RU2432417C1 - Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий - Google Patents

Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий Download PDF

Info

Publication number
RU2432417C1
RU2432417C1 RU2010116574/02A RU2010116574A RU2432417C1 RU 2432417 C1 RU2432417 C1 RU 2432417C1 RU 2010116574/02 A RU2010116574/02 A RU 2010116574/02A RU 2010116574 A RU2010116574 A RU 2010116574A RU 2432417 C1 RU2432417 C1 RU 2432417C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
flat
mask
magnet
seat
Prior art date
Application number
RU2010116574/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Николай Николаевич Усов (RU)
Николай Николаевич Усов
Юрий Степанович Четверов (RU)
Юрий Степанович Четверов
Сергей Алексеевич Стахарный (RU)
Сергей Алексеевич Стахарный
Павел Николаевич Кудрявцев (RU)
Павел Николаевич Кудрявцев
Елена Васильевна Нестерова (RU)
Елена Васильевна Нестерова
Марина Михайловна Звонова (RU)
Марина Михайловна Звонова
Марина Александровна Герасименко (RU)
Марина Александровна Герасименко
Светлана Павловна Столярова (RU)
Светлана Павловна Столярова
Original Assignee
Открытое акционерное общество Центральный научно-исследовательский институт "ЦИКЛОН"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое акционерное общество Центральный научно-исследовательский институт "ЦИКЛОН" filed Critical Открытое акционерное общество Центральный научно-исследовательский институт "ЦИКЛОН"
Priority to RU2010116574/02A priority Critical patent/RU2432417C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2432417C1 publication Critical patent/RU2432417C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области производства электронных компонентов и может быть использовано, в частности, в микроэлектронике для совмещения ферромагнитных свободных масок при формировании прецизионного топологического рисунка тонких пленок органики, металлов и диэлектриков, напыляемых на пластины в вакууме. Устройство включает маску из ферромагнитного материала 8, располагаемую с лицевой стороны подложки 3, и магнит 4 с плоской верхней поверхностью, располагаемый с противоположной по отношению к маске 8 стороны подложки 3. Кроме того, устройство содержит корпус 1 с плоской верхней поверхностью и плоским гнездом 2 для подложки 3, глубина которого выполнена такой, чтобы нижняя поверхность маски 8, верхняя поверхность подложки 3 и верхняя плоская поверхность корпуса 1 были расположены в одной плоскости. Дно плоского гнезда 2 образовано плоской верхней поверхностью магнита 4. На боковых поверхностях плоского гнезда 2 по периметру выполнены упоры 5 и расположенные с противоположных сторон прижимные винты 6, фиксирующие положение подложки 3 в гнезде 2. На верхней плоской поверхности корпус 1 имеет выступы 7, фиксирующие положение маски 8, которая имеет посадочные отверстия 9 под выступы 7. Технический результат - обеспечение смены ферромагнитных масок без разборки всего пакета и снятия магнита. 2 ил.

Description

Изобретение относится к области производства электронных компонентов и может быть использовано, в частности, в микроэлектронике для совмещения ферромагнитных свободных масок при формировании прецизионного топологического рисунка тонких пленок органики, металлов и диэлектриков, наносимых на пластины в вакууме, например, в производстве органических светоизлучающих диодов (ОСИД), интегральных схем, гибридных интегральных схем, изделий индикаторной техники.
При создании прецизионных топологических рисунков заданной конфигурации в многослойных тонких пленках, получаемых вакуумным напылением на подложку через ферромагнитную маску, в том числе и на подложку с нанесенными ранее слоями, возникает проблема обеспечения равномерного и плотного контакта ферромагнитной маски с поверхностью подложки и проблема совмещаемости топологических рисунков из-за наличия привнесенных дефектов в виде рисок и царапин.
Известно устройство для напыления в вакууме многослойных изделий, включающее маску из ферромагнитного материала, располагаемую с лицевой стороны подложки, и магнит, располагаемый с противоположной по отношению к маске стороны подложки [заявка Японии № 1-242768].
Устройство обеспечивает отсутствие дефектов типа "подпылов" в получаемом топологическом рисунке. Однако описанное устройство обладает следующими недостатками. Использование плоского магнита возможно для масок толщиной более 150 мкм и зазором между окнами маски более 200 мкм. При использовании масок толщиной 40 мкм с элементами типа "струны" происходит изгиб "струны" за счет градиента напряженности магнитного поля вдоль плоскости маски, что приводит к искажению топологического рисунка и наличию "подпылов".
Кроме того, материал, из которого изготовлен применяемый в устройстве плоский магнит, имеет твердость, превышающую твердость пластины, выполненной, например, из стекла, германия, кремния, арсенида галлия и т.п. и легко повреждает (царапает) поверхность пластины при наложении пакета "маска-подложка" на магнит, что приводит в негодность полученный продукт (подложку с рисунком, напыленным через маску). При снятии с устройства (при отрыве) пакета "маска-подложка" приходится сдвигать этот пакет параллельно плоскости магнита, что ведет к травмированию обратной стороны подложки и появлению рисок и царапин, что в конечном итоге приводит в негодность конечный продукт.
Наиболее близким по технической сущности и взятым за прототип является устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий, включающее маску из ферромагнитного материала, располагаемую с лицевой стороны подложки и плоский магнит в виде полос с чередующимися полюсами и с плоской верхней поверхностью, располагаемый с противоположной по отношению к маске стороны подложки [патент России №2063473].
Прототип позволяет улучшить качество рисунка, напыляемого через маску, путем исключения повреждения подложки твердым магнитом за счет разделения подложки и магнита прокладкой из диамагнитного материала, толщина которой не превышает половины ширины полюса магнита.
Основным недостатком прототипа является предварительная сборка пакета устройства, при которой на диамагнитную прокладку помещается рабочая пластина, сверху накладывается маска из ферромагнитного материала, и собранный пакет помещается на плоский магнит с чередующимися полюсами в виде полос. Такое конструктивное решение не позволяет проводить смену масок без разборки пакета и снятия магнита.
Техническим результатом изобретения является обеспечение смены ферромагнитных масок без разборки всего пакета и снятия магнита.
Технический результат достигается тем, что устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий включает маску из ферромагнитного материала, располагаемую с лицевой стороны подложки, и магнит в виде полос с чередующимися полюсами и с плоской верхней поверхностью, располагаемый с противоположной по отношению к маске стороны подложки. Устройство включает также корпус с плоской верхней поверхностью и плоским гнездом для подложки, глубина которого выполнена такой, чтобы нижняя поверхность маски, верхняя поверхность подложки и верхняя плоская поверхность корпуса были расположены в одной плоскости. Дно плоского гнезда образовано плоской верхней поверхностью встроенного в корпус вышеупомянутого магнита. На боковых поверхностях плоского гнезда по периметру выполнены упоры и расположенные с противоположных сторон относительно упоров прижимные винты, фиксирующие положение подложки в гнезде. На верхней плоской поверхности корпус имеет выступы, фиксирующие положение маски, которая имеет посадочные отверстия под вышеупомянутые выступы.
Плотное прижатие маски гарантирует отсутствие дефектов, так называемых "подпылов", т.е. искажения заданной конфигурации напыляемого топологического рисунка. Фиксация рабочих пластин в трех точках и совмещаемость масок с высокой точностью исключают дефектность в виде рисок и царапин, что приводит к исключению брака готовых изделий.
Устройство позволяет вести работы с прецизионными масками с точностью совмещения до 10 мкм каждой последующей маски с исходным топологическим рисунком без травмирования пластины с двух сторон и отсутствия "подпылов". Количество масок определяется технологическим процессом на изделие.
Сущность изобретения поясняется чертежом, где
на фиг.1 показано устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий без подложки и маски;
на фиг.2 показано устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий в сборе с подложкой и маской.
Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий включает (фиг.1) корпус 1 с плоским гнездом 2 для подложки 3 и плоской верхней поверхностью, магнит 4 в виде полос с чередующимися полюсами. Магнит 4 встроен в корпус 1 таким образом, что дно плоского гнезда 2 образовано верхней плоской поверхностью магнита 4. На боковых поверхностях плоского гнезда 2 по периметру выполнены упоры 5 и расположенные с противоположных сторон относительно упоров 5 прижимные винты 6, фиксирующие положение подложки 3 в плоском гнезде 2. На верхней плоской поверхности корпус 1 имеет выступы 7, фиксирующие положение маски 8, которая имеет посадочные отверстия 9 под вышеупомянутые выступы 7 и заданную конфигурацию рисунка (фиг.2). Глубина плоского гнезда 2 выполнена такой, чтобы нижняя поверхность маски 8, верхняя поверхность подложки 3 и верхняя плоская поверхность корпуса 1 были расположены в одной плоскости.
Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий используется следующим образом.
На магнит 4 устройства (фиг.2) в плоское гнездо 2 углом в область упоров 5 кладется подложка 3 рабочей стороной вверх и окончательно фиксируется прижимными винтами 6, при этом прижимные винты 6 подпружинены, а все упоры 5 расположены ниже верхнего уровня или на верхнем уровне подложки 3. Сверху на верхнюю плоскую поверхность корпуса 1 накладывается маска 8 таким образом, чтобы выступы 7 вошли в посадочные отверстия 9 в маске 8. После установки маски 8 осуществляют процесс напыления в вакууме тонкого слоя многослойного изделия. Магнит 4 притягивает маску 8 равномерно по всей поверхности подложки 3, при этом маска 8 не перемещается по поверхности подложки 3 даже при ее смене при необходимости получения совмещенных или рядом расположенных рисунков из других материалов. Соответственно отсутствуют царапины и прочие дефекты с обеих сторон подложки 3. Отсутствие "подпылов" гарантируется качественным прижатием маски 8 к подложке 3 магнитом 4 в виде полос с чередующимися полюсами.
Таким образом, предложенное техническое решение позволит обеспечить смену ферромагнитных масок без разборки всего пакета и снятия магнита.
Следует отметить, что хотя в описании изобретения был представлен и проиллюстрирован только предпочтительный вариант выполнения изобретения, в конструкцию могут быть внесены различные модификации и изменения, не затрагивающие существа и объема изобретения, определяемого формулой изобретения.
Промышленная применимость изобретения определяется тем, что предлагаемое устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий может быть изготовлено в соответствии с предлагаемым описанием и чертежами на основе известных комплектующих изделий при использовании современного технологического оборудования и использовано по прямому назначению.

Claims (1)

  1. Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий, включающее маску из ферромагнитного материала, располагаемую с лицевой стороны подложки, и магнит в виде полос с чередующимися полюсами и с плоской верхней поверхностью, располагаемый с противоположной по отношению к маске стороны подложки, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит корпус с плоской верхней поверхностью и плоским гнездом для подложки, глубина которого выполнена такой, чтобы нижняя поверхность маски, верхняя поверхность подложки и верхняя плоская поверхность корпуса были расположены в одной плоскости, а дно плоского гнезда образовано плоской верхней поверхностью встроенного в корпус вышеупомянутого магнита, при этом на боковых поверхностях плоского гнезда по периметру выполнены упоры и расположенные с противоположных сторон относительно упоров прижимные винты, фиксирующие положение подложки в гнезде, а на плоской верхней поверхности корпус имеет выступы, фиксирующие положение маски, которая имеет посадочные отверстия под вышеупомянутые выступы.
RU2010116574/02A 2010-04-27 2010-04-27 Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий RU2432417C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010116574/02A RU2432417C1 (ru) 2010-04-27 2010-04-27 Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010116574/02A RU2432417C1 (ru) 2010-04-27 2010-04-27 Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2432417C1 true RU2432417C1 (ru) 2011-10-27

Family

ID=44998110

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010116574/02A RU2432417C1 (ru) 2010-04-27 2010-04-27 Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2432417C1 (ru)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2586937C1 (ru) * 2014-11-25 2016-06-10 ОАО "Научно-исследовательский институт электронных приборов" Способ напыления в вакууме топологического тонкоплёночного рисунка гибридной микросхемы на подложку
RU2590747C2 (ru) * 2014-11-25 2016-07-10 ОАО "Научно-исследовательский институт электронных приборов" Установка для напыления в вакууме топологического тонкоплёночного рисунка гибридной микросхемы на подложку
RU2653897C2 (ru) * 2016-10-18 2018-05-15 Публичное акционерное общество "Сатурн" (ПАО "Сатурн") Устройство для напыления просветляющего покрытия фотопреобразователя
RU2749957C2 (ru) * 2019-12-04 2021-06-21 Акционерное общество "НПО "Орион" Способ изготовления матричного фотоприемника
RU2787908C1 (ru) * 2022-02-28 2023-01-13 Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП") Устройство для формирования конфигурации пленок, напыляемых в вакууме

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2586937C1 (ru) * 2014-11-25 2016-06-10 ОАО "Научно-исследовательский институт электронных приборов" Способ напыления в вакууме топологического тонкоплёночного рисунка гибридной микросхемы на подложку
RU2590747C2 (ru) * 2014-11-25 2016-07-10 ОАО "Научно-исследовательский институт электронных приборов" Установка для напыления в вакууме топологического тонкоплёночного рисунка гибридной микросхемы на подложку
RU2653897C2 (ru) * 2016-10-18 2018-05-15 Публичное акционерное общество "Сатурн" (ПАО "Сатурн") Устройство для напыления просветляющего покрытия фотопреобразователя
RU2749957C2 (ru) * 2019-12-04 2021-06-21 Акционерное общество "НПО "Орион" Способ изготовления матричного фотоприемника
RU2787908C1 (ru) * 2022-02-28 2023-01-13 Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП") Устройство для формирования конфигурации пленок, напыляемых в вакууме

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2432417C1 (ru) Устройство для напыления в вакууме тонких слоев многослойных изделий
KR102373326B1 (ko) 증착 장치 및 증착 장치 내 기판 정렬 방법
ATE426918T1 (de) Recycling eines wafers mit einer mehrschichtstruktur nach dem abnehmen einer dunnen schicht
WO2007104171A3 (fr) Procede de fabrication par liga-uv d'une structure metallique multicouche a couches adjacentes non entierement superposees, et structure obtenue
MY171019A (en) Modification of magnetic properties of films using ion and neutral beam implantation
KR102311586B1 (ko) 증착 장치 및 증착 장치 내 기판 정렬 방법
US20080041816A1 (en) Systems and methods for manufacturing wire grid polarizers
JP2012074729A5 (ja) 液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法
CN103695841A (zh) 一种掩模组件的组装方法
TW200616229A (en) Method and apparatus for fabricating flat panel display
MY161518A (en) Hdd pattern implant system
CN105702564A (zh) 一种改善晶圆翘曲度的方法
TW200637051A (en) Mask, mask manufacturing method, pattern forming apparatus, and pattern formation method
US20150114293A1 (en) Thin-film depositing apparatus
KR20120122955A (ko) 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 디바이스 제조 방법
JP2019505088A5 (ru)
US20160320696A1 (en) Template substrate, template substrate manufacturing method, and pattern forming method
TW200700932A (en) Lithography process with an enhanced depth-of-depth
SG151235A1 (en) Glass substrate for magnetic disc and manufacturing method thereof
WO2019054718A3 (ko) 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN106637072A (zh) 一种高精度金属掩膜装置及其制造方法
JP2019019370A5 (ru)
WO2018214633A1 (zh) 显示基板的制备方法、显示基板母板
KR101888511B1 (ko) 임프린팅 공정을 이용한 연성동박적층필름의 마이크로 패턴 제작 방법
SG134223A1 (en) Method and apparatus of manufacturing magnetic recording medium

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20150428