RU2712840C1 - Низкотемпературный стеклокерамический материал и способ его изготовления - Google Patents

Низкотемпературный стеклокерамический материал и способ его изготовления Download PDF

Info

Publication number
RU2712840C1
RU2712840C1 RU2018134730A RU2018134730A RU2712840C1 RU 2712840 C1 RU2712840 C1 RU 2712840C1 RU 2018134730 A RU2018134730 A RU 2018134730A RU 2018134730 A RU2018134730 A RU 2018134730A RU 2712840 C1 RU2712840 C1 RU 2712840C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
glass
temperature
low
ceramic
ceramic material
Prior art date
Application number
RU2018134730A
Other languages
English (en)
Inventor
Евгений Иванович Челноков
Original Assignee
Евгений Иванович Челноков
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Евгений Иванович Челноков filed Critical Евгений Иванович Челноков
Priority to RU2018134730A priority Critical patent/RU2712840C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2712840C1 publication Critical patent/RU2712840C1/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00—Compositions for glass with special properties
    • C03C4/0028—Compositions for glass with special properties for crystal glass, e.g. lead-free crystal glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
    • C04B35/111—Fine ceramics
    • C04B35/117—Composites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5016—Acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

Изобретение относится к производству стеклокерамического композиционного материала и может использоваться в электротехнической и радиотехнической промышленности, в производстве корпусов и подложек для интегральных схем и многослойных керамических плат многокристальных керамических модулей (МКМ). В заявленном составе стеклокерамический материал содержит низкотемпературное кристаллизующееся стекло и алюмооксидную керамику при соотношении (1,4-1,0):(0,6-1,0) соответственно. Низкотемпературное кристаллизующееся стекло дополнительно содержит оксид хрома при следующем соотношении компонентов, мас.%: SiO2 20-34, ВаО 34-40, B2O3 23-26, СаО 1-10, SnO2 1-10, а также сверх 100% оксид хрома (Cr2O3) 2-5 и оксид алюминия (Al2O3) 5-10. Оксид алюминия и оксид хрома перед составлением шихты предварительно смешивают и прокаливают при температуре 1300-1400°С. Низкотемпературный стеклокерамический материал после смешения с органической связкой и формования в виде изделий с токоведущими элементами (металлокерамический корпус, металлокерамическая плата) совместно обжигают для удаления органической связки при температуре 700-800°С, вводят дополнительно оксид фосфора (Р2О5) пропиткой в водном растворе ортофосфорной кислоты (Н3РО4), сушат на воздухе и отверждают без огневой усадки при температуре 300-900°С в течение 0,5-2 часов. При этом происходит стабилизация термомеханических и диэлектрических свойств материала и активная кристаллизации матричного стекла с получением безусадочной керамики. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 2 табл.

Description

Изобретение относится к производству стеклокерамического композиционного материала и может использоваться в электротехнической и радиотехнической промышленности, в производстве корпусов и подложек для интегральных схем и многослойных керамических плат многокристальных керамических модулей (МКМ).
Основными компонентами для производства многослойных печатных плат традиционно являлись органические материалы с низкими значениями относительной диэлектрической проницаемости (FR-4, εr=3,5…4,5) и керамика с высокими значениями диэлектрической проницаемости (εr=10…12). Увеличение рабочих частот электронных приборов потребовало создание нового материала, который, с одной стороны, позволял легко создавать многослойные печатные платы, а на высоких частотах имел бы характеристики схожие с керамикой. Известен новый материал, который получил название «низкотемпературная совместно обжигаемая керамика (Low Temperature Cofired Ceramic, LTCC) [1, 2]. Он используется для производства ВЧ и СВЧ-микросхем низкой и средней степени интеграции и других приборов.
Наряду с существенными достоинствами технологии LTCC в ней на сегодняшний день недостаточно изучены процессы изготовления композиционного материала. Существует проблема совместимости стеклосвязки и керамической составляющей, связанной с возможными различными коэффициентами термического расширения (КТР). (Материалы считаются совместимыми, если значения их КТР отличаются не более чем на 7%). При этом состав стеклосвязки должен обеспечить спекание композиционного материала при температурах около 900°С. Препятствием для широкого использования LTCC-материалов является также привязанность к зарубежным производителям, поскольку их керамические материалы спроектированы только под определенные металлизационные пасты того же производителя, а стоимость паст составляет большую часть стоимости изделия. Таким образом, вопрос покупки и передачи технологии остается открытым. Это связано с тем, что многие изделия, получаемые из LTCC, применяются в изделиях ВПК зарубежных стран (из таких композиционных материалов, например, производят планарные антенны для систем наведения ракет), поэтому продажа технологий за пределы этих стран запрещена. Учитывая вышеизложенное, задача создания материала для изготовления изделий из низкотемпературной совместно обжигаемой керамики является чрезвычайно актуальной [1, 2]
Основу большинства стекол в производстве металлостеклянных корпусов для полупроводниковых приборов составляет SiO2. Такие стекла называются силикатными и широко используются в металлостеклянных корпусах в качестве изоляторов (табл. 1, 2).[3] Следует учитывать, что помимо высоких диэлектрических характеристик стекла, применяемые в качестве изолятора в металлостеклянных корпусах, должны иметь согласованный с материалом, из которого изготовлены выводы и фланец, температурный коэффициент линейного расширения (ТКЛР) В противном случае при изменении температуры в стекле могут появиться трещины, что приведет к нарушению герметичности в месте ввода выводов в основание корпуса. Учитывая то, что в качестве материала выводов и фланцев металлостеклянных корпусов обычно используют ковар, ТКЛР которого составляет 45-52⋅10-7 град-1, наиболее подходящая для металлостеклянных корпусов группа стекол - молибденовая.
Figure 00000001
Figure 00000002
Недостатком этих стекол является наличие в их составах окислов щелочных металлов и токсичного оксида свинца, недостаточная механическая прочность и химическая стойкость. Ведь, как известно, наличие в составе низкотемпературного стеклокерамического материала оксидов щелочных металлов приводит к ухудшению его диэлектрических характеристик, а именно - повышению величины тангенса угла диэлектрических и магнитных потерь и диэлектрической проницаемости, а также снижению удельного объемного электрического сопротивления и химической стойкости [4].
Известен стеклокерамический композиционный материал (СККМ) на основе стекла системы ВаО-В2О3-SiO2 и керамического наполнителя в виде α-глинозема, обладающий комплексом свойств: температура спекания 800-900°С, время спекания 0,5-1 час, прочность на изгиб 200-220 МПа, tgδ при f=1 МГц и Т=20°С составляет (2-5)⋅10-4, ε при F=1 МГц и Т=20°С ≤8, электрическая прочность >20 кВ/мм, ρv=1013-1015Ом⋅см [5]. В пользу системы BaO-B2O3-SiO2-RO говорит и тот факт, что именно в ней получены стеклокристаллические материалы (ситаллы) [6, 7, 8,], рекомендованные для использования в качестве подложек взамен керамики 22ХС. Недостатком ситаллов является то, что они кристаллизуются при высоких температурах в течение нескольких часов и по теплопроводности лишь незначительно превосходят стекла. Но, несмотря на довольно большое количество разработок композиционных материалов для подложек ГИС, все еще остаются актуальными проблемы достижения требуемых диэлектрических и термомеханических свойств. [5]
Наиболее близким техническим решением к изобретению является низкотемпературный стеклокерамический материал, содержащий низкотемпературное кристаллизующееся стекло и керамику при соотношении (1,2-1,0) и (0,8-1,0), соответственно. Низкотемпературное кристаллизующееся стекло содержит следующие компоненты, вес. %: Al2O3 - 2,0-8,0; SiO2 - 17,0-7,0; В2О3 - 3,2-12,5; СаО - 22,0-11,0; MgO - 4,2-3,5; SrO - 0,4-2,5; Cu2O - 0,4-1,5; ZrO2 - 1,8-0,5; ZnO - 9,0-3,5. [9] Техническим результатом изобретения является снижение величины тангенса угла диэлектрических потерь СВЧ, повышение удельного объемного электрического сопротивления при сохранении низкой температуры обжига и высокой механической прочности. Данный низкотемпературный стеклокерамический материал по сравнению с предыдущим аналогом имеет практически те же достаточно высокие технические характеристики. Однако и эти характеристики недостаточны для возможного приближения к свойствам керамики, и потому не способны заменить, например, применение стекла в металлостеклянных корпусах.
Технической задачей изобретения, является создание состава и способа получения низкотемпературного стеклокристаллического композиционного материала на основе бессвинцового стекла в качестве матрицы и алюмооксидного наполнителя, способного обеспечить стабильное приближение электроизоляционных свойств, диэлектрической проницаемости «ε», температурного коэффициента линейного расширения «ТКЛР» и механической прочности «σизг» к керамическим требованиям за счет полной ситаллизации и (или) цементации матричного стекла с алюмооксидным наполнителем.
Для достижения указанной технической задачи в заявленном составе стеклокерамический материал содержит низкотемпературное кристаллизующееся стекло и алюмооксидную керамику при соотношении (1,4-1,0):(0,6-1,0) соответственно, а низкотемпературное кристаллизующееся стекло дополнительно содержит оксид хрома при следующем соотношении компонентов, масс. %:
Figure 00000003
Система из этих материалов, спекаясь с корундовой керамикой, обладает хорошей смачиваемостью и растекаемостью. Что чрезвычайно важно для активации процесса кристаллизации матричного стекла и обеспечения воспроизводимости искомых характеристик нового материала.
Для расширения технологических возможностей способа оксид алюминия (Al2O3) и оксид хрома (Cr2O3) перед составлением шихты смешением с остальными компонентами стекла предварительно смешивают друг с другом и прокаливают при температуре 1300-1400°С при следующем соотношении компонентов, масс. %:
Figure 00000004
Общеизвестно, что ГОСТированное качество глинозема по содержанию в нем корунда (α-Al2O3) не полно, не стабильно и колеблется в пределах 90-95%. При этом форма частиц и их гранулометрический состав тем более не стабильны, что отражается на переменной длительности помола глинозема а, следовательно, и его качестве из-за непредсказуемого намола материала футеровки и мелющих шаров. Такое положение требует стабилизации и дополнительной активации глинозема не только за счет механической активации (помола до высокодисперсного состояния), но и за счет химической активации путем дополнительного введения оксида хрома. Причем путем прямой активации глинозема за счет введения оксида хрома непосредственно перед смешением с остальными компонентами матричного стекла. То есть до составления шихты стеклокристаллического матричного стекла. Активность системы Al2O3 - Cr2O3 исследовалась на составах с различным содержанием в системе оксида хрома от 0 до 20 об. %. [10] Наблюдаемое повышение активности может быть обусловлено растворением Cr2O3 в Al2O3 с образованием твердого раствора замещения. Розовый цвет образцов, характерный для твердого раствора, свидетельствует о том, что такое растворение состоялось.
Для расширения конструктивно-технологических возможностей способа низкотемпературный стеклокерамический материал после смешения с органической связкой и формования в виде изделий с токоведущими элементами (металлокерамический корпус, металлокерамическая плата) совместно обжигают для удаления органической связки при температуре 700-900°С, вводят дополнительно оксид фосфора (Р2О5) пропиткой в водном растворе ортофосфорной кислоты (Н3РО4), полимеризуют (сушат) на воздухе и отверждают без огневой усадки при температуре 300-900°С в течение 0,5-2 часов. При этом происходит стабилизация не только термомеханических и диэлектрических свойств материала, но и технологических благодаря активной кристаллизации и/или цементации низкотемпературного матричного стекла и алюмооксидного наполнителя вплоть до получения безусадочной керамики. Что становится возможным на стадии введения дополнительно оксида фосфора (Р2О5) именно в полуфабрикат изделия с высокодисперсной капиллярно-пористой системой, получаемой после выжига органической связки. [11, 12, 13].
Технико-экономическая эффективность использования изобретения заключается в повышении эффективности производства металлостеклянных и металлокерамических корпусов и многоуровневых керамических плат (МКП), в том числе для многокристальных модулей (МКМ), в повышении их надежности, а также в получении возможности создания принципиально новых конструктивно-технологических решений электронной компонентной базы (ЭКБ).
Литература
1. Юрий Непочатое, Светлана Кумачева, Юлия Швецова, (г.Новосибирск), Александр Дитц. «Разработка отечественного керамического материала для изготовления изделий по технологии LTCC». Современная электроника, №3, 2014 г. www.SOEL.RU
2. Роман Кондратюк «Низкотемпературная совместно обжигаемая керамика (LTCC). Преимущества. Технология. Материалы», Информационный бюллетень «Степень интеграции», апрель 2011, №5.
3. А Максимов. «Корпуса для полупроводникковых приборов. Металлостеклянные и металлокерамические», ЭЛЕКТРОНИКА: Наука, Технология, Бизнес 6/2010
4. В.Н. Батыгин, И.И. Метелкин, А.М. Решетников. «Вакуумноплотная керамика и ее спаи с металлами», М., Энергия, 1973, с. 90-91.
5. В.З. Петрова, В.И. Гребенькова, М.Н. Ерохина «Композиционные материалы для подложек РЭА», Электронная промышленность, 2/95.
6. Пат. №4649/25 (США) «Керамический материал для диэлектриков», МКИ С03с 8/24 (НКИ 501-15), заявл. 13.04.1984, №59-75396, опубл. 10.03.87, т 1076 2.
7. Пат. №4540671 (США), «Керамический материал для диэлектриков», МКИ С03с 3/22 (НКИ 501-9), заявл. 15.11.1983, опубл. 15.11.83.
8. А.с. №1237645 (СССР). «Стекло для стеклокристаллического материала», МКИ С03с 10/16, заявл. 4.04.85 г., №3835486/29-30, опубл. 15.06.86 БИ №22.
9. Автор(ы): Сытилин С.Н. (RU), Ляпин Л.В. (RU), Парилова Г.А. и др. Пат. RU №2410358 С1 «Низкотемпературный стеклокерамический материал», С04В 35/10 (2006.01), С04В 35/468 (2006.1), опубл. 27.01.2011, Бюл. №3.
10. А.с. №537989 (СССР), И.И. Кусковская, А.С. Антошина и Е.И. Челноков «Паста для металлизации», С04В 41/38, С04В 41/14, опубл. 05.12.76, Бюл. №45.
11. М.М. Сычев «Неорганические клеи» ИЗДАТЕЛЬСТВО «ХИМИЯ», Ленинградское отделение-1974.
12. Челноков Е.И. Пат. RU №2211496 С1 «Керамический резистивный элемент и способ его изготовления», 7 Н01С 1/032,17/00, опубл. 27.08.2003, Бюл. №24.
13. « Неорганическое материаловедение в СССР», УДК 620.22 (09) Киев: Издательство «Наукова Думка», 1983, с. 25-26.

Claims (5)

1. Низкотемпературный стеклокерамический материал, содержащий низкотемпературное бессвинцовое кристаллизующееся стекло и керамику при заданном их соотношении, при этом низкотемпературное кристаллизующееся стекло приготовлено на основе оксидов химических элементов, отличающийся тем, что стеклокерамический материал содержит низкотемпературное кристаллизующееся стекло и алюмооксидную керамику при соотношении (1,4-1,0):(0,6-1,0) соответственно, а низкотемпературное кристаллизующееся стекло дополнительно содержит оксид хрома при следующем соотношении компонентов, мас.%:
Figure 00000005
2. Низкотемпературный стеклокерамический материал по п. 1, отличающийся тем, что оксид алюминия (Al2O3) и оксид хрома (Cr2O3) перед составлением шихты с остальными компонентами стекла предварительно смешивают и прокаливают при температуре 1300-1400°С при следующем соотношении компонентов, мас.%:
Figure 00000006
3. Способ получения изделия из низкотемпературного стеклокерамического материала по п. 1 или 2, отличающийся тем, что низкотемпературный стеклокерамический материал после смешения с органической связкой и формования в виде изделия с токоведущими элементами: металлокерамический корпус, металлокерамическая плата, совместно обжигают для удаления органической связки при температуре 700-900°С, вводят дополнительно оксид фосфора (Р2О5) пропиткой в водном растворе ортофосфорной кислоты, полимеризуют (сушат) на воздухе и отверждают без огневой усадки при температуре 300-900°С в течение 0,5-2 часов.
RU2018134730A 2018-10-03 2018-10-03 Низкотемпературный стеклокерамический материал и способ его изготовления RU2712840C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018134730A RU2712840C1 (ru) 2018-10-03 2018-10-03 Низкотемпературный стеклокерамический материал и способ его изготовления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2018134730A RU2712840C1 (ru) 2018-10-03 2018-10-03 Низкотемпературный стеклокерамический материал и способ его изготовления

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2712840C1 true RU2712840C1 (ru) 2020-01-31

Family

ID=69625096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018134730A RU2712840C1 (ru) 2018-10-03 2018-10-03 Низкотемпературный стеклокерамический материал и способ его изготовления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2712840C1 (ru)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0676227B2 (ja) * 1986-10-24 1994-09-28 松下電工株式会社 ガラスセラミツク焼結体
RU2036184C1 (ru) * 1991-05-22 1995-05-27 Белорусский технологический институт им. С.М.Кирова Износостойкий стеклокерамический материал
RU2096358C1 (ru) * 1996-01-30 1997-11-20 Государственный научный центр РФ - Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад.А.А.Бочвара Стеклокерамическое покрытие для ванадия и его сплавов
RU2410358C1 (ru) * 2009-07-06 2011-01-27 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП НПП "Исток") Низкотемпературный стеклокерамический материал
US8304357B2 (en) * 2009-10-07 2012-11-06 Asahi Glass Company, Limited Ceramic material composition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0676227B2 (ja) * 1986-10-24 1994-09-28 松下電工株式会社 ガラスセラミツク焼結体
RU2036184C1 (ru) * 1991-05-22 1995-05-27 Белорусский технологический институт им. С.М.Кирова Износостойкий стеклокерамический материал
RU2096358C1 (ru) * 1996-01-30 1997-11-20 Государственный научный центр РФ - Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад.А.А.Бочвара Стеклокерамическое покрытие для ванадия и его сплавов
RU2410358C1 (ru) * 2009-07-06 2011-01-27 Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП НПП "Исток") Низкотемпературный стеклокерамический материал
US8304357B2 (en) * 2009-10-07 2012-11-06 Asahi Glass Company, Limited Ceramic material composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6184542B2 (ja) 低温同時焼成セラミック粉体の製造方法
JP5073064B2 (ja) 低温同時焼成セラミック粉末及び特別な原料、並びにその使用
JP2010006690A (ja) 低温焼成用低誘電率誘電体セラミック組成物
CN109231967B (zh) Bi2O3-B2O3二元体系微波介质陶瓷材料及其制备方法
RU2712840C1 (ru) Низкотемпературный стеклокерамический материал и способ его изготовления
JP2008069056A (ja) 誘電体磁器組成物
KR20110083351A (ko) 저온소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물
KR101124580B1 (ko) Ｌｃｄ 폐유리를 이용한 세라믹 글라스 조성물
CN101591196B (zh) 宽频陶瓷基复合材料用釉层材料及其制备方法
US20120098169A1 (en) Process for manufacturing high density slip-cast fused silica bodies
JP5481781B2 (ja) 誘電体磁器
CN103288427B (zh) 一种陶瓷复合材料及加工部件的方法
KR100479688B1 (ko) 유전체 세라믹 조성물 및 이를 이용한 저온소성 유전체 세라믹의 제조방법
RU2722012C2 (ru) Шихта для получения стеклокерамического композиционного материала
US4792537A (en) Dielectric ceramic composition for high frequencies
JP2007227099A (ja) 高誘電性樹脂組成物
GB2172282A (en) Toughened glass-ceramics
CN113004026A (zh) Ltcc微波介质陶瓷材料及其制造方法
JP3311928B2 (ja) 高周波用アルミナ質焼結体
KR101683400B1 (ko) 고강도 저온동시소성세라믹 조성물
KR20090117412A (ko) 고품질계수 저유전율 유리-세라믹 조성물
JP2003146752A (ja) 誘電体磁器組成物
RU2581860C1 (ru) Керамический материал с низкой диэлектрической проницаемостью
CN114538933B (zh) 一种行波管夹持杆的制备方法
JP4047050B2 (ja) 低温焼成磁器組成物及び低温焼成磁器並びにそれを用いた配線基板

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20201004