RU2627820C1 - Узел катода магнетронного распылителя - Google Patents

Узел катода магнетронного распылителя Download PDF

Info

Publication number
RU2627820C1
RU2627820C1 RU2016143145A RU2016143145A RU2627820C1 RU 2627820 C1 RU2627820 C1 RU 2627820C1 RU 2016143145 A RU2016143145 A RU 2016143145A RU 2016143145 A RU2016143145 A RU 2016143145A RU 2627820 C1 RU2627820 C1 RU 2627820C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
base
target
plate
electrostatic screen
cooling
Prior art date
Application number
RU2016143145A
Other languages
English (en)
Inventor
Константин Сергеевич Медведев
Геннадий Викторович Качалин
Алексей Феликсович Медников
Original Assignee
федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ") filed Critical федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" (ФГБОУ ВО "НИУ "МЭИ")
Priority to RU2016143145A priority Critical patent/RU2627820C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2627820C1 publication Critical patent/RU2627820C1/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к узлу катода магнетронного распылителя. Узел содержит мишень 1, закрепленную в стенках корпуса 4, первый электростатический экран 7, установленный с внешней стороны стенок корпуса 4 и основания 5. Со стороны внутренней поверхности 3 мишени 1 установлена пластина 10, выполненная по форме, идентичной форме мишени 1 толщиной от 1 до 4 мм, и плотно прижатая к ее внутренней поверхности 3. На основании 5 по центру установлен центральный магнит 11, а на периферии основания 5 расположены внешние магниты 12. На основании 5 расположен теплопередающий элемент 13 с внутренней проточкой 15, в которой расположен центральный магнит 11 и с внешними проточками 16, в которых установлен трубопровод охлаждения 17. Трубопровод охлаждения 17 выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного сечения и содержит патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. При этом в теплопередающем элементе 13 выполнены отверстия 19, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. Поперечное сечение трубопровода охлаждения 17 выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000. Технический результат заключается в повышении эффективности охлаждения и надежности работы узла катода магнетронного распылителя. 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

Description

Изобретение относится к области нанесения покрытий распылением металлов с использованием магнитного поля, а именно к магнетронным распылительным устройствам.
Известен узел катода магнетронного распылителя (патент RU №2555264, МПК С23С 14/35, опубл. 10.07.2015), содержащий основание из ферромагнитного материала, соединенную с основанием мишень из распыляемого материала, установленные на основании с внутренней стороны от мишени магниты, отделенные от нее зазором, и систему охлаждения.
Недостатком настоящего устройства является низкая надежность вследствие нагрева внешней части магнитной системы излучением как от мишени, так и от стенок корпуса магнетронов, а также наличия сложного в изготовлении основания из ферромагнитного материала, имеющего низкую теплопроводность и легко подвергающегося коррозии.
Наиболее близким по технической сущности к заявляемому изобретению является узел катода магнетронного распылителя (патент RU №2319788, МПК С23С 14/35, опубл. 20.03.2008), содержащий мишень, имеющую наружную сторону и внутреннюю сторону и выполненную по меньшей мере частично из распыляемого материала, расположенные с внутренней стороны от мишени магниты, теплоизолированные от мишени, и по меньшей мере один трубопровод для охлаждающей среды, имеющий стенку с частью, свободной от передачи тепла непосредственно от мишени.
Недостатком настоящего устройства является низкая надежность из-за ненадежного теплового контакта с контуром охлаждения, одновременного нагрева внешней части магнитной системы излучением от мишени и от боковых стенок корпуса магнетронов, а также возможность утечки охлаждающей среды в рабочий объем вакуумной камеры.
Технической задачей предлагаемого изобретения является повышение эффективности охлаждения мишени и магнитной системы узла катода магнетронного распылителя.
Технический результат заключается в повышении эффективности охлаждения и надежности работы узла катода магнетронного распылителя.
Это достигается тем, что узел катода магнетронного распылителя, содержащий мишень с внешней поверхностью и внутренней поверхностью, закрепленную в стенках корпуса, установленных на основании, соединительными винтами, первый электростатический экран, установленный с внешней стороны стенок корпуса и основания, выполненный идентичным их форме, закрепленный на основании крепежными болтами и электрически изолированный от него изоляторами, внешние магниты, расположенные на периферии основания, теплопередающий элемент и трубопровод охлаждения, снабжен центральным магнитом, установленным на продольной оси симметрии основания, пластиной, вторым электростатическим экраном и прижимными винтами, при этом пластина установлена со стороны внутренней поверхности мишени, выполнена по форме, идентичной форме мишени толщиной от 1 до 4 мм, и плотно прижата к ней и стенкам корпуса соединительными винтами, причем между пластиной и верхней плоскостью внешних магнитов образован теплоизоляционный зазор шириной от 0,5 до 2 мм, при этом общая толщина пластины с мишенью 1 не превышает 12 мм, второй электростатический экран установлен внутри первого электростатического экрана, выполнен идентичным его форме, электрически изолирован от основания изоляторами и закреплен на нем крепежными болтами таким образом, что между стенками корпуса, вторым электростатическим экраном и первым электростатическим экраном образованы зазоры от 2 до 4 мм, теплопередающий элемент расположен на основании, выполнен в виде вкладыша продолговатой формы и прижат своей верхней плоскостью к пластине прижимными винтами, а боковыми торцами - к внешним магнитам, при этом теплопередающий элемент содержит внутреннюю проточку, в которой расположен центральный магнит и выполненную идентичной его форме, внешние проточки, в которых установлен трубопровод охлаждения с патрубками подачи и отвода охлаждающей жидкости, выполненные идентичными его форме таким образом, что он плотно прижат к пластине, и отверстия, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости и выполненные по форме, идентичной форме их поперечного сечения, причем трубопровод охлаждения выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного поперечного сечения, которое выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000, при этом пластина и теплопередающий элемент выполнены из немагнитных материалов с высокой теплопроводностью, второй электростатический экран выполнен из немагнитного материала с низким значением коэффициента черноты.
Сущность изобретения поясняется чертежами, где на фиг. 1 изображена схема узла катода магнетронного распылителя, на фиг. 2 представлен внешний вид трубопровода охлаждения, на фиг. 3 показан внешний вид вкладыша, на фиг. 4 представлена схема трубопровода охлаждения и вкладыша в сборе.
Узел катода магнетронного распылителя содержит мишень 1 с внешней поверхностью 2 и внутренней поверхностью 3, закрепленную в стенках корпуса 4, установленных на основании 5, соединительными винтами 6, первый электростатический экран 7, установленный с внешней стороны стенок корпуса 4 и основания 5, выполненный идентичным их форме, и электрически изолированный от основания 5 изоляторами 8, и закрепленный на нем крепежными болтами 9. Со стороны внутренней поверхности 3 мишени 1 установлена пластина 10, выполненная по форме, идентичной форме мишени 1 толщиной от 1 до 4 мм, и плотно прижатая к ее внутренней поверхности 3 и стенкам корпуса 4 соединительными винтами 6. При этом общая толщина пластины 10 с мишенью 1 не превышает 12 мм.
На продольной оси симметрии основания 5 установлен центральный магнит 11, а на периферии основания 5 расположены внешние магниты 12, причем между верхней плоскостью внешних магнитов 12 и пластиной 10 образован теплоизоляционный зазор шириной от 0,5 до 2 мм. На основании 5 расположен теплопередающий элемент 13, выполненный в виде вкладыша продолговатой формы и прижатый своей верхней плоскостью к пластине 10 прижимными винтами 14, а боковыми торцами к внешним магнитам 12. Теплопередающий элемент 13 содержит внутреннюю проточку 15, в которой расположен центральный магнит 11 и выполненную идентичной его форме, и внешние проточки 16, в которых установлен трубопровод охлаждения 17, и выполненные идентичными его форме таким образом, что он плотно прижат к пластине 10. Причем трубопровод охлаждения 17 выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного сечения и содержит патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. При этом в теплопередающем элементе 13 выполнены отверстия 19, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18, идентичные форме их поперечного сечения. Поперечное сечение трубопровода охлаждения 17 выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000.
Внутри первого электростатического экрана 7 установлен второй электростатический экран 20, выполненный идентичным его форме, электрически изолированный от основания 5 изоляторами 8, и закрепленный на нем крепежными болтами 9 таким образом, что между стенками корпуса 4, вторым электростатическим экраном 20 и первым электростатическим экраном 7 образованы зазоры от 2 до 4 мм.
Пластина 10 и теплопередающий элемент 13 выполнены из немагнитных материалов с высокой теплопроводностью, например меди или алюминиевого сплава. Второй электростатический экран 20 выполнен из немагнитного материала с низким значением коэффициента черноты. Трубопровод охлаждения 17 выполнен из коррозионно-стойкого материала, некорродирующего с применяемой охлаждающей жидкостью.
Узел катода магнетронного распылителя работает следующим образом.
В трубопровод охлаждения 17 подают охлаждающую жидкость. Затем на узел катода магнетронного распылителя подают высокое напряжение. При этом над мишенью 1 возникает газовый разряд, поддерживаемый скрещенными электрическими и магнитными полями. Наличие центрального магнита 11 позволяет настраивать конфигурацию магнитного поля над мишенью для нанесения металлических или диэлектрических (керамических) покрытий, что расширяет возможности управления технологическим процессом осаждения покрытий с помощью данного устройства.
Электроны плазмы, образующейся над мишенью 1, удерживаются магнитными полями, образуемыми внешними магнитами 12 и центральным магнитом 11 и дрейфуют по замкнутым траекториям над мишенью 1. Получаемые при этом положительно заряженные ионы рабочего газа ускоряются электрическим полем узла катода магнетронного распылителя, приобретают высокую кинетическую энергию и бомбардируют внешнюю поверхность 2 мишени 1 так, что распыляемый материал выбивается из мишени 1 и оседает на изделии.
Контакт пластины 10, обладающей высокой теплопроводностью, с внутренней поверхностью 3 мишени 1, трубопроводом охлаждения 17, теплопередающим элементом 13 и стенками корпуса 4 образует замкнутый контур теплопередачи (тепловой мостик) вокруг центрального 11 и внешних 12 магнитов. Это препятствует нагреву магнитной системы и отводит тепло от внутренней поверхности мишени 3.
Трубопровод охлаждения 17 находится в тепловом контакте с пластиной 10 и теплопередающим элементом 13, через которые проходит поток тепла от внутренней поверхности 3 горячей мишени 1 к охлаждающей жидкости, и не касается боковыми стенками других элементов. Это обеспечивается пастами или многослойной фольгой, выполненными из материалов с высокой теплопроводностью. Охлаждающая жидкость, циркулирующая по трубопроводу охлаждения 17, обеспечивает охлаждение мишени 1, предотвращающее ее разрушение под действием тепловых нагрузок, и обеспечивает эффективное охлаждение стенок корпуса 4, основания 5, пластины 10 и теплопередающего элемента 13, тем самым предотвращая нагрев центрального 11 и внешних 12 магнитов. Пластина 10 также препятствует разрушению трубопровода охлаждения 17 из-за распыления его материала при сквозном распылении мишени 1, что предотвращает возможность утечки охлаждающей жидкости в рабочий объем. Второй электростатический экран 20 препятствует одновременному осуществлению нагрева внешней части магнитной системы излучением от мишени 1 и от стенок первого электростатического экрана 7.
Использование изобретения позволяет повысить эффективность охлаждения и надежность работы узла катода магнетронного распылителя за счет создания вокруг магнитной системы замкнутого охлаждаемого теплопроводящего контура, организующего направленный поток тепла к трубопроводу охлаждения и обеспечивающего возможность сквозного распыления мишени, а также за счет препятствия нагреву деталей узла катода магнетронного распылителя от окружающей среды через стенки корпуса.

Claims (3)

1. Узел катода магнетронного распылителя, содержащий мишень с внешней поверхностью и внутренней поверхностью, закрепленную в стенках корпуса, установленных на основании, соединительными винтами, первый электростатический экран, установленный с внешней стороны стенок корпуса и основания, выполненный идентичным их форме, закрепленный на основании крепежными болтами и электрически изолированный от него изоляторами, внешние магниты, расположенные на периферии основания, теплопередающий элемент и трубопровод охлаждения, отличающийся тем, что он снабжен центральным магнитом, установленным на основании по его продольной оси симметрии, пластиной, вторым электростатическим экраном и прижимными винтами, при этом пластина установлена со стороны внутренней поверхности мишени, выполнена по форме, идентичной форме мишени толщиной от 1 до 4 мм и плотно прижата к ней и стенкам корпуса соединительными винтами, причем между пластиной и верхней плоскостью внешних магнитов образован теплоизоляционный зазор шириной от 0,5 до 2 мм, при этом общая толщина пластины с мишенью не превышает 12 мм, второй электростатический экран установлен внутри первого электростатического экрана, выполнен идентичным его форме, электрически изолирован от основания изоляторами и закреплен на нем крепежными болтами с образованием между стенками корпуса, вторым электростатическим экраном и первым электростатическим экраном зазоров от 2 до 4 мм, при этом теплопередающий элемент расположен на основании, выполнен в виде вкладыша продолговатой формы и прижат своей верхней плоскостью к пластине прижимными винтами и боковыми торцами к внешним магнитам, при этом теплопередающий элемент содержит внутреннюю проточку, в которой расположен центральный магнит и выполненную идентичной форме центрального магнита, внешние проточки, в которых установлен трубопровод охлаждения с патрубками подачи и отвода охлаждающей жидкости, при этом внешние проточки выполнены идентичными форме трубопровода охлаждения таким образом, что он плотно прижат к пластине, и отверстия, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости, выполненные идентичными форме поперечного сечения патрубков подачи и отвода охлаждающей жидкости, причем трубопровод охлаждения выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного поперечного сечения, которое выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000.
2. Узел катода по п. 1, отличающийся тем, что пластина и теплопередающий элемент выполнены из немагнитных материалов с высокой теплопроводностью.
3. Узел катода по п. 1, отличающийся тем, что второй электростатический экран выполнен из немагнитного материала с низким значением коэффициента черноты.
RU2016143145A 2016-11-02 2016-11-02 Узел катода магнетронного распылителя RU2627820C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016143145A RU2627820C1 (ru) 2016-11-02 2016-11-02 Узел катода магнетронного распылителя

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016143145A RU2627820C1 (ru) 2016-11-02 2016-11-02 Узел катода магнетронного распылителя

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2627820C1 true RU2627820C1 (ru) 2017-08-11

Family

ID=59641673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016143145A RU2627820C1 (ru) 2016-11-02 2016-11-02 Узел катода магнетронного распылителя

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2627820C1 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4515675A (en) * 1983-07-06 1985-05-07 Leybold-Heraeus Gmbh Magnetron cathode for cathodic evaportion apparatus
WO1995012003A2 (en) * 1993-10-22 1995-05-04 Manley Barry W Method and apparatus for sputtering magnetic target materials
RU2319788C2 (ru) * 2006-02-28 2008-03-20 Михаил Антонович Парфененок Узел катода магнетронного распылителя
RU2555264C1 (ru) * 2014-03-18 2015-07-10 Борис Львович Горберг Узел катода магнетронного распылителя

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4515675A (en) * 1983-07-06 1985-05-07 Leybold-Heraeus Gmbh Magnetron cathode for cathodic evaportion apparatus
WO1995012003A2 (en) * 1993-10-22 1995-05-04 Manley Barry W Method and apparatus for sputtering magnetic target materials
RU2319788C2 (ru) * 2006-02-28 2008-03-20 Михаил Антонович Парфененок Узел катода магнетронного распылителя
RU2555264C1 (ru) * 2014-03-18 2015-07-10 Борис Львович Горберг Узел катода магнетронного распылителя

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11450509B2 (en) Inductive plasma source with metallic shower head using b-field concentrator
TW301839B (ru)
JP5749769B2 (ja) 高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置
US20100243620A1 (en) Plasma processing apparatus
US20160217978A1 (en) Plasma Generation Device
KR20010102141A (ko) 자기 버킷 및 동심 플라즈마와 재료 소스를 가진 이온화물리적 증착 방법 및 장치
JPS62228463A (ja) タ−ゲツト及び磁気的に強められたr.f.バイアスを分離する分離制限磁場を有するマグネトロン・スパツタ装置
JPH02185969A (ja) 陰極型マグネトロン装置
JPS6233766A (ja) 陰極スパツタリング装置で基板を被覆するスパツタリング陰極
JPH028365A (ja) スパッター被覆装置
US4622122A (en) Planar magnetron cathode target assembly
US8470141B1 (en) High power cathode
JP2016536740A (ja) 放射冷却増進エンドホール・イオン源
TWI765213B (zh) 內襯冷卻組件、反應腔室及半導體加工設備
JP2019527671A (ja) オゾン発生器ユニットおよびオゾン発生器システム
RU2627820C1 (ru) Узел катода магнетронного распылителя
US10262843B2 (en) Cooling water jet pack for high power rotary cathodes
RU2319788C2 (ru) Узел катода магнетронного распылителя
RU2555264C1 (ru) Узел катода магнетронного распылителя
RU183113U1 (ru) Узел катода магнетронного распылителя
JP6335386B2 (ja) カソードアッセンブリ
TWI659445B (zh) 射頻(rf)-濺鍍沉積源、沉積設備及其之組裝方法
KR20210067747A (ko) 이온빔 발생 장치
TWI554631B (zh) 複合屏蔽總成、沉積室及高功率沉積裝置
US20230028207A1 (en) Method and apparatus for use in generating plasma

Legal Events

Date Code Title Description
QB4A Licence on use of patent

Free format text: LICENCE

Effective date: 20171019