufacturing such reflectors
DE1521157C3 (en) * 1965-09-21 1978-12-21 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6201 Nordenstadt Process for increasing the strength of the bond between thin layers
US3530055A (en) * 1968-08-26 1970-09-22 Ibm Formation of layers of solids on substrates
CH494409A (en) * 1969-07-16 1970-07-31 Balzers Patent Beteilig Ag Front surface mirror and process for its manufacture
JPS4958171A (en) * 1972-10-06 1974-06-05
JPS5216586A (en) * 1975-07-30 1977-02-07 Daicel Chem Ind Ltd Surface-treated product of plastics and its preparation
US4022947A (en) * 1975-11-06 1977-05-10 Airco, Inc. Transparent panel having high reflectivity for solar radiation and a method for preparing same
DE2833133C3 (en) * 1978-07-28 1982-02-18 Glasplakatefabrik Offenburg Fritz Borsi KG, 7600 Offenburg Acrylic mirror and process for its manufacture
DE2852341A1 (en) * 1978-12-04 1980-06-26 Ver Flugtechnische Werke METHOD FOR METALLIZING PLASTIC SURFACES
DE3017713A1 (en) * 1980-05-08 1981-11-12 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Metallising polymer films - by sputtering adhesion promoting layer onto film and then vacuum depositing metal, used for resistance layers
JPS5713405A (en) * 1980-06-26 1982-01-23 Nhk Spring Co Ltd Reflecting mirror and its manufacture

Also Published As

Publication number Publication date
PT78009B (en) 1986-03-27
SE8500918D0 (en) 1985-02-25
GB2152703B (en) 1987-11-25
DK161754C (en) 1992-02-17
IT1173135B (en) 1987-06-18
ZA84518B (en) 1984-12-24
PH23007A (en) 1989-02-24
CH665488A5 (en) 1988-05-13
GB8503825D0 (en) 1985-03-20
GB2152703A (en) 1985-08-07
CA1246370A (en) 1988-12-13
GR81664B (en) 1984-12-12
WO1984002875A1 (en) 1984-08-02
DK458684A (en) 1984-09-25
IE840138L (en) 1984-07-26
DE3490033T1 (en) 1986-03-13
BE898767A (en) 1984-05-16
IE55013B1 (en) 1990-04-25
FR2539881A1 (en) 1984-07-27
SE8500918L (en) 1985-02-25
ES529203A0 (en) 1984-11-16
NO843782L (en) 1984-09-21
DK161754B (en) 1991-08-12
IT8419314A0 (en) 1984-01-25
ES8501536A1 (en) 1984-11-16
AU576487B2 (en) 1988-09-01
PT78009A (en) 1984-02-01
NL8420019A (en) 1985-10-01
GB8302165D0 (en) 1983-03-02
AU2495584A (en) 1984-08-15
JPS60500502A (en) 1985-04-11
FR2539881B1 (en) 1988-05-27
DK458684D0 (en) 1984-09-25
IT8419314A1 (en) 1985-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104746050B (en) Plasma coating system for non-planar substrates
EP0030732A2 (en) Transparent electrically conductive film and process for production thereof
US5958155A (en) Process for producing thin film
GB2105729A (en) Surface processing of a substrate material
US20110111131A1 (en) Method for producing a multicomponent, polymer- and metal-containing layer system, device and coated article
JPH0931630A (en) Transparent electrically conductive film and its production
SE453737B (en) PROCEDURE FOR MANUFACTURING AN OPTICAL COMPONENT WITH MIRROR REFLECTIVE PROPERTIES
JP4260907B2 (en) Film laminate
RU2300579C2 (en) Method of application of the coating on the surface of the metallic material and the device for the method realization
JP5442375B2 (en) Optical element manufacturing method
US5009761A (en) Method of producing an optical component, and components formed thereby
JPH01119662A (en) Manufacture of thin film of organic matter
JPH06272054A (en) Substrate for forming organic thin film and its production
WO1980000970A1 (en) Method of applying glass layers to polycarbonate
JPS60258460A (en) Manufacture of electrically conductive transparent film
KR101541255B1 (en) HMDSO layer and AF layer coating method on aluminum metal layer
JPH0649244A (en) Surface-modified fluororesin molding and its production
JP2001105538A (en) Bedewing/clouding preventive organic membrane
JP2001049433A (en) Resin substrate coated with amorphous carbon film and film forming method
JPH04182601A (en) Synthetic resin mirror
KR20020005829A (en) Method of manufacturing a Metal-Sheet-Film
JPH0222143B2 (en)
JPH05222110A (en) Device for forming thin film
JPH07267685A (en) Method for forming transparent electrically-conductive layer and transparent insulating layer on glass
JPH0639685B2 (en) Method for producing hard black oxide thin film

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed

Ref document number: 8500918-1

Effective date: 19920806

Format of ref document f/p: F