RU2503752C2 - Способ и устройство для изготовления твердых покрытий с низкой степенью износа - Google Patents

Способ и устройство для изготовления твердых покрытий с низкой степенью износа Download PDF

Info

Publication number
RU2503752C2
RU2503752C2 RU2011119340/02A RU2011119340A RU2503752C2 RU 2503752 C2 RU2503752 C2 RU 2503752C2 RU 2011119340/02 A RU2011119340/02 A RU 2011119340/02A RU 2011119340 A RU2011119340 A RU 2011119340A RU 2503752 C2 RU2503752 C2 RU 2503752C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
electrolyte
gas
tank
boron
particles
Prior art date
Application number
RU2011119340/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2011119340A (ru
Inventor
Рене ХОТЦ
Original Assignee
Инитонем Аг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Инитонем Аг filed Critical Инитонем Аг
Publication of RU2011119340A publication Critical patent/RU2011119340A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2503752C2 publication Critical patent/RU2503752C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D15/00Electrolytic or electrophoretic production of coatings containing embedded materials, e.g. particles, whiskers, wires
    • C25D15/02Combined electrolytic and electrophoretic processes with charged materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/10Agitating of electrolytes; Moving of racks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/003Electroplating using gases, e.g. pressure influence
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12771Transition metal-base component
    • Y10T428/12861Group VIII or IB metal-base component
    • Y10T428/12944Ni-base component

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу, а также к устройству для изготовления на металлической поверхности твердого покрытия с низкой степенью износа, содержащего никель и бор, которое может быть использовано при изготовлении деталей, которые подвергаются высоким механическим нагрузкам. Твердое покрытие осаждают из содержащего никель электролита, который включает частицы бора или частицы соединений бора в виде диспергата. При этом частицы диспергата удерживаются в дисперсном состоянии с помощью протекающего через электролит газа, который протекает от дна резервуара, в котором происходит осаждение покрытия, до поверхности электролита. Газ протекает через герметичную для жидкости часть дна резервуара, которое выполнено герметичным для жидкости и пропускающим газ. Преимуществом способа является возможность регулирования степени осаждения покрытия, а также степени дисперсности находящихся в электролите дисперсных частиц. 3 н. и 10 з.п. ф-лы.

Description

Изобретение относится к способу и устройству для изготовления содержащих никель и бор твердых покрытий с низкой степенью износа на металлические поверхности. Наряду с этим, изобретение относится также и к самим таким твердым покрытиям.
Из уровня техники известны различные виды нанесения на металлические поверхности, которые подвергаются высоким трибологическим или другим механическим нагрузкам, твердых покрытий. В качестве утвердившихся на практике способов нанесения твердых покрытий на металлические поверхности можно назвать PVD (физическое осаждение из паровой фазы), CVD (химическое осаждение из паровой фазы), наплавка, нанесение покрытий способом газопламенного напыления или также и гальванотехническое нанесение покрытий твердых металлов или сплавов твердых металлов.
Эти способы находят применение в области изготовление двигателей и здесь, например, в области изготовления конструктивных узлов, которые подвергаются высоким механическим нагрузкам, в частности клапанов, стержней клапанов, кулачковых валов и т.д. К другим областям применения можно отнести также и область гидравлики, или полиграфическую промышленность, в которой поршни или печатные валы должны иметь поверхности с низкой степенью износа, чтобы таким образом обеспечить максимальный срок службы.
Известные из уровня техники способы нанесения твердых покрытий на металлические поверхности обладают недостатками. С помощью таких способов, как упомянутый способ CVD, нанесение покрытий способом газопламенного напыления или наплавки, твердые покрытия можно наносить, как правило, только на изделия с простой геометрической конфигурацией или на относительно небольшие детали. Известные гальванотехнические методы часто не обеспечивают достаточной твердости нанесенного слоя
В документе GB 1236954 А описывается электролитическая ванна с долями твердых частиц, которые с помощью газового потока перемещаются относительно покрываемой поверхности. Газовый поток впрыскивается под давлением через сопло в ванну. Для того чтобы обеспечить распределение, газовый поток пропускают через фильтр, например, из спеченного металла.
В документе WO 2008/101550 описывается подача газового потока или потока жидкости в электролит, в котором также содержатся твердые частицы для обеспечения перемещения частиц относительно покрываемой поверхности валика. Скорость отложения регулируется с помощью вращения покрываемого валика.
В документе US 3081239 описывается подача сжатого воздуха в ванну для электролита по системе водопровода, которая снабжена соплами.
Далее в документе DE 2247956 описывается электролитическая ванна для никелирования, в которой находится 50-500 г/л распыленной керамики. Сжатый воздух подается в ванну через перфорированную трубу.
Во всех ранее известных системах в ванну подается в первую очередь газ, причем предпочтительно вдоль покрываемой поверхности формируется газовый поток. Этот поток практически должен подавать на покрываемую поверхность наносимые твердые частицы. Под действием возникающего, как правило, завихрения должен поддерживаться диспергат. При этом с помощью ранее известных систем регулирование скорости осаждения производить невозможно. Обеспечить контролируемое поступление через объем ванны также, как и контролируемое осаждение твердых частиц, на покрываемую поверхность невозможно.
Поэтому задача настоящего изобретения заключается в создании способа изготовления твердого покрытия на металлической поверхности, который по сравнению с известными из уровня техники способами обладает улучшенными характеристиками. Наряду с этим задача изобретения направлена на создание устройства для осуществления такого способа.
Поставленная задача в отношении способа решается с помощью способа изготовления содержащих никель и бор твердых покрытий с низкой степенью износа на металлической поверхности, причем покрываемая металлическая поверхность под воздействием напряжения осаждения контактирует с содержащим никель электролитом, который в виде дисперсной ванны содержит частицы бора и частицы соединений бора в соответствии с признаками пункта 1 формулы изобретения. Дальнейшие преимущества и признаки вытекают из зависимых пунктов формулы изобретения.
Согласно изобретению содержащиеся в электролите частицы бора или частицы соединений бора во время процесса нанесения покрытия удерживаются в дисперсном состоянии и при этом предотвращают осаждение частиц. Частицы бора или частицы соединений бора удерживаются в состоянии дисперсии предпочтительно с помощью пропускаемого через электролит газа. При этом газ протекает через электролит по существу против силы тяжести.
Газ, который протекает через электролит при осуществлении способа согласно настоящему изобретению, представляет собой, по меньшей мере, газ из группы, состоящей из азота, кислорода, гелия, неона, аргона, углекислого газа, водорода или их смесей. В одной из форм выполнения способа согласно настоящему изобретению в качестве газа используется воздух.
Способ согласно настоящему изобретению осуществляется в резервуаре, в котором газ со дна резервуара пропускается через электролит на поверхность. Дно резервуара, по меньшей мере, частично выполнено таким образом, что оно не пропускает жидкость, но пропускает газ, и газ протекает через герметичную для жидкости область дна, но через пропускающую газ часть дна в электролит. Однако в одной из форм выполнения способа согласно настоящему изобретению герметичная для жидкости область дна, но пропускающая газ часть дна выполнена в виде диафрагмы или в виде мембраны.
Система согласно настоящему изобретению обладает преимуществом, заключающимся в том, что с помощью мембраны, которая образует герметичную для жидкости область дна, но пропускающую газ часть дна можно создавать обладающий значительным пространственным размером бисерный газовый поток, так что диспергат поддерживается во всем объеме электролита и при этом исключаются отложения на дне. Наряду с этим можно производить регулирование осаждения с помощью наружного генерирования давления.
С помощью регулирования давления газа со стороны, которая расположена напротив электролита герметичной для жидкости области дна, но пропускающей газ области дна резервуара, можно согласно настоящему изобретению регулировать степень напыления. С помощью изменения давления газа происходит также и изменение протекающего через электролит газа, который в результате наличия выполненной в виде диафрагмы или мембраны герметичной для жидкости области дна, но пропускающей газ части дна резервуара, протекает в виде мелких пор через электролит. В результате этого можно регулировать степень дисперсности находящихся в электролите частиц.
Известно, что во время электролиза в области анода образуются осаждения частиц, которые производят так называемый анодный шлам. Из уровня техники известно, что вокруг анода формируют разновидность мешка для улавливания анодного шлама и для предотвращения его распределения в электролите. Однако при этом существует проблема, заключающаяся в том, что этот анодный мешок не обладает герметичностью для диспергата. В результате этого с течением времени анод спекается и неравномерно распределяет диспергат по всей высоте. Для технического решения изобретение предлагает экранировать анод открытой для ионов и герметичной для шлама и диспергата мембраной. В рамках изобретения под мембраной в этой взаимосвязи следует подразумевать оболочку из материала, который для соответствующего материала и соответствующего направления является герметичным и соответственно открытым.
Таким образом, обеспечивается условие, согласно которому анод не может спекаться и на основании дальнейшего исполнения согласно настоящему изобретению по всей высоте ванны электролита наблюдается одинаковое распределение диспергата. Свойство диспергата, которое заключается в способности связываться с ионами металла со стороны анода, возникает в результате кондиционирования, то есть проводящей способности.
В отношении диапазона температур, концентрации никеля, концентрации бора или концентрации соединений бора, размера частиц, диспергированных в электролите частиц бора или соединений бора, pH среды или приложенного напряжения осаждения, каких-либо ограничений не существуют. При этом в качестве напряжения можно прикладывать постоянное напряжение, импульсное напряжение или реверсивное импульсное напряжение. В рамках изобретения используются обычные диапазоны этих параметров.
В отношении устройства задача изобретения решается с помощью резервуара для размещения электролита, который отличается тем, что дно резервуара выполнено, по меньшей мере, частично герметичным для жидкости, но пропускающим газ.
Герметичная для жидкости область дна резервуара, но пропускающая газ часть дна резервуара выполнена преимущественно в виде диафрагмы.
Устройство согласно настоящему изобретению снабжено приспособлением для регулирования давления газа на расположенной напротив электролита стороне герметичной для жидкости области дна резервуара, но пропускающей газ области дна резервуара.
С помощью способа согласно настоящему изобретению, а также с помощью устройства можно производить осаждение на металлические поверхности содержащие никель и бор твердые покрытия.
Осажденные с помощью способа согласно настоящему изобретению, а также с помощью устройства согласно настоящему изобретению покрытия могут наряду с никелем и бором содержать и другие компоненты. Эти компоненты представляют собой, по меньшей мере, элемент из группы, состоящей из титана, хрома, ванадия, марганца, молибдена, магния, кобальта, меди, цинка, ниобия, вольфрама, олова, алюминия, силиция, фосфора, углерода или азота или соединения этих элементов.

Claims (13)

1. Способ изготовления на металлической поверхности твердого покрытия с низкой степенью износа, содержащего никель и бор, включающий введение в контакт покрываемой металлической поверхности при включении напряжения осаждения с содержащим никель электролитом, который в виде дисперсной ванны содержит частицы бора или частицы соединений бора, причем содержащиеся в электролите частицы бора или частицы соединений бора во время процесса нанесения покрытия удерживают в дисперсном состоянии с помощью протекающего через электролит газа и предотвращают осаждение частиц, причем способ осуществляют в резервуаре, в котором газ протекает от дна резервуара через электролит до поверхности электролита, и в котором дно резервуара, по меньшей мере, частично выполнено герметичным для жидкости и пропускающим газ, который поступает в электролит через упомянутую часть дна резервуара, герметичную для жидкости и пропускающую газ.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что протекающий через электролит газ по существу препятствует воздействию силы тяжести.
3. Способ по одному из п. 1 или 2, отличающийся тем, что протекающий через электролит газ представляет собой, по меньшей мере, газ группы, состоящей из азота, кислорода, гелия, неона, аргона, углекислого газа, водорода или из их смеси.
4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что герметичная для жидкости и пропускающая газ часть дна резервуара выполнена в виде диафрагмы или мембраны.
5. Способ по п. 1, отличающийся тем, что давлением газа на противоположной электролиту стороне герметичной для жидкости и пропускающей газ части дна резервуара регулируют осаждение частиц при нанесении покрытия.
6. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в нем используют постоянное напряжение, импульсное напряжение или реверсивное импульсное напряжение.
7. Способ по п. 1, отличающийся тем, что анод экранирован открытой для ионов и герметичной для шлама и диспергата мембраной.
8. Устройство для изготовления на металлической поверхности твердого покрытия с низкой степенью износа, содержащего никель и бор, способом по одному из пп. 1-7, содержащее резервуар для размещения электролита, в котором дно резервуара выполнено, по меньшей мере, частично герметичным для жидкости и пропускающим газ.
9. Устройство по п. 8, отличающееся тем, что герметичная для жидкости и пропускающая газ часть дна резервуара выполнена в виде диафрагмы или мембраны.
10. Устройство по одному из п. 8 или 9, отличающееся тем, что оно снабжено приспособлением для регулирования давления газа на противоположной электролиту стороне герметичной для жидкости и пропускающей газ части дна резервуара.
11. Устройство по п. 8, отличающееся тем, что анод экранирован открытой для ионов, но герметичной для шлама и диспергата мембраной.
12. Твердое покрытие на металлической поверхности с низкой степенью износа, содержащее никель и бор, отличающееся тем, что покрытие получено способом по одному из пп. 1-7.
13. Твердое покрытие по п. 12, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит, по меньшей мере, элемент группы, состоящей из Ti, Cr, V, Mn, Mo, Mg, Со, Сu, Zn, Nb, W, Sn, Al, Si, P, C, N или их соединений.
RU2011119340/02A 2008-10-17 2009-10-16 Способ и устройство для изготовления твердых покрытий с низкой степенью износа RU2503752C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1631/08 2008-10-17
CH16312008 2008-10-17
PCT/EP2009/007420 WO2010043402A1 (de) 2008-10-17 2009-10-16 Verfahren und vorrichtung zur herstellung verschleissarmer hartbeschichtungen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011119340A RU2011119340A (ru) 2012-11-27
RU2503752C2 true RU2503752C2 (ru) 2014-01-10

Family

ID=41569902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011119340/02A RU2503752C2 (ru) 2008-10-17 2009-10-16 Способ и устройство для изготовления твердых покрытий с низкой степенью износа

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20110300408A1 (ru)
EP (1) EP2344685B1 (ru)
CN (1) CN102187016A (ru)
PL (1) PL2344685T3 (ru)
RU (1) RU2503752C2 (ru)
WO (1) WO2010043402A1 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2497520A (en) * 2011-12-09 2013-06-19 Mahle Int Gmbh Method of electroplating a bearing surface
CN103046093B (zh) * 2012-12-21 2015-08-26 江苏大学 一种提高高速钢轧辊表层耐磨性的脉冲电沉积方法
DE102017005221A1 (de) * 2017-05-31 2018-12-06 Hochschule Mittweida (Fh) Harte und verschleißfeste Dispersionsschicht mit einer metallischen Matrix auf Substraten

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1236954A (en) * 1968-04-26 1971-06-23 Bristol Aerojet Ltd Improvements in and relating to electrodeposited composite coatings
SU954530A1 (ru) * 1980-01-31 1982-08-30 Сибирский металлургический институт им.Серго Орджоникидзе Электролит дл осаждени комбинированных электрохимических покрытий на основе никел
SU1664877A1 (ru) * 1989-06-21 1991-07-23 Всесоюзное Научно-Производственное Объединение По Рациональному Использованию Газа В Народном Хозяйстве Способ получени композиционных покрытий никель-бор
WO2008101550A1 (de) * 2007-02-20 2008-08-28 Siemens Aktiengesellschaft Walze und/oder rolle sowie ein verfahren zur herstellung einer walze und/oder rolle

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3081239A (en) 1961-07-13 1963-03-12 Udylite Corp Slurry agitator mechanism
US3300396A (en) * 1965-11-24 1967-01-24 Charles T Walker Electroplating techniques and anode assemblies therefor
FR1579266A (ru) * 1967-09-09 1969-08-22
DE2247956C3 (de) * 1972-09-29 1980-11-06 Toyo Kogyo Co. Ltd., Hiroshima (Japan) Werkstück mit galvanisch aufgebrachtem Nickelüberzug und Bad zu dessen Abscheidung
DE3246323C2 (de) * 1982-12-15 1986-10-30 Franz Rieger Metallveredelung, 7924 Steinheim Bad zur einstufigen galvanischen Direktvernicklung von Werkstücken aus Aluminium und Aluminiumlegierungen
US5744013A (en) * 1996-12-12 1998-04-28 Mitsubishi Semiconductor America, Inc. Anode basket for controlling plating thickness distribution
US6126798A (en) * 1997-11-13 2000-10-03 Novellus Systems, Inc. Electroplating anode including membrane partition system and method of preventing passivation of same
CN1390983A (zh) * 2002-07-24 2003-01-15 吉林市宏志实业发展有限公司 紫杂铜一步电解生产阴极铜方法
CN100348780C (zh) * 2004-03-16 2007-11-14 天津大学 脉冲镀镍基纳米复合镀层的方法及设备
US7727293B2 (en) * 2005-02-25 2010-06-01 SOCIéTé BIC Hydrogen generating fuel cell cartridges

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1236954A (en) * 1968-04-26 1971-06-23 Bristol Aerojet Ltd Improvements in and relating to electrodeposited composite coatings
SU954530A1 (ru) * 1980-01-31 1982-08-30 Сибирский металлургический институт им.Серго Орджоникидзе Электролит дл осаждени комбинированных электрохимических покрытий на основе никел
SU1664877A1 (ru) * 1989-06-21 1991-07-23 Всесоюзное Научно-Производственное Объединение По Рациональному Использованию Газа В Народном Хозяйстве Способ получени композиционных покрытий никель-бор
WO2008101550A1 (de) * 2007-02-20 2008-08-28 Siemens Aktiengesellschaft Walze und/oder rolle sowie ein verfahren zur herstellung einer walze und/oder rolle

Also Published As

Publication number Publication date
EP2344685A1 (de) 2011-07-20
WO2010043402A4 (de) 2010-07-01
US20110300408A1 (en) 2011-12-08
WO2010043402A1 (de) 2010-04-22
EP2344685B1 (de) 2016-06-08
RU2011119340A (ru) 2012-11-27
CN102187016A (zh) 2011-09-14
PL2344685T3 (pl) 2016-12-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA3003673C (en) Method for applying ultrafine phosphate conversion crystal coatings
Zhao et al. Corrosion mechanism of NiCrBSi coatings deposited by HVOF
CN100510130C (zh) 开孔金属泡沫体及其制备方法
RU2503752C2 (ru) Способ и устройство для изготовления твердых покрытий с низкой степенью износа
TWI763777B (zh) 自具有降低之有機浴添加劑劣化的鹼性塗覆浴電流沉積鋅及鋅合金塗層的方法
Zhang et al. Nanocrystalline Ni coating prepared by a novel electrodeposition
JP2020186165A (ja) 炭化チタンオーバーレイ及びその製造方法
Peng et al. A novel strategy to apply metallic nanoparticles to manufacture NiCrAl composite coatings smartly growing chromia and alumina
Bolelli et al. Heat treatment effects on the corrosion resistance of some HVOF-sprayed metal alloy coatings
CN100406615C (zh) 一种Ni-CrN硬质复合涂层及制备方法和应用
US11959176B2 (en) Metallic coating and method
Chen et al. Effect of the particle size of 316L stainless steel on the corrosion characteristics of the steel fabricated by selective laser melting
Sataev et al. A galvanic-chemical method for preparing diamond containing coatings
Gao et al. Facile electrodeposition of corrosion-resistant superhydrophobic Ni-plated stainless-steel mesh for oil–water separation
US20110198226A1 (en) Method for deposition of hard chrome layers
Madaeni et al. Preparation and characterization of metallic membrane using wire arc spraying
Yang et al. A study of CVD growth kinetics and morphological evolution of rhenium from ReCl5
Ma et al. Study on the nano-composite electroless coating of Ni–P/Au
CN106086579B (zh) 抗接触腐蚀的TiAl基合金涂层及其制备方法
EP1522610B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Verschleissschutzschicht
Santiago-Bautista et al. Effects of tic Nanostructured Overlays on D2 Steels by PTA
Gidikova et al. Effect of nanodiamonds modification of chromium coating on sintered ferrous materials
Efremenko et al. Kinetics of structure transformation in pulsed plasma high-Cr coatings under post-heat treatment
Karam et al. A new aerosol chemical plating process for surface coatings: An application for corrosion protection
Techapiesancharoenkij et al. Electrochemical codeposition of Ti-dispersed Ni-matrix layers by pulse-form current

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20181017