RU2356125C2 - Способ изготовления полупроводникового прибора - Google Patents
Способ изготовления полупроводникового прибора Download PDFInfo
- Publication number
- RU2356125C2 RU2356125C2 RU2007126202/28A RU2007126202A RU2356125C2 RU 2356125 C2 RU2356125 C2 RU 2356125C2 RU 2007126202/28 A RU2007126202/28 A RU 2007126202/28A RU 2007126202 A RU2007126202 A RU 2007126202A RU 2356125 C2 RU2356125 C2 RU 2356125C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- temperature
- hydrogen
- semiconductor
- defects
- substrates
- Prior art date
Links
Abstract
Использование: в технологии производства полупроводниковых приборов. Технический результат: снижение плотности дефектов, обеспечивающее технологичность, улучшение параметров, повышение надежности и увеличение процента выхода годных. Сущность изобретения: в процессе производства полупроводниковых приборов подложки отжигают в водороде при температуре 980-1150°С в течение 60 с, затем на изолирующей подложке со скоростью 5,3-6 мкм/мин формируют пленку кремния при температуре 945±15°С пиролитическим разложением моносилана, разбавленного водородом до 4-5%. 1 табл.
Description
Изобретение относится к области технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к технологии изготовления транзисторов со структурой кремний - на - изоляторе, с низкой плотностью дефектов.
Известен способ изготовления полупроводникового прибора с низкой плотностью дефектов [1] путем формирования многослойной структуры, в которой аморфные слои чередуются с полупроводниковыми слоями и каждый из них имеет строго фиксированную толщину, с последующим нанесением эпитаксиального слоя. В полупроводниковых приборах, изготовленных таким способом, образуются переходные слои, которые ухудшают параметры полупроводниковых приборов.
Известен способ изготовления полупроводникового прибора с низкой плотностью дефектов [2] путем обработки ионами бора с энергией 350 кэВ подложки с защитным слоем Si3N4, быстрым отжигом при 900°С в течение 25 с и с последующим нанесением эпитаксиального слоя.
Недостатками этого способа являются:
- низкая технологическая воспроизводимость;
- повышенная плотность дефектов;
- значительные токи утечки.
Задача изобретения - снижение плотности дефектов и повышение подвижности в полупроводниковых приборах, обеспечивающее технологичность, улучшение параметров, повышение надежности и увеличение процента выхода годных.
Задача решается путем формирования на изолирующих подложках тонких пленок кремния при температуре 945±15°С со скоростью 5,3÷6 мкм/мин, пиролитическим разложением моносилана, разбавленного водородом до 4-5%, после отжига сапфировых подложек в водороде при температуре 980÷1150°С в течение 60 с.
Формирование пленок кремния на изолирующих подложках с большой скоростью роста обеспечивает более совершенную структуру за счет снижения продолжительности воздействия газовой среды реактора и, следовательно, не ведет к вытравливанию Al из сапфира и соответственно его встраивания в слой кремния с образованием дефектов.
Технология способа состоит в следующем: в процессе производства полупроводниковых приборов подложки сапфира отжигают в водороде перед наращиванием пленок кремния при температуре 980-1150°С в течение 60 с, затем на сапфировой подложке формируют пленку кремния пиролитическим разложением моносилана, разбавленного водородом до 4-5%, со скоростью 5,3÷6 мкм/мин при температуре 945±15°С. Снижение продолжительности воздействия газовой среды реактора (H2 и SiH4) снижает вытравления Al из сапфира и, следовательно, снижается вероятность попадания Al в слой кремниевой пленки. Затем в пленке кремния создают активные области полупроводникового прибора по стандартной технологии.
По предлагаемому способу были изготовлены и исследованы полупроводниковые приборы. Результаты обработки представлены в таблице.
Параметры приборов, изготовленных по стандартной технологии | Параметры приборов, изготовленных по предлагаемой технологии | ||
плотность дефектов N, см-2, ·103 | подвижность, см2/B·c | плотность дефектов N, см-2, ·101 | подвижность, см2/В·с |
6,8 | 466 | 8,2 | 728 |
3,9 | 539 | 5,5 | 790 |
5,6 | 480 | 7,7 | 742 |
2,2 | 552 | 3,2 | 800 |
4,5 | 500 | 6,5 | 756 |
1,6 | 541 | 4,5 | 791 |
7,9 | 440 | 8,9 | 712 |
2,1 | 563 | 1,5 | 810 |
6,7 | 476 | 7,5 | 739 |
4,4 | 520 | 5,2 | 776 |
3,2 | 548 | 3,6 | 790 |
5,6 | 475 | 6,9 | 725 |
1,1 | 562 | 2,2 | 806 |
Экспериментальные исследования показали, что выход годных полупроводниковых структур на партии пластин, сформированных в оптимальном режиме, увеличился на 16%.
Технический результат:
- снижение плотности дефектов;
- повышение подвижности носителей;
- обеспечение технологичности;
- улучшение параметров, повышение надежности и увеличение процента выхода годных приборов.
Стабильность параметров во всем эксплуатационном интервале температур была нормальной и соответствовала требованиям.
Предложенный способ изготовления полупроводникового прибора путем формирования пленок кремния на изолирующих подложках пиролитическим разложением моносилана, разбавленного водородом до 4-5%, со скоростью 5,3÷6 мкм/мин при температуре 945±15°С в течение 60 с, после отжига подложек в водороде при температуре 980-1150°С позволяет повысить процент выхода годных приборов и улучшить их надежность.
Источники информации
1. Заявка 126819, Япония, МКИ H01L 21/20.
2. Патент №5068695, США, МКИ H01L 29/161.
Claims (1)
- Способ изготовления полупроводникового прибора, включающий наращивание эпитаксиального слоя кремния на подложке и формирование на ней активных областей полупроводникового прибора, отличающийся тем, что наращивание пленок кремния приводят на изолирующей подложке со скоростью 5,3-6 мкм/мин, при температуре 945±15°С пиролитическим разложением моносилана, разбавленного водородом до 4-5%, после отжига подложек в водороде при температуре 980-1150°С в течение 60 с.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2007126202/28A RU2356125C2 (ru) | 2007-07-09 | 2007-07-09 | Способ изготовления полупроводникового прибора |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2007126202/28A RU2356125C2 (ru) | 2007-07-09 | 2007-07-09 | Способ изготовления полупроводникового прибора |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2007126202A RU2007126202A (ru) | 2009-01-20 |
RU2356125C2 true RU2356125C2 (ru) | 2009-05-20 |
Family
ID=40375567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2007126202/28A RU2356125C2 (ru) | 2007-07-09 | 2007-07-09 | Способ изготовления полупроводникового прибора |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2356125C2 (ru) |
-
2007
- 2007-07-09 RU RU2007126202/28A patent/RU2356125C2/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2007126202A (ru) | 2009-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3970011B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2004014856A (ja) | 半導体基板の製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
CN1182570C (zh) | 场效应晶体管的制造方法 | |
JPH03231472A (ja) | 薄膜トランジスタの作製方法 | |
JP2001257351A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
WO2019001115A1 (zh) | 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及显示装置 | |
JP2004103805A (ja) | 半導体基板の製造方法、半導体基板及び半導体装置 | |
RU2688851C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
RU2356125C2 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
RU2522930C2 (ru) | Способ изготовления тонкопленочного транзистора | |
RU2476955C2 (ru) | Способ формирования легированных областей полупроводникового прибора | |
US6884665B2 (en) | Method for manufacturing thin film transistor | |
RU2515334C1 (ru) | Способ изготовления тонкопленочного транзистора | |
RU2819702C1 (ru) | Способ изготовления тонкопленочного транзистора | |
RU2688881C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
RU2388108C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
RU2688864C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
RU2804604C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
RU2726904C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
Aleksandrov et al. | On the generation of charge-carrier recombination centers in the sapphire substrates of silicon-on-sapphire structures | |
RU2330349C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора с низкой плотностью дефектов | |
RU2696356C1 (ru) | Способ изготовления тонкопленочного транзистора | |
RU2796455C1 (ru) | Способ изготовления полупроводниковой структуры | |
RU2755774C1 (ru) | Способ изготовления полупроводникового прибора | |
RU2733924C1 (ru) | Способ изготовления сверхмелких переходов |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20110710 |