RU2421544C2 - Технологическая печь или подобное оборудование - Google Patents
Технологическая печь или подобное оборудование Download PDFInfo
- Publication number
- RU2421544C2 RU2421544C2 RU2008143663/02A RU2008143663A RU2421544C2 RU 2421544 C2 RU2421544 C2 RU 2421544C2 RU 2008143663/02 A RU2008143663/02 A RU 2008143663/02A RU 2008143663 A RU2008143663 A RU 2008143663A RU 2421544 C2 RU2421544 C2 RU 2421544C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- furnace
- gas
- reaction chamber
- heating zone
- volume
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 68
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 63
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 20
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 claims description 3
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 claims description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 230000011664 signaling Effects 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 8
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001171 gas-phase infiltration Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000004941 influx Effects 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T50/00—Aeronautics or air transport
- Y02T50/60—Efficient propulsion technologies, e.g. for aircraft
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Изобретение относится к печам для химической инфильтрации из газовой фазы или химического осаждения из газовой фазы. Печь содержит наружный кожух, реакционную камеру, расположенную в кожухе, нагревательную систему и систему циркуляции газа-реагента. Наружный кожух печи и реакционная камера ограничивают первый объем между внутренней стороной кожуха печи и наружной стороной реакционной камеры и второй объем внутри реакционной камеры. Первый объем разделен на первую часть, образующую зону нагревания, в которой размещена нагревательная система, и вторую часть, в которой присутствует газ-реагент. При этом зона нагревания герметично изолирована относительно второй части. Печь дополнительно содержит систему циркуляции инертного газа, выполненную и размещенную с возможностью подачи инертного газа в зону нагревания со скоростью, обеспечивающей положительный перепад давления по отношению к давлению газа-реагента внутри второй части первого объема, в которой присутствует газ-реагент для препятствования прохождению потока газа-реагента в зону нагревания. Конструкция позволяет предотвратить контакт газа-реагента с нагревательной системой, что повышает надежность и долговечность устройства. 12 з.п. ф-лы, 2 ил.
Description
Область техники, к которой относится изобретение
Настоящее изобретение в наиболее общем виде относится к термокамерам, печам, технологическим камерам и подобному оборудованию, в котором газ-реагент вводится как часть технологической операции. В частном примере осуществления изобретение относится к печам для химической инфильтрации из газовой фазы/химического осаждения из газовой фазы (CVI/CVD-печам), в которые вводится газ-реагент в качестве составляющей способа уплотнения пористых элементов, таких как пористые заготовки для тормозов.
Уровень техники
Общеизвестно использование термокамер, печей, технологических камер и другого подобного оборудования, в которое как часть технологической операции вводится газ-реагент. В дальнейшем встречающийся в описании термин "печь" следует понимать как термин, в равной степени применимый к термокамерам и другим технологическим камерам этого типа в целом. Примером в этом отношении может служить инфильтрация из газовой фазы, где представляющий собой прекурсор газ-реагент вводится в печь, в которую помещают пористые элементы, такие как, например, пористые заготовки тормозных дисков, но не ограничиваясь данными элементами.
Как правило, традиционная печь включает в себя наружный кожух печи, предусмотренное в нем рабочее пространство или реакционную камеру, куда помещают подлежащие обработке объекты или элементы, систему для перемещения газа-реагента в печь и из печи, а также нагревательную систему для нагревания по меньшей мере внутренней части реакционной камеры.
Газ-реагент известным способом заставляют просачиваться (обеспечивают его инфильтрацию) в пористую структуру пористых элементов. Газ-реагент может представлять собой углеводородный газ, такой как пропан.
В одном из известных примеров газ-реагент вводится во внутренний объем, определяемый стопкой по существу выровненных кольцевых заготовок тормозных дисков, помещенных в реакционную камеру печи. Вообще говоря, газ заставляют двигаться из внутреннего объема стопки к наружной части стопки путем диффундирования через пористую (например, волокнистую) структуру заготовок и/или через промежутки между соседними заготовками.
С помощью нагревательной системы нагревается по меньшей мере внутренняя часть реакционной камеры. Таким образом, из-за относительно высокой температуры заготовок тормозных дисков газ-реагент подвергается пиролизу и оставляет продукт распада на внутренних поверхностях пористой структуры. В случае углеводородного газа, например, продуктом распада является пироуглерод, так что в результате получается углеродный композитный материал (такой, как материал системы углерод-углерод).
Примером традиционной нагревательной системы для таких печей может служить индукционная нагревательная система. В такой системе реакционная камера может быть изготовлена из такого материала, как графит, с тем, чтобы играть роль сусцептора. Предусматривается также система для обеспечения необходимого магнитного поля, например, в виде одной или большего количества электрических обмоток, функционально примыкающих по меньшей мере к части сусцептора. Когда на электрические обмотки подается достаточный переменный ток, получающееся магнитное поле известным образом вызывает индукционный нагрев сусцептора.
Другим видом традиционной нагревательной системы является резистивное нагревание, где электрический ток проходит через резистивный элемент, который в результате нагревается. Использование резистивного нагревания обычно влечет использование резистивного элемента дополнительно к конструкции, задающей реакционную камеру.
Для увеличения теплового КПД как в случае индукционной нагревательной системы, так и в случае резистивной нагревательной системы вокруг наружной части реакционной камеры может быть предусмотрена теплоизоляция.
Однако газ-реагент, введенный в реакционную камеру, стремится просочиться или диффундировать из реакционной камеры в пространство, находящееся в пределах печи, но вне реакционной камеры.
В частности, в процессе CVI/CVD газ-реагент является прекурсором для осаждаемого продукта распада (такого, как карбидное или углеродистое отложение). Если газ-реагент будет доходить до изоляции или нагревательной системы, то на этих конструкциях могут образовываться и накапливаться осаждения, что вызывает ухудшение функционирования, надежности и/или долговечности.
Раскрытие изобретения
В свете вышеизложенного, в CVI/CVD-печи желательно по существу изолировать нагревательную систему (и соответствующую теплоизоляцию при ее наличии) от используемого в печи газа-реагента.
С этой целью настоящее изобретение предполагает задание зоны в кожухе CVI/CVD-печи, в которой нагревательная система (включая соответствующую теплоизоляцию при ее наличии) по существу изолирована от контакта с газом-реагентом, используемым в CVI/CVD-процессе.
В одном аспекте изолированная зона (иногда называемая в настоящем документе "зоной нагревания") в кожухе печи физически изолирована элементом стенки, расположенным в пределах кожуха печи так, чтобы задавать зону нагревания.
В дополнительном аспекте настоящее изобретение предполагает введение потока инертного газа в зону нагревания так, чтобы установить незначительный положительный перепад давления по отношению к давлению газа-реагента внутри реакционной камеры. Данный перепад давления дополнительно сдерживает проникновение газа-реагента в зону нагревания.
Краткое описание чертежей
Настоящее изобретение можно понять лучше при рассмотрении прилагаемых чертежей, где
фиг.1 представляет собой схематический вид поперечного сечения технологической печи по настоящему изобретению, в которой используется индукционная система нагревания; и
фиг.2 представляет собой частичный вид поперечного сечения, иллюстрирующий альтернативное использование резистивной нагревательной системы, как предусмотрено в настоящем изобретении.
Осуществление изобретения
Для упрощения описания изобретения сначала будет изложен пример индукционно нагреваемой печи. Далее, со ссылкой на фиг.2 будет проиллюстрирована возможность применения настоящего изобретения для печи, использующей резистивное нагревание.
Вообще говоря, печь 10, используемая для процесса CVI/CVD, содержит наружный кожух 12 печи, отделяющий внутреннюю часть печи 10 от внешнего окружения и задающий в ней некоторый объем.
Внутри объема печи 10 предусмотрен сусцептор 14. Как хорошо известно в данной области техники, сусцептор, как правило, представляет собой конструкцию, которая нагревается в присутствии магнитного поля, создаваемого переменным током. Сусцептор 14 в CVI/CVD-печи может содержать, например, одну или большее количество стенок 16, пол 18 и верхний элемент 20, которые совместно определяют другой объем или реакционную камеру в пределах общего объема внутри печи 10. Подлежащие обработке объекты, такие как пористые заготовки тормозных дисков, помещают в объем 21, задаваемый сусцептором 14.
Система для нагревания печи в общем виде показана под ссылочным обозначением 22. Например, в случае индукционно нагреваемой печи нагревательная система 22 представляет собой одну или большее количество обычных электрических обмоток, присоединенных к наружному источнику электроснабжения соответствующей мощности. Предполагается, что электрические обмотки такого типа хорошо известны специалистам в данной области техники и поэтому здесь не иллюстрируются и подробно не описываются.
Чтобы увеличить эффективность нагревания сусцептора 14, на наружной части одной или большего количества поверхностей сусцептора 14 предусмотрена теплоизоляция 23. Берется изоляция, обычно используемая в данной области техники, такая как теплоизоляционный материал с керамической основой или изоляция из углеродных волокон, в особенности, углеродные волокна, образующие последовательно сложенные слои.
В сусцепторе 14 предусмотрены одно или большее количество отверстий 24 для впуска газа (с целью упрощения изображения на фиг.1 показано одно отверстие 24 для впуска газа). Газ-реагент, например углеводородный газ, вводится в печь 10 посредством трубопровода 26, который пересекает стенку 12 печи с наружной стороны. Трубопровод 26 по меньшей мере совпадает с отверстием 24 для впуска газа и может прикрепляться к нему или относительно него любым подходящим способом, например болтами или посредством сварки. В общем смысле предпочтительно, чтобы на границе между трубопроводом 26 и сусцептором 14 было лишь незначительное просачивание газа-реагента или не было вообще никакого просачивания. Поток газа-реагента через трубопровод 26 показан на фиг.1 стрелкой, обозначенной как А.
Как правило, газ-реагент выпускается (с помощью обычных способов перемещения газа, таких как вентиляторы, всасывающие газодувки и т.п., которые не показаны) или выходит каким-либо иным способом из рабочего пространства посредством одного или большего количества отверстий 28 для выпуска газа, как показано стрелками В. Далее, газ-реагент выходит или принуждается к выходу из печи 10 посредством одного или большего количества выпусков 30 печи, как в целом показано стрелками С.
В соответствии с примером осуществления настоящего изобретения внутренний объем печи, определяемый кожухом 12, может быть поделен таким образом, чтобы определить границы вышеупомянутой зоны нагревания. Например, как видно на фиг.1, предусмотрена кольцевая «планка», или стенка 32, которая проходит в радиальном направлении между внутренней поверхностью кожуха 12 и наружной поверхностью сусцептора 14. Стенка 32 неподвижно фиксируется с помощью обычных способов фиксации, подходящих для условий функционирования внутри печи 10. Если говорить более конкретно, то стенка 32 герметизируется (например, с помощью сварки или использования физических герметизирующих элементов) как на ее внутреннем крае, так и на внешнем крае по радиальному направлению так, чтобы вследствие этого получалось полностью газонепроницаемое уплотнение, препятствующее прохождению газа. Желательно, чтобы стенка 32 содержала сборку из слоев, например, в виде стопки жестких и/или гибких керамических слоев.
Инертный газ, такой как аргон или азот, подается в зону нагревания посредством трубопровода 34 для подачи инертного газа, как показано на фиг.1 стрелкой D.
Поток (расход) D инертного газа может регулироваться традиционным клапаном 36. С помощью данной регулировки клапана 36 можно получить поток D газа, который будет поддерживать в зоне нагревания заранее заданное давление Р1 (определяемое схематически изображенным датчиком 38 давления).
Параллельно этому, другим датчиком 40 давления измеряется давление Р2 в другой части объема, заданного в кожухе 32 печи, в которой присутствует газ-реагент (иногда называемой в настоящем документе "зоной реагента").
Определенные таким образом значения давления Р1 и Р2 могут быть вместе переданы на клапанный контроллер 42 (предпочтительно автоматический клапанный контроллер), так чтобы поток D инертного газа поддерживал заданный положительный перепад давления в зоне нагревания относительно остального объема в кожухе 10 печи. Например, поддерживаемый перепад давления может составлять от приблизительно +0,5 до приблизительно +5 миллибар в пользу зоны нагревания, а точнее от приблизительно +1 до приблизительно +2 миллибар в пользу зоны нагревания. Это незначительное избыточное давление в зоне нагревания также препятствует любому просачиванию или иному поступлению газа-реагента в зону нагревания.
Как упоминалось выше, предпочтительно автоматическое определение давлений Р1 и Р2. Например, перепад давлений между давлениями, определенными каждым из датчиков 38, 40 давления, может автоматически вычисляться через равные интервалы и передаваться на клапанный контроллер 42. Там этот результат может быть использован для автоматического регулирования потока В инертного газа в зону нагревания.
Следует понимать, что поток инертного газа, кроме того, можно контролировать. При этом необычно высокий расход инертного газа с целью поддержания заданного давления в зоне нагревания следует воспринимать как признак утечки газа в цельной конструкции зоны нагревания, в частности через стенку 32. Это определение может использоваться для подачи тревожного сигнала, воспринимаемого пользователем, или же оно может быть использовано как сигнал для запуска системы управления с целью автоматического запуска процедуры реагирования.
Применение настоящего изобретения в отношении печи, которая вместо этого нагревается с помощью резистивной нагревательной системы, по существу не отличается от применения в случае индуктивно нагреваемой печи. Фиг.2 представляет собой частичный вид поперечного сечения, иллюстрирующий пример размещения элементов в резистивной нагревательной системе, однако, в принципе, здесь применимы те же самые идеи, что и объясненные выше. Именно часть объема, определяемого кожухом 12' печи, в котором расположена резистивная нагревательная система, отделена с обеспечением газонепроницаемости от остального объема кожуха 12' печи, где присутствует газ-реагент. Реакционная камера 14' расположена в кожухе 12' печи, туда помещаются объекты, подлежащие обработке. Затем один или большее количество резистивных элементов 25 могут быть размещены в контакте с наружной частью реакционной камеры 14' или по меньшей мере рядом с ней. Резистивные элементы 25 могут иметь различные традиционные конструкции. В одном характерном примере резистивные элементы представляют собой вытянутые элементы.
Так же как и в индукционно нагреваемой печи, для увеличения теплового КПД печи может быть предусмотрен слой теплоизоляции 23'.
Однако, несмотря на иное расположение системы нагревания в случае использования резистивного нагрева, внутри кожуха 12' применима точно такая же общая конфигурация, как и у индукционно нагреваемой печи. Именно элементы резистивной нагревательной системы аналогичным образом изолируются от части печи, содержащей газ-реагент, поэтому описание размещения разделяющей стенки и системы инертного газа здесь не повторяется.
Несмотря на то что настоящее изобретение было описано выше со ссылкой на определенные конкретные примеры в целях иллюстрации и объяснения, следует понимать, что изобретение не ограничено ссылками на специфические детали этих примеров. Точнее говоря, специалист в данной области техники легко должен понять, что в предпочтительных вариантах осуществления могут быть выполнены модификации и изменения без выхода за рамки изобретения, охарактеризованного в формуле.
Claims (13)
1. Печь для химической инфильтрации из газовой фазы или химического осаждения из газовой фазы, содержащая наружный кожух (12, 12') печи, реакционную камеру (14, 14'), расположенную в кожухе печи и предназначенную для приема подлежащего обработке элемента, нагревательную систему (22) для нагревания, по меньшей мере, реакционной камеры и систему циркуляции газа-реагента, предназначенную для введения газа-реагента в реакционную камеру извне кожуха печи и для передачи газа-реагента из реакционной камеры вовне кожуха печи,
отличающаяся тем, что наружный кожух печи и реакционная камера ограничивают первый объем между внутренней стороной кожуха печи и наружной стороной реакционной камеры и второй объем внутри реакционной камеры, причем первый объем разделен на первую часть, образующую зону нагревания, в которой размещена нагревательная система, и вторую часть, в которой присутствует газ-реагент, при этом зона нагревания герметично изолирована относительно второй части с газом-реагентом, причем печь дополнительно содержит систему (34) циркуляции инертного газа, выполненную и размещенную с возможностью подачи инертного газа в зону нагревания со скоростью, обеспечивающей положительный перепад давления по отношению к давлению газа-реагента внутри второй части первого объема, в которой присутствует газ-реагент, для препятствования прохождению потока газа-реагента в зону нагревания и предотвращения контакта газа-реагента с нагревательной системой.
отличающаяся тем, что наружный кожух печи и реакционная камера ограничивают первый объем между внутренней стороной кожуха печи и наружной стороной реакционной камеры и второй объем внутри реакционной камеры, причем первый объем разделен на первую часть, образующую зону нагревания, в которой размещена нагревательная система, и вторую часть, в которой присутствует газ-реагент, при этом зона нагревания герметично изолирована относительно второй части с газом-реагентом, причем печь дополнительно содержит систему (34) циркуляции инертного газа, выполненную и размещенную с возможностью подачи инертного газа в зону нагревания со скоростью, обеспечивающей положительный перепад давления по отношению к давлению газа-реагента внутри второй части первого объема, в которой присутствует газ-реагент, для препятствования прохождению потока газа-реагента в зону нагревания и предотвращения контакта газа-реагента с нагревательной системой.
2. Печь по п.1, отличающаяся тем, что содержит первый датчик (38) давления, выполненный и размещенный с возможностью определения давления (Р1) в зоне нагревания, при этом система циркуляции инертного газа содержит регулятор (36) потока, функционирующий в соответствии с давлением, определенным в зоне нагревания, таким образом, чтобы задавать расход инертного газа, обеспечивающий заранее заданное давление в зоне нагревания.
3. Печь по п.2, отличающаяся тем, что содержит второй датчик (40) давления, выполненный и размещенный с возможностью определения давления (Р2) во второй части первого объема, в которой присутствует газ-реагент, при этом регулятор потока системы циркуляции инертного газа выполнен и размещен с возможностью управления потоком инертного газа в зону нагревания по меньшей мере частично на основе давления (Р2), определенного во второй части первого объема, таким образом, чтобы получать заранее заданный положительный перепад давления между зоной нагревания и второй частью первого объема.
4. Печь по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что содержит устройство тревоги для сигнализации об изменении потока инертного газа, необходимого для поддержания заданного давления в зоне нагревания.
5. Печь по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что нагревательная система представляет собой индуктивную нагревательную систему.
6. Печь по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что нагревательная система представляет собой резистивную нагревательную систему.
7. Печь по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что реакционная камера содержит один или большее количество элементов (16) стенки, элемент (18) пола и верхний элемент (20).
8. Печь по п.7, отличающаяся тем, что содержит трубопровод (26) для впуска газа-реагента, расположенный с возможностью передачи газа-реагента извне кожуха печи к отверстию (24) для впуска газа-реагента, выполненному в реакционной камере.
9. Печь по п.7, отличающаяся тем, что снабжена отверстием (28) для выпуска газа-реагента, выполненным в реакционной камере.
10. Печь по п.8, отличающаяся тем, что снабжена отверстием (28) для выпуска газа-реагента, выполненным в реакционной камере.
11. Печь по п.9, отличающаяся тем, что содержит выпуск (30) газа-реагента, выполненный в кожухе печи.
12. Печь по п.2 или 3, отличающаяся тем, что содержит контроллер для автоматического управления регулятором потока в зависимости от давления, определенного в зоне нагревания, или давления, определенного во второй области первого объема, или в зависимости обоих указанных давлений.
13. Печь по п.1, отличающаяся тем, что содержит разделяющую стенку (32) для отделения зоны нагревания от второй части первого объема, причем разделяющая стенка включает в себя по меньшей мере один керамический слой.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0651455A FR2900226B1 (fr) | 2006-04-25 | 2006-04-25 | Four de traitement ou analogue |
| FR0651455 | 2006-04-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2008143663A RU2008143663A (ru) | 2010-05-27 |
| RU2421544C2 true RU2421544C2 (ru) | 2011-06-20 |
Family
ID=37116170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2008143663/02A RU2421544C2 (ru) | 2006-04-25 | 2007-04-24 | Технологическая печь или подобное оборудование |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070256639A1 (ru) |
| EP (1) | EP1849889A1 (ru) |
| JP (1) | JP5567332B2 (ru) |
| KR (1) | KR20080111154A (ru) |
| CN (1) | CN101063195A (ru) |
| AU (1) | AU2007242730B2 (ru) |
| BR (1) | BRPI0711411A2 (ru) |
| CA (1) | CA2649986A1 (ru) |
| FR (1) | FR2900226B1 (ru) |
| IL (1) | IL194837A0 (ru) |
| MX (1) | MX2008013643A (ru) |
| RU (1) | RU2421544C2 (ru) |
| TW (1) | TW200746876A (ru) |
| UA (1) | UA94098C2 (ru) |
| WO (1) | WO2007122225A1 (ru) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013055921A1 (en) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | Integrated Photovoltaic, Inc. | Deposition system |
| RU2634826C2 (ru) * | 2012-07-04 | 2017-11-03 | Геракл | Загрузочное устройство и установка для уплотнения пористых штабелируемых преформ, имеющих форму усеченного конуса |
| RU2635051C2 (ru) * | 2012-07-19 | 2017-11-08 | Геракл | Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101178046B1 (ko) * | 2009-03-23 | 2012-08-29 | 한국실리콘주식회사 | 폴리실리콘 제조용 화학기상증착 반응기 |
| CN102374780A (zh) * | 2010-08-12 | 2012-03-14 | 北京大方科技有限责任公司 | 一种平焰炉的结构设计方案 |
| CN102534567B (zh) | 2012-03-21 | 2014-01-15 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 控制化学气相沉积腔室内的基底加热的装置及方法 |
| CN102889791B (zh) * | 2012-09-27 | 2014-11-19 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 炉体排风控制装置 |
| CN105862013B (zh) * | 2016-06-17 | 2018-07-06 | 南京大学 | 一种应用于小型mocvd系统的高温加热装置 |
| CN107151779B (zh) * | 2017-05-27 | 2019-04-16 | 西华大学 | 渗氮可控的零污染离子氮化装置 |
| CN109197927B (zh) * | 2018-08-31 | 2020-12-04 | 东莞市华美食品有限公司 | 一种基于物联网控制的食品智能烘烤系统 |
| CN110242969B (zh) * | 2019-05-23 | 2020-12-01 | 北京科技大学 | 一种焚硫炉 |
| CN115094402B (zh) * | 2022-06-24 | 2023-04-11 | 清华大学 | 一种立式双温区-双通道化学气相沉积设备 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE393967B (sv) * | 1974-11-29 | 1977-05-31 | Sateko Oy | Forfarande och for utforande av stroleggning mellan lagren i ett virkespaket |
| FR2594119B1 (fr) * | 1986-02-10 | 1988-06-03 | Europ Propulsion | Installation pour l'infiltration chimique en phase vapeur d'un materiau refractaire autre que le carbone |
| US5062386A (en) * | 1987-07-27 | 1991-11-05 | Epitaxy Systems, Inc. | Induction heated pancake epitaxial reactor |
| JPH07108836B2 (ja) * | 1991-02-01 | 1995-11-22 | 株式会社日本生産技術研究所 | 減圧ｃｖｄ装置 |
| US5536918A (en) * | 1991-08-16 | 1996-07-16 | Tokyo Electron Sagami Kabushiki Kaisha | Heat treatment apparatus utilizing flat heating elements for treating semiconductor wafers |
| JPH05214540A (ja) * | 1992-02-05 | 1993-08-24 | Hitachi Ltd | Ｃｖｄ反応のモニタ方法 |
| US5447294A (en) * | 1993-01-21 | 1995-09-05 | Tokyo Electron Limited | Vertical type heat treatment system |
| FR2714076B1 (fr) * | 1993-12-16 | 1996-03-15 | Europ Propulsion | Procédé de densification de substrats poreux par infiltration chimique en phase vapeur de carbure de silicium. |
| AU3375000A (en) * | 1999-02-19 | 2000-09-04 | Gt Equipment Technologies Inc. | Method and apparatus for chemical vapor deposition of polysilicon |
| US6228174B1 (en) * | 1999-03-26 | 2001-05-08 | Ichiro Takahashi | Heat treatment system using ring-shaped radiation heater elements |
| EP1257684B1 (en) * | 2000-02-18 | 2007-01-03 | GT Solar Incorporated | Method and apparatus for chemical vapor deposition of polysilicon |
| US7220312B2 (en) * | 2002-03-13 | 2007-05-22 | Micron Technology, Inc. | Methods for treating semiconductor substrates |
| JP4263024B2 (ja) * | 2003-06-05 | 2009-05-13 | 株式会社ヒューモラボラトリー | 炭素薄膜の製造方法および製造装置 |
-
2006
- 2006-04-25 FR FR0651455A patent/FR2900226B1/fr active Active
-
2007
- 2007-04-23 US US11/738,532 patent/US20070256639A1/en not_active Abandoned
- 2007-04-24 JP JP2009507056A patent/JP5567332B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-04-24 WO PCT/EP2007/053973 patent/WO2007122225A1/en active Application Filing
- 2007-04-24 AU AU2007242730A patent/AU2007242730B2/en not_active Ceased
- 2007-04-24 MX MX2008013643A patent/MX2008013643A/es active IP Right Grant
- 2007-04-24 BR BRPI0711411-7A patent/BRPI0711411A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-04-24 CA CA002649986A patent/CA2649986A1/en not_active Abandoned
- 2007-04-24 UA UAA200812518A patent/UA94098C2/ru unknown
- 2007-04-24 KR KR1020087028502A patent/KR20080111154A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-04-24 RU RU2008143663/02A patent/RU2421544C2/ru active
- 2007-04-25 EP EP07106956A patent/EP1849889A1/en not_active Withdrawn
- 2007-04-25 TW TW096114641A patent/TW200746876A/zh unknown
- 2007-04-25 CN CNA2007101047077A patent/CN101063195A/zh active Pending
-
2008
- 2008-10-22 IL IL194837A patent/IL194837A0/en unknown
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013055921A1 (en) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | Integrated Photovoltaic, Inc. | Deposition system |
| RU2634826C2 (ru) * | 2012-07-04 | 2017-11-03 | Геракл | Загрузочное устройство и установка для уплотнения пористых штабелируемых преформ, имеющих форму усеченного конуса |
| RU2635051C2 (ru) * | 2012-07-19 | 2017-11-08 | Геракл | Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BRPI0711411A2 (pt) | 2011-11-01 |
| FR2900226A1 (fr) | 2007-10-26 |
| AU2007242730B2 (en) | 2012-02-23 |
| KR20080111154A (ko) | 2008-12-22 |
| CN101063195A (zh) | 2007-10-31 |
| UA94098C2 (ru) | 2011-04-11 |
| JP5567332B2 (ja) | 2014-08-06 |
| EP1849889A1 (en) | 2007-10-31 |
| FR2900226B1 (fr) | 2017-09-29 |
| JP2009534541A (ja) | 2009-09-24 |
| RU2008143663A (ru) | 2010-05-27 |
| MX2008013643A (es) | 2008-11-10 |
| WO2007122225A1 (en) | 2007-11-01 |
| TW200746876A (en) | 2007-12-16 |
| US20070256639A1 (en) | 2007-11-08 |
| AU2007242730A1 (en) | 2007-11-01 |
| IL194837A0 (en) | 2009-08-03 |
| CA2649986A1 (en) | 2007-11-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2421544C2 (ru) | Технологическая печь или подобное оборудование | |
| US6758909B2 (en) | Gas port sealing for CVD/CVI furnace hearth plates | |
| EP1718783B1 (en) | Pressure gradient cvi/cvd apparatus and method | |
| KR970707316A (ko) | 압력 증감 화학 증기 침투 및 화학 증착 장치, 방법 및 이에 의한 생성물(prssure grandient cvi/cvd apparatus, process and product) | |
| US9845534B2 (en) | CVI densification installation including a high capacity preheating zone | |
| US7476419B2 (en) | Method for measurement of weight during a CVI/CVD process | |
| TWI497023B (zh) | 立式熱處理設備及此設備之冷卻方法 | |
| CA2268729A1 (en) | Densification of substrates arranged in ring-shaped stacks by chemical infiltration in vapour phase with temperature gradient | |
| CN101490491B (zh) | 用以加热半导体处理腔室的设备和方法 | |
| UA78733C2 (en) | Method and device for densifying of porous substrate by gaseous phase infiltration | |
| KR20160048124A (ko) | 냉각된 진공 격납부를 갖는 고온 벽 반응기 | |
| US11766718B2 (en) | Compound furnace | |
| KR19980080809A (ko) | 열처리 장치 | |
| US6744023B2 (en) | Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace | |
| KR101124901B1 (ko) | 시브이아이/시브이디를 위한 오븐 | |
| EP1063319B1 (en) | Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC43 | Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions |
Effective date: 20130610 |
|
| PD4A | Correction of name of patent owner |