RU2762733C1 - Раствор для химического никелирования металлических изделий - Google Patents
Раствор для химического никелирования металлических изделий Download PDFInfo
- Publication number
- RU2762733C1 RU2762733C1 RU2021104077A RU2021104077A RU2762733C1 RU 2762733 C1 RU2762733 C1 RU 2762733C1 RU 2021104077 A RU2021104077 A RU 2021104077A RU 2021104077 A RU2021104077 A RU 2021104077A RU 2762733 C1 RU2762733 C1 RU 2762733C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- solution
- nickel
- chemical
- acid
- deposition
- Prior art date
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 8
- PVBGKAMVCZUNFQ-UHFFFAOYSA-N 1-propoxyphosphonoyloxypropane Chemical compound CCCOP(=O)OCCC PVBGKAMVCZUNFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 3
- PURTUPNWTLPILZ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropanoic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)C(O)=O.CC(O)C(O)=O PURTUPNWTLPILZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- JXKPEJDQGNYQSM-UHFFFAOYSA-M sodium propionate Chemical compound [Na+].CCC([O-])=O JXKPEJDQGNYQSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 239000004324 sodium propionate Substances 0.000 claims description 10
- 235000010334 sodium propionate Nutrition 0.000 claims description 10
- 229960003212 sodium propionate Drugs 0.000 claims description 10
- -1 ethyl hypophosphorous acid Chemical compound 0.000 claims description 8
- CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)oxane-4-carboxylic acid Chemical compound C=1C=C(F)C=CC=1C1(C(=O)O)CCOCC1 CYDQOEWLBCCFJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000001540 sodium lactate Substances 0.000 claims description 5
- 235000011088 sodium lactate Nutrition 0.000 claims description 5
- 229940005581 sodium lactate Drugs 0.000 claims description 5
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 37
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 abstract description 16
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- HOCOIDRZLNGZMV-UHFFFAOYSA-N ethoxy(oxido)phosphanium Chemical compound CCO[PH2]=O HOCOIDRZLNGZMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 84
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 45
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 24
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 24
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 15
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 15
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 13
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 13
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 11
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 11
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 9
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical class CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CIMSFRCJLLCURG-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);propanoate Chemical compound [Ni+2].CCC([O-])=O.CCC([O-])=O CIMSFRCJLLCURG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- ONVUKMIOINZASU-UHFFFAOYSA-N 2-anilinopyridin-3-ol Chemical compound OC1=CC=CN=C1NC1=CC=CC=C1 ONVUKMIOINZASU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQEBBZSWEGYTPG-UHFFFAOYSA-N 3-aminobutanoic acid Chemical compound CC(N)CC(O)=O OQEBBZSWEGYTPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N taurine Chemical compound NCCS(O)(=O)=O XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- IPBBPIKNVOONQZ-UHFFFAOYSA-L 2-hydroxypropanoate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O IPBBPIKNVOONQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000001576 beta-amino acids Chemical class 0.000 description 1
- GLUJNGJDHCTUJY-UHFFFAOYSA-N beta-leucine Chemical compound CC(C)C(N)CC(O)=O GLUJNGJDHCTUJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTYCRHCCLVCUDT-UHFFFAOYSA-J calcium;magnesium;tetrachloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ca+2] DTYCRHCCLVCUDT-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000009388 chemical precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GICLSALZHXCILJ-UHFFFAOYSA-N ctk5a5089 Chemical compound NCC(O)=O.NCC(O)=O GICLSALZHXCILJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000003893 lactate salts Chemical class 0.000 description 1
- RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N lead nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Pb]O[N+]([O-])=O RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011156 metal matrix composite Substances 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- OGKAGKFVPCOHQW-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate heptahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.[Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O OGKAGKFVPCOHQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXXRJZJYTALZLW-UHFFFAOYSA-M potassium iodite Chemical compound [K+].[O-]I=O MXXRJZJYTALZLW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ACUGTEHQOFWBES-UHFFFAOYSA-M sodium hypophosphite monohydrate Chemical compound O.[Na+].[O-]P=O ACUGTEHQOFWBES-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940074404 sodium succinate Drugs 0.000 description 1
- ZDQYSKICYIVCPN-UHFFFAOYSA-L sodium succinate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CCC([O-])=O ZDQYSKICYIVCPN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229960003080 taurine Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
- C23C18/36—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
Изобретение относится к химическому нанесению металлических покрытий и может быть использовано в различных отраслях машиностроения и приборостроения. Раствор для химического никелирования металлических изделий содержит следующие компоненты, г/л: органическая соль никеля (по Ni) 3-10; восстановитель 20-35; лиганд 20-40; буферирующая добавка 20-40, ди-(н-пропил) фосфоновая кислота 5-15; оксифениламинопиридин 0,001-0,005; вода - до 1 л. В качестве органической соли никеля раствор содержит ацетат, или пропионат, или лактат никеля. В качестве восстановителя он содержит этиловый эфир фосфорноватистой кислоты или пентохлорфениловый эфир фосфорноватистой кислоты. Обеспечивается повышение устойчивости раствора для химического никелирования, интенсификация процесса осаждения при пониженных температурах и улучшение декоративных свойств покрытия за счет уменьшения степени шероховатости. 4 з.п. ф-лы, 13 пр.
Description
Изобретение относится к химическому нанесению металлических покрытий из раствора химического никелирования металлических изделий, содержащего органическую соль никеля, восстановитель, лиганд, буферирующую добавку, ди-(н-пропил) фосфоновую кислоту, оксифениламинопиридин, воду и может быть использовано в различных отраслях машиностроения и приборостроения.
Известен состав раствора, описанный в патенте US №8858693 В2, включающий в себя металлосодержащий компонент и восстанавливающий компонент (вес.%): металлосодержащий компонент - 50%, деионизированная вода - 60,0-80,0%, сульфат никеля - 6,0-12,0%, хлорид кальция (магния) -3,0-9,0%, уксусная кислота - 5,0-11,0%, каустическая сода - 2,0-8,0%, восстанавливающий компонент - 50%, деионизированная вода - 50,0-70,0%, гипофосфит натрия - 30,0-50,0%, ацетат натрия - 0,01-0,2%. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=10 мкм. К недостаткам описанного раствора относится его некорректируемость и непостоянная скорость осаждения.
Известен состав раствора, описанный в патенте РФ №2544319 для химического никелирования поверхности металломатричного композиционного материала алюминий - карбид кремния, содержащий: никель хлористый 6-водный или никель сернокислый 7-водный - 10-20 г/л; лимонную кислоту - 10-50 г/л; молочную кислоту - 5-50 г/л; аммоний хлористый - 15-35 г/л; аммоний фтористый - 2-25 г/л; гипофосфит натрия 1-водный - 10-45 г/л; водный аммиак в количестве, обеспечивающем рН раствора 7,0÷8,0 и воду. Осаждение никелевого покрытия происходит при температуре раствора 65°С со скоростью 4 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=12 мкм. К недостаткам данного раствора можно отнести высокую щелочность раствора, способствующую малому
включению фосфора в покрытие, что приводит к образованию пор. Также в растворе в избытке содержатся ионы аммония, что затрудняет очистку сточных вод.
Известен состав раствора, описанный в патенте US №8962070 В2, содержащий: сульфат никеля - 3,03 г/л; йодит калия - 1,925 мг/л; молочную кислоту - 17,27 г/л; яблочную кислоту - 5,94 г/л; гипофосфит натрия - 40,2 г/л; гидроксид натрия - 9,81 г/л; β-аминокислоту, например 3-аминопропионовую или 3-аминомасляную или 3-амино-4-метилвалериановую или 2-аминоэтансульфоновую кислоту - 0,35 г/л. При этом рН раствора находится в диапазоне от 4 до 7. Осаждение никелевого покрытия происходит при температуре раствора 65°С, со скоростью 1 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=5 мкм. К недостаткам описанного раствора относится его некорректируемость, малая химическая устойчивость и сложный химический состав.
Известен раствор для химического никелирования, описанный в патенте US №3753742, содержащий: хлорид никеля - 25-30 г/л; хлорид аммония - 45-55 г/л; гипофосфит натрия - 30-50 г/л; сукцинат натрия - 16-20 г/л; с добавкой алкоксида щелочного металла - 2,7-27 г/л, увеличивающего скорость осаждения, стабильность и эффективность процесса осаждения при комнатной температуре. Осаждение никелевого покрытия происходит при температуре раствора 65°С со скоростью 20 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=20 мкм. К недостаткам описанного раствора относится малая химическая устойчивость и сложный химический состав.
Известен раствор для химического никелирования, описанный в патенте CN №201810342109, содержащий: Ni2+ - 4,0-8,0 г/л; восстанавливающий агент - 10-50 г/л; лиганд - 20-100 г/л; стабилизатор -0,0001-0,5 г/л; ускоритель - 0,001-1 г/л. Осаждение никелевого покрытия происходит при температуре раствора 65°С со скоростью 7 мкм/ч.
Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=5 мкм. К недостаткам данного раствора можно отнести короткое время жизни не более 15 минут и малую толщину получаемого покрытия до 10 мкм. При этом раствор не позволяет произвести глубокой выработки и корректировки.
Известен раствор для химического никелирования, описанный в патенте CN №110484899А, содержащий: сульфат никеля - 30-50 г/л; гипофосфит натрия - 20-30 г/л; цитрат натрия - 30-40 г/л; ацетат аммония - 35-45 г/л; сульфат меди - 0,5-1,5 г/л. Кислотность раствора 7,0-8,0 (регулируется гидроксидом аммония). Осаждение никелевого покрытия происходит при температуре раствора 65°С со скоростью 5 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=10 мкм. К недостаткам данного раствора можно отнести высокую щелочность раствора, способствующую малому включению фосфора в покрытие и как следствие образование пор. Также в составе раствора содержатся в избытке ионы аммония, что затрудняет очистку сточных вод.
Известен состав, описанный в диссертации на соискание ученой степени доктора технических наук «Ресурсо- и энергосберегающие технологии автокаталитического осаждения покрытий на основе сплава никель-фосфор» Скопинцев В.Д., Москва, РХТУ им. Менделеева, 25 мая 2017, содержащий: сульфат никеля гептагидрат - 32-35 г/л; гипофосфит натрия гидрат - 37-40 г/л; глицин (аминоуксусная кислота) - 10-15 г/л; малоновую кислоту - 17-20 г/л; фосфорную кислоту - 18-21 г/л; нитрат свинца - 0,002-0,004 г/л; сульфат меди пентагидрат - 0,2-0,5 г/л. Процесс проводят при рН 6,6-7,4. Осаждение никелевого покрытия происходит при температуре раствора 65°С со скоростью 5 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=4 мкм. К недостаткам данного раствора можно отнести сложный состав, высокую щелочность раствора, способствующую малому включению фосфора в покрытие и как следствие образование пор.
Известны составы растворов, описанные в справочнике по гальванотехнике: Ажогин Ф.Ф., Беленький М.А., Галль И.Е. и др. М.: Металлургия, 1987. 736 с. К недостаткам данных растворов можно отнести, что все эти растворы осаждают никелевое покрытие с достаточно низким (до 3% по массе) содержанием фосфора, что существенно влияет на физико-химические свойства покрытия. Несмотря на образование достаточно прочного комплекса никеля с нитрилотриметилентрифосфоновой кислотой (НТФ), во времени происходит выпадение малорастворимых осадков солей никеля, вследствие чего скорость осаждения покрытия из этого раствора падает до 0. Раствор невозможно корректировать.
Наиболее близким прототипом по технической сущности и достигаемому результату к предлагаемому изобретению является раствор для химического никелирования, описанный в патенте US №20120177925, однако из недостатков можно привести высокую рабочую температуру и невозможность корректировок состава раствора по мере выработки его основных компонентов во время работы.
Технической задачей предлагаемого изобретения является повышение устойчивости раствора, интенсификация процесса осаждения при пониженных температурах в водном растворе и улучшение декоративных свойств покрытия (уменьшение степени шероховатости).
Техническое решение поставленной задачи достигается путем разработки раствора, включающего в себя: органическую соль никеля (по Ni) - 3-10 г/л, восстановитель - 20-35 г/л, лиганд - 20-40 г/л, буферирующую добавку -20-40 г/л, фосфоновое соединение - 5-15 г/л, блескообразователь - 0,001-0,005 г/л, воду - до 1 л. Использование органических солей никеля (например, ацетатов, лактатов и пропионатов), препятствует накоплению противоионов в растворе. Органические кислоты отгоняют с паром, благодаря чему они не накапливаются в водном растворе. Также используют эфиры
фосфорноватистой кислоты, обеспечивающие более интенсивное протекание реакции восстановления, в отличии от чистого гипофосфита натрия. Интенсификация процесса химического осаждения достигается селективным связыванием ионов фосфористой кислоты, малорастворимые никелевые соли которой могут быть причиной объемных реакций в растворе. Для предотвращения выпадения малорастворимых осадков фосфита и гидроксида никеля при корректировке водного раствора в состав раствора добавляют ди-(н-пропил) фосфоновую кислоту. Для уменьшения степени шероховатости и увеличения степени блеска покрытия добавляют оксифениламинопиридин.
Изобретение иллюстрируется следующими примерами.
Разработанный раствор состоит из органической соли никеля, восстановителя, лиганда, буферирующей добавки, ди-(н-пропил) фосфоновой кислоты, оксифениламинопиридина и воды, при следующем содержании компонентов (г/л):
Предлагаемое изобретение иллюстрируется следующими примерами:
Пример 1
В воде при температуре 50-55°С растворяют 10 г ацетата никеля, добавляют 5 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего
в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 10 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,7 мкм.
Пример 2
В воде при температуре 50-55°С растворяют 20 г ацетата никеля, добавляют 5 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5 - 7,0, скорость осаждения - 13 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,4 мкм.
Пример 3
В воде при температуре 50-55°С растворяют 30 г ацетата никеля, добавляют 5 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 5 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,8 мкм.
Пример 4
В воде при температуре 50-55°С растворяют 10 г ацетата никеля, добавляют 10 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 9 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,8 мкм.
Пример 5
В воде при температуре 50-55°С растворяют 20 г ацетата никеля, добавляют 10 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость - осаждения 12 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=1 мкм.
Пример 6
В воде при температуре 50-55°С растворяют 30 г ацетата никеля, добавляют 10 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из
раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 9 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,7 мкм.
Пример 7
В воде при температуре 50-55°С растворяют 10 г ацетата никеля, добавляют 15 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 7 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,3 мкм.
Пример 8
В воде при температуре 50-55°С растворяют 20 г ацетата никеля, добавляют 15 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 12 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,5 мкм.
Пример 9
В воде при температуре 50-55°С растворяют 30 г ацетата никеля, добавляют 15 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г молочной кислоты, 20 г буферирующей добавки пропионата натрия, 0,001 г
блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 20 г гипофосфита натрия. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 7 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,8 мкм.
Пример 10
В воде при температуре 50-55°С растворяют 15 г соли пропионата никеля, добавляют 10 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 15 г уксусной кислоты, 20 г буферирующей добавки лактата натрия, 0,005 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 25 г этилового эфира фосфорноватистой кислоты. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 15 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,5 мкм.
Пример 11
В воде при температуре 50-55°С растворяют 15 г соли пропионата никеля, добавляют 10 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 15 г уксусной кислоты, 20 г буферирующей добавки лактата натрия, 0,005 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 35 г этилового эфира фосфорноватистой кислоты. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 17 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,7 мкм.
Пример 12
В воде при температуре 50-55°С растворяют 25 г соли лактата никеля, добавляют 10 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновая) и 20 г пропионовой кислоты, 15 г уксусной кислоты, 0,005 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 15 г пентохлорфенилового эфира фосфорноватистой кислоты. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения - 14 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,3 мкм.
Пример 13
В воде при температуре 50-55°С растворяют 15 г соли пропионата никеля, добавляют 10 г фосфоновой кислоты (ди-(н-пропил) фосфоновую) и 15 г уксусной кислоты, 20 г буферирующей добавки лактата натрия, 0,005 г блескообразователя - оксифениламинопиридина, затем перемешивают и добавляют 35 г этилового эфира фосфорноватистой кислоты. После полного растворения последнего в отдельной емкости разводят щелочь (гидроксид натрия) до массовой концентрации 10% и смешивают растворы. Химическое осаждение никеля из раствора протекает при температуре 55-65°С и рН раствора 5,5-7,0, скорость осаждения -17 мкм/ч. Полученное покрытие имеет шероховатость Rz=0,8 мкм.
Таким образом, разработан устойчивый раствор, из которого при температуре 55-65°С скорость осаждения никеля выше, чем в известных технических решениях. Полученное покрытие равномерное и имеет невысокую степень шероховатости.
Claims (6)
1. Раствор для химического никелирования металлических изделий, содержащий органическую соль никеля, восстановитель, лиганд, буферирующую добавку, ди-(н-пропил) фосфоновую кислоту, оксифениламинопиридин и воду при следующем соотношении компонентов, г/л:
2. Раствор по п. 1, отличающийся тем, что в качестве органической соли никеля он содержит ацетат, или пропионат, или лактат никеля.
3. Раствор по п. 1, отличающийся тем, что в качестве восстановителя он содержит этиловый эфир фосфорноватистой кислоты или пентохлорфениловый эфир фосфорноватистой кислоты.
4. Раствор по п. 1, отличающийся тем, что в качестве лиганда он содержит пропионат или лактат натрия.
5. Раствор по п. 1, отличающийся тем, что в качестве буферирующей добавки он содержит ацетат, или пропионат, или лактат натрия.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2021104077A RU2762733C1 (ru) | 2021-02-18 | 2021-02-18 | Раствор для химического никелирования металлических изделий |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2021104077A RU2762733C1 (ru) | 2021-02-18 | 2021-02-18 | Раствор для химического никелирования металлических изделий |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2762733C1 true RU2762733C1 (ru) | 2021-12-22 |
Family
ID=80039451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2021104077A RU2762733C1 (ru) | 2021-02-18 | 2021-02-18 | Раствор для химического никелирования металлических изделий |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2762733C1 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2813159C1 (ru) * | 2023-07-04 | 2024-02-06 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Воронежский государственный университет" (ФГБОУ ВО "ВГУ") | Применение бис(4-R-2-аминофенил)дисульфида в качестве выравнивателя в растворе для химического осаждения никель-фосфорных покрытий |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3706634A (en) * | 1971-11-15 | 1972-12-19 | Monsanto Co | Electrochemical compositions and processes |
| US3753742A (en) * | 1972-05-06 | 1973-08-21 | Ibm | Electroless plating processes for room temperature deposition nickel |
| RU2334830C2 (ru) * | 2006-10-03 | 2008-09-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Калужский научно-исследовательский институт телемеханических устройств" | Способ приготовления фосфонатных электролитов и растворов |
| US8962070B2 (en) * | 2009-07-03 | 2015-02-24 | Enthone Inc. | Method for the deposition of a metal layer comprising a beta-amino acid |
| RU2544319C1 (ru) * | 2013-12-17 | 2015-03-20 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Способ химического никелирования и раствор для его осуществления |
| CN108342717A (zh) * | 2018-04-17 | 2018-07-31 | 世程新材料科技（武汉）有限公司 | 低温化学镀镍液、镀镍工艺、镀镍层及柔性印制电路板 |
| CN106460179B (zh) * | 2014-09-11 | 2019-05-10 | 石原化学株式会社 | 化学镀镍或镍合金用镍胶体催化剂液及化学镀镍或镍合金方法 |
-
2021
- 2021-02-18 RU RU2021104077A patent/RU2762733C1/ru active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3706634A (en) * | 1971-11-15 | 1972-12-19 | Monsanto Co | Electrochemical compositions and processes |
| US3753742A (en) * | 1972-05-06 | 1973-08-21 | Ibm | Electroless plating processes for room temperature deposition nickel |
| RU2334830C2 (ru) * | 2006-10-03 | 2008-09-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Калужский научно-исследовательский институт телемеханических устройств" | Способ приготовления фосфонатных электролитов и растворов |
| US8962070B2 (en) * | 2009-07-03 | 2015-02-24 | Enthone Inc. | Method for the deposition of a metal layer comprising a beta-amino acid |
| RU2544319C1 (ru) * | 2013-12-17 | 2015-03-20 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") | Способ химического никелирования и раствор для его осуществления |
| CN106460179B (zh) * | 2014-09-11 | 2019-05-10 | 石原化学株式会社 | 化学镀镍或镍合金用镍胶体催化剂液及化学镀镍或镍合金方法 |
| CN108342717A (zh) * | 2018-04-17 | 2018-07-31 | 世程新材料科技（武汉）有限公司 | 低温化学镀镍液、镀镍工艺、镀镍层及柔性印制电路板 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2813159C1 (ru) * | 2023-07-04 | 2024-02-06 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Воронежский государственный университет" (ФГБОУ ВО "ВГУ") | Применение бис(4-R-2-аминофенил)дисульфида в качестве выравнивателя в растворе для химического осаждения никель-фосфорных покрытий |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6192934B2 (ja) | β−アミノ酸含有電解質および金属層の堆積方法 | |
| US4168214A (en) | Gold electroplating bath and method of making the same | |
| US8292993B2 (en) | Electroless nickel plating bath and method for electroless nickel plating | |
| TWI572742B (zh) | Reduction Electroless Silver Plating Solution and Reduced Electroless Silver Plating Method | |
| CN101586236A (zh) | 稳定的化学镀镍镀液及其制备方法 | |
| JP4885954B2 (ja) | 無電解純パラジウムめっき液 | |
| US6048585A (en) | Removal of orthophosphite ions from electroless nickel plating baths | |
| RU2762733C1 (ru) | Раствор для химического никелирования металлических изделий | |
| JP5416330B2 (ja) | 金めっき液用亜硫酸金塩水溶液の製造方法 | |
| TW201309844A (zh) | 無電鎳鍍浴組合物 | |
| CN1896308A (zh) | 化学镀镍镀液及工艺 | |
| JP2013224496A (ja) | 金めっき液用亜硫酸金塩水溶液 | |
| JPH08176837A (ja) | 無電解ニッケルリンめっき液 | |
| CN109457238B (zh) | 高速稳定的化学镀铜液及其制备方法 | |
| JPH0156144B2 (ru) | ||
| JP3655388B2 (ja) | 錫めっき及び錫−鉛合金めっき用非酸性浴、及び該めっき浴を用いためっき方法 | |
| JP6336890B2 (ja) | 無電解白金めっき浴 | |
| JP2993336B2 (ja) | ＡｌＮ基板用無電解Ｎｉ系メッキ液 | |
| JPH06280038A (ja) | 無電解ニッケルリンめっき液 | |
| JPH0414189B2 (ru) | ||
| RU2310610C2 (ru) | Способ получения гексагидрата сульфата никеля-аммония | |
| CN102210975A (zh) | 离子渗析化学镀金属层方法 | |
| US20190112713A1 (en) | Compressively Stressed Medium Phosphorus Electroless Nickel | |
| JPH05295557A (ja) | 無電解ニッケルリンめっき液 | |
| CN119800337A (zh) | 连续高磷化学镀镍方法 |