SE407242B - Sett att forbettra kopparfoliers bindningshallfasthet - Google Patents
Sett att forbettra kopparfoliers bindningshallfasthetInfo
- Publication number
- SE407242B SE407242B SE7212940A SE1294072A SE407242B SE 407242 B SE407242 B SE 407242B SE 7212940 A SE7212940 A SE 7212940A SE 1294072 A SE1294072 A SE 1294072A SE 407242 B SE407242 B SE 407242B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- copper
- arsenic
- treatment
- foil
- electrolyte
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
- C07D239/52—Two oxygen atoms
- C07D239/54—Two oxygen atoms as doubly bound oxygen atoms or as unsubstituted hydroxy radicals
- C07D239/545—Two oxygen atoms as doubly bound oxygen atoms or as unsubstituted hydroxy radicals with other hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/553—Two oxygen atoms as doubly bound oxygen atoms or as unsubstituted hydroxy radicals with other hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms with halogen atoms or nitro radicals directly attached to ring carbon atoms, e.g. fluorouracil
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/58—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
- C25D5/617—Crystalline layers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0011—Sample conditioning
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
- H05K3/384—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/03—Metal processing
- H05K2203/0307—Providing micro- or nanometer scale roughness on a metal surface, e.g. by plating of nodules or dendrites
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0723—Electroplating, e.g. finish plating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
- Y10S428/9335—Product by special process
- Y10S428/936—Chemical deposition, e.g. electroless plating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12389—All metal or with adjacent metals having variation in thickness
- Y10T428/12396—Discontinuous surface component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12472—Microscopic interfacial wave or roughness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12681—Ga-, In-, Tl- or Group VA metal-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12903—Cu-base component
- Y10T428/1291—Next to Co-, Cu-, or Ni-base component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
Description
12129Åöïs
låter uppnåendet av en förbättrad bindningshållfasthet, har den
emellertid samtidigt tjänat till att åstadkomma nämnvärda pulver-
och oxidöverföringsproblem. Medan dessa problem undvikes genom en
minskning av tjockleken hos kopparelektrofutfällningen på folien,
har den nödvändiga konsekvensen av sådan minskning varit en icke*
-önsxvära förlust i binaningsnåilfastnec.
Föreliggande uppfinning avser ett sätt att förbättra koppar-
foliers bindningshållfasthet; t.ex. vid framställning av tryckta
kretskort, bestående av ett dielektriskt underlag, till vilket
Akopparfolien bindes, genom elektrokemisk behandling av en av kop-
parfoliens ytor och kännetecknas av att man utsätter den ena ytan
för en tvåstegs elektrokemisk behandling, varvid man i det första
_ steget behandlar ytan med en kopparhaltig elektrolyt, som inne-
håller arsenik, antimon, vismut, selen eller tellur, företrädesvis
arsenik och på ytan elektrolytiskt utfäller ett första kopparskikt,
som ökar den råa foliens bindningshâllfasthet och att man i det
andra steget behandlar ytan med en kopparhaltig elektrolyt och på
den i första steget erhållna folieytan elektrolytiskt utfäller ett
andra-guldglänsande kopparskíkt, vars konfiguration väsentligen
överensstämmer med det första skiktets, samt att man eventuellt
behandlar den så erhållna ytan med en kopparhaltig elektrolyt, som
eventuellt innehåller arsenik, antimon, vismut, selen eller tellur,
företrädesvis arsenik och elektrolytiskt utfäller ett mikrokris-
tallint kopparskikt.
Följaktligen är ett syfte enligt föreliggande uppfinning
att åstadkomma ett nytt sätt och alster framställda genom detta
'för att ge en folie med utmärkt bindningshållfasthet som gör den
synnerligt väl lämpad för att användas för tryckta elektroniska
kretsar. ' --
Dessa och andra syften och fördelar med föreliggande upp-
finning kommer att framgå i samband med efterföljande beskrivning
och patentkrav. f
Enligt en utföringsform enligt föreliggande uppfinning
underkastas kopparfolien först en tvåstegs förbehandling för att
bereda den för och förbättra effektiviteten hos den_slutgi1tiga
elektrokemiska behandlingen. I det första förbehandlingssteget
väljes betingelserna så att ytan hos folien som skall bindas till
ett bärande underlag förses med en koppar- och arsenikhaltig
elektroutfållning som kommer att öka bindningshållfastheten hos
.mi vizifizsao-c
den råa folien från ca 0,9 - 1,15 kg/cm av laminatbredd till ca
1,7 - 1,8 kg/cm av laminatbredd. (Bindningshållfastheten mätes
som följer: Folien bindes till ett epoxihartsimpregnerat fiber-
glasunderlag på ett vanligt sätt. Epoxihartset användes i dess
"B" steg och härdas i kontakt med den behandlade ytan hos folien
under ett tryck av ca 35 kg/cm? vid ca 165 - l70°C. Den slutgiltiga
tjockleken hos lamínatet är ca 1,5 mm med folien utgörande oa-
0,038 mm av totala tjockleken. Det så framställda laminatet skäres
sedan till 12,7 mm breda strimlor och utsättas för bindningshåll-
fasthetsprovningar på följande sätt: Koppar skalas av från glas-
tygunderlaget med en hastighet av 50,8 mm/minut i en riktning vin-
kelrät till laminatet. Den erforderliga kraften för att avskala
kopparn från underlaget avläses på en kraftmätare och mätes i kg.
Denna avläsning dubblas för att erhålla avskalningshållfastheten
per cm laminatbredd. En bindningshâllfasthet av 1,8 kg/cm laminat-
bredd bedömes vara mycket acceptabel. En bindningshållfasthet av
2,1 kg/cm eller mer bedömes vara exceptionell.) Kopparelektrout-
fällningen som resultat från denna första förbehandling gör ytan
hos folien grov och sträv men är strukturellt mindre tät än som
skulle vara önskvärt i behandlad folie avsedd för tryckta kretsar.
I syfte att förbättra strukturegenskaperna hos folien, användes
ett andra förbehandlingssteg för att påföra en "instängande" eller
"guldglänsande" kopparelektroutfällning på den första elektrout-
fällningen som erhållits från första förbehandlingssteget. Denna
andra elektroutfällning stör ej väsentligt bíndningshållfastheten
som resulterar från det första förbehandlingssteget (den resulte-
rande bindningshållfastheten är i storleksordningen 1,6 - 1,8
kg/cm bredd) medan den minskar eller eliminerar de ofördelaktiga
pulveröverföringsegenskaper som folien annars skulle ha som ett
resultat av det första förbehandlingssteget.
Efter de föregående förbehandlingsstegen utsättas koppar-
folien för en tredje elektrokemisk behandling för att på det andra
elektroutfällda kopparskiktet utfälla ett tredje, mikrokristallint,
koppar- och arsenikhaltigt elektroutfällt skikt.
Mängden av koppar utfälld under denna tredje behandling
begränsas för att undvika icke önskvärda pulver- och oxidöverfö-
ringsproblem. Trots detta faktum resulterar den sista elektro-
kemiska behandlingen i en extraordinär och helt oväntad ökning i
bindningshållfasthet gentemot och över graden av förbättring 3
míáÅéàuio-š “i
Ibindningshållfasthet som annars kan uppnås med samma steg genom
behandling på rå folie. Sålunda åstadkommer den tredje elektroke-
miska behandlingen en ökning så stor som 0,5 - 0,7 kg/cm laminat-
bredd upp till ca 2,5 kg/om laminatbredd. En sådan 0,5 - 0,7
kg/cm ökning i bindningshållfasthet skulle ej vara ovanlig i en
vanlig behandlingsprocess. Vad som är ovanligt är att en sådan
ökning kan erhållas utan medföljande pulver- och oxidöverförings-
problem och från en begränsad tjockleksutfällning som normalt
skulle förväntas åstadkomma endast hälften så mycket ökning i
bindningshållfasthet. “
d Tabell A visar de ungefär önskvärda områdena för tillstånd
för genomförande av sättet enligt föreliggande uppfinning (föredrag-
na områden angives inom parentes).
Tabell A
Tillstånd lza förbe- 2:a förbe- Sista elektro-
handlings~ handlings- kemiska be-
steget steget handlingen
Katodströmtäthet 10,8-32,2 10,8-32,2 5,Ä-21,5
A/ame (isen-sam) (1s,1-2e,9) <5,u-16,1>
Temperatur (°c) 16-u9 32-71 21-38
(21-38) (38-6o) (214-29)
Kopparkoncentra- 10-40 I 0 40-120 4-10
tion (g/l,
kalk. som Gu)- (20-30) (60-80) (H,5-5,5)
Syrakoncentration 30-100 30-100 30-100
(g/1, kalk. som
Hasou) (so-ioø) (so-mo) (50-65)
Arsenikkonoentration 0,03-5 - 0-0,5
(g/1, kalk. som As) (0,3-1,5), 7 (0,l5-0,3)
Cirkulatiøn (fraktion 0-1/10 O-1/10 0-l/10
av total vol. återcir- _
kulerad per minut)
Tid (sek-) 5-30 - 5-30 5-30
(10-14) (8-12) (8-12)
Katod Kopparfolie Kopparfolie Kopparfolie
Anod _ Företrädesvis Företrädesvis Företrädesvis
olösligt bly _olösligt bly olösligt bly
Som komer att stå klart för fackmannen på området, kommer
de speciella betingelserna använda inom ett givet av de uppräknade
områdena att påverkas av tillståndet använt inom de andra av nämnda
områden. Exempelvis innebär att ju högre kopparkoncentrationen är,
desto lägre blir temperaturen och desto högre katodströmtätheten.
7212940-s
Graden av elektrolytcirkulation använd är den som är till-
räcklig för att upprätthålla i huvudsak homogen elektrolytkompo-
sition och -temperatur. U
Elektroutfällningarna som erhålles från var och en av de
två förbehandlingarna och från det slutgiltiga behandlingssteget
kommer generellt att variera inom följande ungefärliga tjockleks-
områden:
Éwabell B
Tjocklek (g/m2 av folieytan)
1:a förbehandlingsstegeti =ü-12
(företrädesvis 6)
2:a förbehandlingssteget U-12
(företrädesvis 6)
3:e behandlingssteget l-N
(företrädesvis 1,5)
Medan åtminstone en del av fördelarna med föreliggande upp-
finning kommer att erhållas även om gränserna såsom de i tredje be-
handlingssteget överskrides, erhålles de bästa resultaten (dvs und-
vikande av pulver- och oxidöverföringsproblem medan man erhåller
betydande bindningsförbättring) inom de angivna gränserna. Största
betydelse för föreliggande uppfinning är att dessa gränser ej bör
överskridas för att uppnå en övervägande ökning i bíndningshåll-
fasthet.
' Av kritisk betydelse vid tillämpning av föreliggande upp-
finning är användandet av arsenik i det första förbehandlingssteget.
Om någon arsenik ej användes i detta steg, kommer resultaten av de
första två förbehandlingsstegen att vara ett flertal kopparelektro-
utfällningar på kopparfolien som är tillräckligt oreceptiva för
den tredje elektrokemiska behandlingen varför ett betydande pulver-
eller oxidöverföringsproblem kommer att bli resultatet. Genom att
inbegripa arsenik i det första förbehandlingssteget, resulterar
tvåstegsförbehandlingen i en förbehandlad folie som är bättre läm-
pad (dvs är mera receptiv) för att mottaga den slutgiltiga
elektrokemiska behandlingen.
I Det är av intresse att notera att medan arsenik inbegripes
i det genom första förbehandlingen elektroutfällda kopparskiktet,
den utfällda mängden är liten jämförd med mängden av arsenik i
lösningen. Detta torde utan tvekan kunna förklaras genom det faktum,
att arsenik har stor svårighet att samutfällas när kopparkoncentra-
tionen är så hög som den är i det första förbehandlingsstegetí
721294646,
Arsenik inbegripes i en proportionellt något större kvan-
titet i den slutgiltiga behandlingens elektroutfällning. Det bör
emellertid noteras, att medan bästa resultaten uppnås genom använd-
ning av arsenik i den tredje behandlingen, bör fördelarna enligt
föreliggande uppfinning (ehuru något minskade) icke desto mindre
uppnås utan dess användning.
Det andra förbehandlingssteget är ävenså kritiskt. Om den
slutgiltiga behandlingen tillämpas direkt på den första behand-
-lingen utan ett mellanliggande guldglänsande skikt, skulle de re-
sulterande pulver- och okidöverföringsproblemen vara såväl be-
å tydande som oacceptabla. Genom att anbringa ett guldglänsande
skikt mellan de två undvikes detta problem.
I Som tidigare nämnts är ökningen i bindningshållfasthet er-
hållen från den slutgiltiga elektrokemiska behandlingen icke endast
extraordinär utan även totalt överraskande. I syfte att erhålla
denna typ av ökning i bindningshållfasthet utan förbehandlingen,
skulle man ha att arbeta under elektrolytiska betingelser sådana
att de åstadkom betydande pulver- och oxidöverföringsproblem.
Försök att eliminera dessa pulver- och oxidöverföringsproblem utan
förbehandlingen skulle resultera i förlust av den betydande ökning
i bindningshållfasthet som annars erhålles med den. Vad som är
verkligt överraskande är att den slutgiltiga elektrokemiska be-
handlingen använd enligt föreliggande sätt kan genomföras för att
åstadkomma en så liten kopparutfällning som tidigare angivits.
under erhållande av den häpnadsväckande bindningsförbättringen
som ovan angivits.
Sättet enligt föreliggande uppfinning genomföres företrä-
desvis i tre separata behandlingstankar som en serieoperation.
Med andra ord bringas kopparfolie genom den första tanken och
bringas därefter i sekvens genom andra och tredje tankar. Alterna-
tivt (ehuru ej föredraget), kan alla tre behandlingarna genomföras
i en enda tank med tömning av tanken mellan behandlingarna, ehuru
detta skulle utesluta kontinuerlig drift. '
Den speciella anordningen använd för att anbringa vart
och ett av de elektroutfällda skikten på ytan hos kopparfolien
bildar ej någon del av föreliggande uppfinning. Sådana skikt kan
emellertid bekvämt anbringas genom att bringa kopparfolien genom
en elektrolyt intill plattanoder med kopparfolien bragt i en
serpentinväg i närheten till sådana anoder och, genom lämpligjkon-
7212940-6
takt mellan kopparfolien och ledande rullar, göres kopparfolien
katodisk i kretsen. Genom att bringa kopparfolien genom ett sådant
system att ytan hos folien som skall beläggas vändes mot den ak-
tiva ytan hos anoderna, kommer metallen att beläggas på nämnda
yta att elektroutfällas därpå från elektrolyten. Det bör observe-
ras, i syfte att genomföra den föredragna utföringsformen, att
anordningen som användes kommer att bestå av tre separata behand-
lingstankar.
Som förut nämnts, är det inom ramen för föreliggande upp-
finning inte endast möjligt att åstadkomma ett nytt sätt för att
framställa kopparfolie med god bindningshållfasthet och koppar-
folie framställd därigenom utan även att åstadkomma laminat be-
stående av nämnda kopparfolie bunden till ett lämpligt underlag.
Det är uppenbart att det speciella underlaget använt i detta la-
minat kan variera beroende på användningen för vilket laminatet
är avsett och de drifttillstånd under vilka sådant laminat kommer
att användas. Särskilt lämpliga underlag som passar för laminatet
att användas vid bildande av tryckta kretsar inbegriper epoxi-
hartsimpregnerade fiberglasunderlag såsom det förutnämnda, epoxi-
impregnerat papper, fenolhartsimpregnerat papper och liknande.
Såväl böjliga som ickeböjliga underlag såsom teflon impregnerat
fibergiïs ("Teflon" är handelsnamnet för polytetrafluoretylen),
Kel-F impregnerat fiberglas (“Kel-F") är handelsnamnet för vissa
fluorkolprodukter inbegripande polymerer av trifluorkloretylen
och vissa sampolymerer) och liknande är även användbara. Andra
böjliga underlag inbägïiper polyimide såsom de kända under be-
teckningarna "Kapton " och "H-Film<É)" (båda är framställda av
du Pont och är polyimidplaster framställda genom kondensering av
en pyromellitinsyraanhydrid med en aromatisk diamin).
Bindemedlen eller limmen använda för att binda den behand-
lade kopparfolien till underlaget är de som vanligtvis användes
för den speciella tillämpningen ifråga, "FEP" (en fluorerad
etylenpropylenplast i form av en sampolymer av tetrafluoreten och
hexafluorpropen med egenskaper
lämplig för Teflon R och Kel-F och vanliga epoxihartser är an-
vändbara för de andra materialen. Sättet att binda kopparfolien
till underlaget är vanligt och bildar ej någon del av föreliggande
uppfinning, varvid typiska detaljer för sådan bindning angives
exempelvis i amerikanska patentskriften 3328 275. J
f. 12129l4d¥éllll
Efterföljande exempel visar ytterligare föredragna utfö-
ringsformer inom ramen för föreliggande uppfinning.
Exempel 1 *
l I detta exempel anbringas kopparskikt på folie i en elektro-
lytisk cell av den generella typ som förut beskrivits. Folien
bringas i kontinuerlig sekvens genom var och en av tre tankar som
angivits.
En rulle av 28,35 g koppar elektrobelades med ett koppar-
skikt i en första behandlingstank innehållande en vattenhaltig
elektrolyt och under användande av följande hetingelser:
Katoaströmcäthet A/amg ' 17,2
Temperatur (°C) 24
Kopparkoncentratíon (g/l,
kalkylerad som Cu) p 30
Syrakoncentratíon (g/1,
pkalkylerad som H2S0u) 60
Arsenikkoneentratíon (erhållen
_från arseniksyra, kalkylerad
som g/l av As) 3/50
Tid (sek) ' p 12
Katode Kopparfolíe
Anod Olösligt bly
Den så behandlade kopparfolien har på en av dess ytor en
pulveraktig kopparelektroutfällníng. Som ett resultat av detta
behandlingssteg har den behandlade folien en bindníngshållfasthet
av ca 1,7-1,8 kg/cm.
Denna folie behandlas sedan i en andra behandlíngstank
innehållande en vattenhaltig elektrolyt för att utfälla ett guld-
glänsande eller ínstängande kopparskíkt över det tidigare anbragta
nodulära kopparskíktet. Denna guldglänsníngsbehandling eller in-
stängningsbehandling genomföras under tillämpande av följande be-
tíngelser:
Katodströmtäthet A/dmg 21,5
Temperatur (°C) p H9
Kopparkonoentratíon (3/l,
kalkylerad som Cu) 70
Syrakoncentratíon (g/1,
kalkylerad som HZSOH) e 60
Cirkulation (fraktion av total p
vol. återcirkulerad/min.) 3/50
Tid (sek) l e. 12;
Katod Kopparfolíe
Anod Olöâligt bly
72129h0-6
1
Den så behandlade folien har en bindningshâllfasthet av
ca 1,6-1,8 kg/cm.
Kopparfolien som har utsatts för de föregående två förbe-
handlingsstegen bringas sedan in i en tredje behandlingstank inne-
hållande vattenhaltíg elektrolyt under tillämpande av följande be-
tingelser: _
Katoaströmtäcnet i A/amz 6 , 5
Temperatur (OC) 27
Kopparkoncentration (g/1,
kalkylerad som Cu) -5
Syrakoncentration (g/l, W
kalkylerad som HZSOU) 60
Arsenik (erhâllen från arsenik-
syra, kalkylerad som g/l av As) 0,25
Cirkulation (fraktion av total
vol. återcirkulerad/min.) 3/50
Tid (sek) 12
Katod iKopparfolie
Anod ” Olösligt bly
Den så behandlade folien har en bindningshâllfasthet av
ca 2,5 kg/cm.
Kopparfolien använd i behandlingssättet enligt föreliggande
uppfinning bildas företrädesvis elektrolytiskt men kan även fram-
ställas genom valsningsteknik. Arseniken använd i det första för-
behandlingssteget och i den slutgiltiga elektrokemiska behand-
lingen användes företrädesvis i dess (+5) form såsom genom till-
sättning av arseniksyra eller arsenikoxid till elektrolyten, även
om varje syralöslig förening av arsenik kan användas för detta
syfte.
Bästa resultaten erhålles med användning av arsenik som
tillsatsen i det första förbehandlingssteget och i det slutgiltiga
elektrokemiska behandlingssteget. I stället för arsenik kan andra
tillsatser användas. Föredragna bland dessa andra tillsatser är
antimon, med vismut, selen och tellur som mindre föredragna.
I den föregående delen av beskrivningen har ett nytt sätt
beskrivits för behandling av kopparfolie för att förbättra dess
bindningshållfasthet. Detta sätt består av två förbehandlingssteg
och en tredje elektrokemisk behandling, varvid den senare före-
trädesvis inbegriper användandet av en koppar- och arsenikhaltig
elektrolyt. Medan detta trestegssätt bildar den föredragna utfö-
.J
”mššíššíí-iš”"wflmèw"""Wimfl-"M “““““““ _'
10
ringsformen enligt föreliggande uppfinning, kan fördelarna med
föreliggande uppfinning även uppnås med en annan utföringsform
inbegripande endast de första och andra förbehandlingsstegen som
den fullständiga behandlingen tillämpad på folien. En sådan två-
stegsbehandling åstadkommer en elektroutfällning som inte endast
'förbättrar bindningshållfastheten avsevärt utan som även är
extremt tät och stark.
Uppfinningen kan inrymma andra specifika former utan att
dessa avviker från uppfinningens tankegång eller väsentliga känne-
tecken. Föreliggande utföringsformer är därför att betrakta såsom
i belysande men ej begränsande, varvid uppfinningens ram angives
av bifogade patentkrav snarare än genom föregående beskrivning,
varfär alla avvikelser som kommer att falla inom betydelsen och
fområdena av ekvivalens för kraven därför avses omfattas av dessa.
Claims (5)
1. Sätt att förbättra kopparfoliers bindningshåll- fasthet, t.ex. vid framställning av tryckta kretskort, be- stående av ett dielektriskt underlag, till vilket kopparfo- lien bindes, genom elektrokemisk behandling av en av koppar- foliens ytor, k ä n n e t e c k n a t avgatt man utsätter den ena ytan för en tvåstegs elektrokemisk behandling, varvid man i det första steget behandlar ytan med en kopparhaltig elektro- lyt, som ínnehâller.arsenik, antimon, vismut, selen eller tellur, företrädesvis arsenik och på ytan elektrolytiskt ut- fäller ett första kopparskikt, som ökar den råa foliens bind- ningshållfasthet och att man i det andra steget behandlar ytan med en kopparhaltig elektrolyt och på den i första steget er- hållna folieytan elektrolytiskt utfäller ett andra guldglän- sande kopparskikt, vars konfiguration väsentligen överensstäm- mer med det första skiktets, samt att man eventuellt behandlar den så erhållna ytan med en kopparhaltig elektrolyt, som even- tuellt innehåller arsenik, antimon, vismut, selen eller tellur, företrädesvis arsenik och elektrolytiskt utfäller ett mikro- kristallint kopparskikt.
2. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t av att ytan underkastas även den tredje behandlingen med kopparhal- tig elektrolyt, som innehåller arsenik, antimon, vismut, selen eller tellur, företrädesvis arsenik.
3. Sätt enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att vid den tredje behandlingen l-Å g metall utfälles per m2. folieyta. '
H. sätt enlig: krav 1, k ä n n e t e c x n a t av att elektrolytens koppar- och arsenikhalt i det_första och det tredje steget hâlles vid följande-halter: Q lša stegeti '3:e steget 10-no ' u-10 o:o3'5 O'095
5. Sätt enligt krav H, k ä n n e t e c k n a t av att elektrolytens arsenikhalt (g/1) i det första steget hålles vid 0,3-1,5. Cu (3/1) As (g/1) ANFÖRDA PUBLIKATIONER: Sverige patentansökan 13 565/69 US 2 802 897 (174-110), 3 293 109 (161~16óJ 7212940-6
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US187923A US3918926A (en) | 1971-10-08 | 1971-10-08 | Plural copper-layer treatment of copper foil and article made thereby |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE407242B true SE407242B (sv) | 1979-03-19 |
Family
ID=22691043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7212940A SE407242B (sv) | 1971-10-08 | 1972-10-06 | Sett att forbettra kopparfoliers bindningshallfasthet |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3918926A (sv) |
JP (2) | JPS5338700B2 (sv) |
BE (1) | BE789715A (sv) |
DE (1) | DE2249796C3 (sv) |
FR (1) | FR2156030B1 (sv) |
GB (1) | GB1413494A (sv) |
IT (1) | IT966231B (sv) |
LU (1) | LU66249A1 (sv) |
NL (1) | NL158560B (sv) |
SE (1) | SE407242B (sv) |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4061837A (en) * | 1976-06-17 | 1977-12-06 | Hutkin Irving J | Plastic-metal composite and method of making the same |
JPS54145965A (en) * | 1978-05-08 | 1979-11-14 | Nippon Mining Co | Method of and apparatus for producing board for printed circuit |
JPS5515216A (en) * | 1978-07-20 | 1980-02-02 | Mitsui Anakonda Dohaku Kk | Printed circut copper foil and method of manufacturing same |
US4376682A (en) * | 1980-04-07 | 1983-03-15 | Tdc Technology Development Corporation | Method for producing smooth coherent metal chalconide films |
US4357395A (en) * | 1980-08-22 | 1982-11-02 | General Electric Company | Transfer lamination of vapor deposited foils, method and product |
US4468293A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-28 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US4431685A (en) * | 1982-07-02 | 1984-02-14 | International Business Machines Corporation | Decreasing plated metal defects |
US4515671A (en) * | 1983-01-24 | 1985-05-07 | Olin Corporation | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength |
US4490218A (en) * | 1983-11-07 | 1984-12-25 | Olin Corporation | Process and apparatus for producing surface treated metal foil |
GB8333752D0 (en) * | 1983-12-19 | 1984-01-25 | Thorpe J E | Matte surface on metal layer |
DE3447669A1 (de) * | 1983-12-29 | 1985-07-18 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Verbundstruktur aus metall und kunstharz sowie verfahren zu deren herstellung |
US4549940A (en) * | 1984-04-23 | 1985-10-29 | Karwan Steven J | Method for surface treating copper foil |
DE3427554A1 (de) * | 1984-07-26 | 1986-02-06 | Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen | Verfahren zur erzeugung einer haftvermittelnden metallschicht |
US4568431A (en) * | 1984-11-13 | 1986-02-04 | Olin Corporation | Process for producing electroplated and/or treated metal foil |
US4549941A (en) * | 1984-11-13 | 1985-10-29 | Olin Corporation | Electrochemical surface preparation for improving the adhesive properties of metallic surfaces |
US4552627A (en) * | 1984-11-13 | 1985-11-12 | Olin Corporation | Preparation for improving the adhesion properties of metal foils |
US4549950A (en) * | 1984-11-13 | 1985-10-29 | Olin Corporation | Systems for producing electroplated and/or treated metal foil |
US4551210A (en) * | 1984-11-13 | 1985-11-05 | Olin Corporation | Dendritic treatment of metallic surfaces for improving adhesive bonding |
US4532014A (en) * | 1984-11-13 | 1985-07-30 | Olin Corporation | Laser alignment system |
JPS63103075A (ja) * | 1986-10-14 | 1988-05-07 | エドワ−ド アドラ− | マイクロ樹枝状体配列を介して結合された金属層で被覆可能とされる表面を有する樹脂製品並びに該金属層被覆樹脂製品 |
US4692221A (en) * | 1986-12-22 | 1987-09-08 | Olin Corporation | In-situ dendritic treatment of electrodeposited foil |
US4927700A (en) * | 1988-02-24 | 1990-05-22 | Psi Star | Copper etching process and product with controlled nitrous acid reaction |
US4846918A (en) * | 1988-02-24 | 1989-07-11 | Psi Star | Copper etching process and product with controlled nitrous acid reaction |
US5057193A (en) * | 1989-04-05 | 1991-10-15 | Olin Corporation | Anti-tarnish treatment of metal foil |
US4961828A (en) * | 1989-04-05 | 1990-10-09 | Olin Corporation | Treatment of metal foil |
TW208110B (sv) * | 1990-06-08 | 1993-06-21 | Furukawa Circuit Foil Kk | |
US6042711A (en) * | 1991-06-28 | 2000-03-28 | Gould Electronics, Inc. | Metal foil with improved peel strength and method for making said foil |
JPH08222857A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-30 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅箔および該銅箔を内層回路用に用いた高密度多層プリント回路基板 |
US5679230A (en) * | 1995-08-21 | 1997-10-21 | Oak-Mitsui, Inc. | Copper foil for printed circuit boards |
US6270645B1 (en) | 1997-09-26 | 2001-08-07 | Circuit Foil Usa, Inc. | Simplified process for production of roughened copper foil |
US6060666A (en) * | 1997-12-22 | 2000-05-09 | Foil Technology Development Corporation | Electrolytic layer applied to metallic foil to promote adhesion to a polymeric substrate |
US6372113B2 (en) | 1999-09-13 | 2002-04-16 | Yates Foil Usa, Inc. | Copper foil and copper clad laminates for fabrication of multi-layer printed circuit boards and process for producing same |
US6342308B1 (en) * | 1999-09-29 | 2002-01-29 | Yates Foil Usa, Inc. | Copper foil bonding treatment with improved bond strength and resistance to undercutting |
US8987602B2 (en) * | 2012-06-14 | 2015-03-24 | Zhuhai Advanced Chip Carriers & Electronic Substrate Solutions Technologies Co. Ltd. | Multilayer electronic support structure with cofabricated metal core |
US9114356B2 (en) * | 2012-09-20 | 2015-08-25 | Clean Air Group, Inc. | Fiberglass dielectric barrier ionization discharge device |
KR101734840B1 (ko) * | 2016-11-11 | 2017-05-15 | 일진머티리얼즈 주식회사 | 내굴곡성이 우수한 이차전지용 전해동박 및 그의 제조방법 |
CN110453246B (zh) * | 2019-08-28 | 2021-03-23 | 中南大学 | 一种从铜电解液中原位合成铜砷合金的方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2135873A (en) * | 1934-11-22 | 1938-11-08 | Bausch & Lomb | Process of making metal reflectors |
US2802897A (en) * | 1952-07-18 | 1957-08-13 | Gen Electric | Insulated electrical conductors |
GB757892A (en) * | 1952-11-08 | 1956-09-26 | Ferranti Ltd | Improvements relating to the electrolytic production of copper foils |
US3220897A (en) * | 1961-02-13 | 1965-11-30 | Esther S Conley | Conducting element and method |
US3293109A (en) * | 1961-09-18 | 1966-12-20 | Clevite Corp | Conducting element having improved bonding characteristics and method |
BE621510A (sv) * | 1964-10-29 | |||
FR1569925A (sv) * | 1968-04-17 | 1969-06-06 |
-
0
- BE BE789715D patent/BE789715A/xx not_active IP Right Cessation
-
1971
- 1971-10-08 US US187923A patent/US3918926A/en not_active Expired - Lifetime
-
1972
- 1972-10-04 FR FR7235178A patent/FR2156030B1/fr not_active Expired
- 1972-10-06 LU LU66249A patent/LU66249A1/xx unknown
- 1972-10-06 DE DE2249796A patent/DE2249796C3/de not_active Expired
- 1972-10-06 NL NL7213582.A patent/NL158560B/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-06 IT IT53224/72A patent/IT966231B/it active
- 1972-10-06 SE SE7212940A patent/SE407242B/sv unknown
- 1972-10-09 GB GB4644472A patent/GB1413494A/en not_active Expired
- 1972-10-09 JP JP10146972A patent/JPS5338700B2/ja not_active Expired
-
1976
- 1976-06-11 JP JP51067806A patent/JPS5217336A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5338700B2 (sv) | 1978-10-17 |
FR2156030A1 (sv) | 1973-05-25 |
JPS5217336A (en) | 1977-02-09 |
JPS5339327B2 (sv) | 1978-10-20 |
FR2156030B1 (sv) | 1978-06-02 |
NL7213582A (sv) | 1973-04-10 |
JPS4845466A (sv) | 1973-06-29 |
LU66249A1 (sv) | 1973-01-23 |
US3918926A (en) | 1975-11-11 |
DE2249796A1 (de) | 1973-04-12 |
IT966231B (it) | 1974-02-11 |
DE2249796B2 (de) | 1980-06-26 |
GB1413494A (en) | 1975-11-12 |
NL158560B (nl) | 1978-11-15 |
BE789715A (fr) | 1973-02-01 |
DE2249796C3 (de) | 1982-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE407242B (sv) | Sett att forbettra kopparfoliers bindningshallfasthet | |
US3220897A (en) | Conducting element and method | |
US5403465A (en) | Electrodeposited copper foil and process for making same using electrolyte solutions having controlled additions of chloride ions and organic additives | |
US4468293A (en) | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength | |
DE2235522C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Kupferfolie mit galvanisch aufgebrachten Metallschichten, insbesondere für die Fertigung gedruckter Schaltkreise | |
US4515671A (en) | Electrochemical treatment of copper for improving its bond strength | |
US3674656A (en) | Bonding treatment and products produced thereby | |
KR100951211B1 (ko) | 프라이머 수지층을 구비한 캐리어박 부착 전해 동박 및 그제조 방법 | |
US20210259113A1 (en) | Manufacturing method of circuit board assembly for high frequency signal transmission | |
US4490218A (en) | Process and apparatus for producing surface treated metal foil | |
CN1288946C (zh) | 表面处理的铜箔的制备方法 | |
CN102152528B (zh) | 稀土改性剥离强度的载体超薄铜箔及其制备方法 | |
JPH0447038B2 (sv) | ||
CN1247821C (zh) | 电沉积铜箔 | |
CN1113982C (zh) | 非氰化物黄铜电镀浴及用其制造有黄铜层金属箔的方法 | |
JP6537278B2 (ja) | 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法 | |
US4293617A (en) | Process for producing strippable copper on an aluminum carrier and the article so obtained | |
USRE30180E (en) | Plural copper-layer treatment of copper foil and article made thereby | |
US5207889A (en) | Method of producing treated copper foil, products thereof and electrolyte useful in such method | |
KR20090084517A (ko) | 내열성과 내약품성이 개선된 인쇄회로용 동박 및 그제조방법 | |
JP2005008972A (ja) | 銅箔の表面粗化方法及び表面粗化装置 | |
CN114990656B (zh) | 一种用于多层复杂pcb板制造的铜箔、制备方法以及制备用添加剂 | |
JPS58164797A (ja) | 結合強さを改良する銅の電気化学的処理 | |
JP2006274361A (ja) | 電解銅箔及びその電解銅箔の製造方法 | |
US3332754A (en) | Printed circuit |