RU2323275C2 - Водный электролит блестящего меднения - Google Patents

Водный электролит блестящего меднения Download PDF

Info

Publication number
RU2323275C2
RU2323275C2 RU2003119934/02A RU2003119934A RU2323275C2 RU 2323275 C2 RU2323275 C2 RU 2323275C2 RU 2003119934/02 A RU2003119934/02 A RU 2003119934/02A RU 2003119934 A RU2003119934 A RU 2003119934A RU 2323275 C2 RU2323275 C2 RU 2323275C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
copper
electrolyte
mmol
sulfuric acid
bis
Prior art date
Application number
RU2003119934/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2003119934A (ru
Inventor
Александр Сергеевич Милушкин (RU)
Александр Сергеевич Милушкин
Original Assignee
Калининградский государственный университет
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Калининградский государственный университет filed Critical Калининградский государственный университет
Priority to RU2003119934/02A priority Critical patent/RU2323275C2/ru
Publication of RU2003119934A publication Critical patent/RU2003119934A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2323275C2 publication Critical patent/RU2323275C2/ru

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области гальваностегии и может быть использовано для нанесения медных покрытий без применения промежуточного подслоя в машиностроении и приборостроении. Электролит содержит, г/л: медь сернокислую 200-250; кислоту серную 40-50; 2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино)пропан, ммоль/л 1-3 и сульфосалициловую кислоту, ммоль/л 1-3. Технический результат: получение качественных блестящих покрытий, хорошо сцепленных со стальной основой при минимальном ее наводороживании, а также получение электролита с высокой рассеивающей способностью. 3 табл.

Description

Изобретение относится к области гальваностегии, в частности нанесения блестящих и зеркальных медных покрытий, и может быть использовано в машиностроении и приборостроении с минимальным наводороживанием стальной основы.
Известны элекролиты меднения [1-6], содержащие сернокислую медь, серную кислоту и различные органические добавки.
Однако данные электролиты не обеспечивают получения блестящих и зеркальных медных покрытий без наводороживания стальной основы.
Наиболее близким по техническому решению и составу компонентов является электролит меднения, содержащий в качестве блескообразующей добавки бромистый этилендиизотиуроний [6], из которого получаются блестящие медные осадки в широком интервале плотностей тока. Однако рассеивающая способность данного электролита составляет 23%.
Задачей изобретения является получение блестящих и зеркальных медных покрытий и электролита высокой рассеивающей способности.
Поставленная задача достигается за счет того, что водный электролит блестящего меднения, содержащий медь сернокислую, кислоту серную, ингибитор наводороживания и блескообразователь, в качестве ингибитора наводороживания содержит сульфосалициловую кислоту, а в качестве блескообразователя - 2-n-третбутилокси-1,3-бис (бутиламино) пропан, при следующем соотношении компонентов, г/л:
Медь сернокислая 200-250
Кислота серная 40-50
2-n-третбутилокси-1,3-бис
(бутиламино)пропан, ммоль/л 1-3
сульфосалициловая кислота, ммоль/л 1-3
Вода до 1 л
Для получения водного электролита блестящего меднения готовим три состава компонентов:
Таблица 1
Наименование компонентов Максимум I Минимум II Предпочтительно, III
Медь сернокислая, г 250 200 225
Кислота серная, г 50 40 45
2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино)пропан, ммоль/л 3 1 2
Кислота сульфосалициловая, ммоль/л 3 1 2
Вода, до 1 л 1 1 1
Электролит готовят следующим образом: растворяют в дистиллированной воде при температуре 50-60°С сернокислую медь, охлаждают, смешивают с серной кислотой. Электролит прорабатывают при Дк=1 А/дм2 в течение 4 часов с целью удаления примесей, фильтруют и прибавляют органические добавки. Реактивы берут марки «ч.д.а.».
Методика эксперимента.
Наводороживание стали изучали по изменению пластичности проволочных образцов марки У10А длиной 130 мм, диаметром 1,0 мм на машине К-5. Пластичность (N) стальных образцов рассчитывали по формуле N=(n/n0)·100%, где n и n0 - среднее число оборотов до разрушения образца омедненного и без покрытия. Перед нанесением покрытия образцы зачищают микронной шкуркой и обезжиривают венской известью. Содержание водорода в стальных образцах определяют методом анодного растворения [7].
Физико-механические свойства катодных осадков изучали на стальных пластинах 40×40×2 мм, одну сторону которой изолировали лаком. Потенциал катода измеряют относительно хлорсеребрянного электрода с пересчетом на водородную школу. Блеск медных покрытий определяют на фотоэлектрическом блескомере ФБ-2 в относительных единицах по отношению к увиолевой пластинке, блеск которой составляет 65 отн.ед. Область значений соответствует 10-50 - полублестящей, 50-90 - блестящей, 90-100 - зеркальной поверхности. Выход по току (ВТ) определяют с помощью медного кулонометра, рассеивающую способность электролита - по методу Херинга-Блюма. Пористость осадков меди определяют по ГОСТу 9.302-79. Сцепление медного покрытия со стальной основой изучают методом скручивания на машине К-5 и нанесения взаимно пересекающихся царапин на пластинах. Сцепление считалось удовлетворительным, если наблюдали отслаивание осадка от стальной основы. Внешний вид покрытия определяют с помощью микроскопа. В остальном методика не отличалась от ранее описанной [8].
Результаты экспериментального анализа представлены в таблицах 2, 3.
При электроосаждении меди из сульфатного электролита поверхность медного электрода заряжена положительно:
φCU=-0,06 В; φCU Дк=1 А/дм2=+0,289 В.
g=0
φCU Дк=4 А/дм2=+0,212 В, поэтому наибольшее влияние должны оказывать поверхностно-активные вещества анионного типа, например сульфосалициловая кислота, но в начальный период электролиза поверхность железа имеет отрицательный заряд и эффективно адсорбироваться будут добавки катионного типа - производные бис-(диалкиламино) изопропиловых эфиров.
Сульфосалициловая кислота оказалась эффективным ингибитором наводороживания. Такое действие можно объяснить образованием плотных адсорбионных слоев из молекул этой добавки, которые препятствуют диффузии водорода в стальную основу. Молекула добавки содержит три электронодонорные группы: -ОН, -SO3H, -COOH и ароматическое кольцо, π-электроны которого смещают электронную плотность к адсорбционным центрам. Сульфогруппа существенно увеличивает емкость двойного электрического слоя, что объясняется отталкиванием ее от поверхности меди, что связано с ориентацией диполей дисульфида отрицательным концом перпендикулярно подложке [9].
Лучшим блескообразователем является добавка 2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино)пропан, что связано с ее строением. Она содержит третбутиловый радикал (-С(СН3)3), который повышает электронную плотность на атоме эфирного кислорода, и два атома азота, которые и обуславливают лучшую адсорбционную способность данного соединения при концентрации 1-3 ммоль/л. Блескообразователь получен по известной методике.
Заявляемый способ поясняется следующими примерами:
Пример 1. Электроосаждение меди проводили из состава II табл.1 в присутствии ингибитора наводороживания - сульфосалициловой кислоты (табл.2, №1-3 ммоль/л). Потенциал катода изменяется от 0,154 до 0,201 В. Катодные осадки образуются мелкокристаллические, гладкие, хорошо сцепленные с основой, блестящей и зеркальной поверхностью (блеск составляет 40-100 отн.ед.). Выход по току равен 91-96%. Рассеивающая способность электролита - 20-33%.
Однако эта добавка не проявила себя как ингибитор наводороживания. Осадки получаются достаточно пористыми (число пор 4-29 на 1 см2, табл.3, №1), которые не препятствуют диффузии водорода в стальную основу. Пластичность стальных образцов составляет 75-93%. Количество абсорбированного водорода составляет 20-61 мл/100 Me, табл.3, №1.
Пример 2. Электроосаждение меди проводили из электролита состава 1 табл.1 в присутствии блескообразователя при концентрации 1-3 ммоль/л. (табл.2, №4-6). Потенциал катода изменяется от 0,104 до 0,156 В при Дк=1-4 А/дм2. Катодные осадки получаются крупнокристаллическими, неравномерными, частично отслаивающими от основы, матовой и полублестящей поверхностью, блеск равен 8-19 отн.ед. Выход по току составляет 93-98%. Рассеивающая способность электролита равна 39-45%. Пористость осадков меди изменяется от 1,5 до 25 пор на 1 см2 при толщине покрытия от 1 до 9 мкм. Пластичность стальных катодов составляет 85-98%, а количество водорода изменяется от 14 до 27 мл/100 г Me, табл.3, №2.
Пример 3. Электроосаждение меди проводили из электролита состава III табл.1 при совместном присутствии ингибитора наводороживания и блескообразователя (табл.2 №7, при концентрации 1-2 ммоль/л). Явно наблюдается синергизм действия добавок, когда эффективность ингибирующего и блескообразовывающего действия усиливается. Потенциал катода сильно смещается в область отрицательных значений и составляет 0,071-0,110 В. Катодные осадки качественные с мелкокристаллической структурой, равномерные, хорошо сцепленные с основой, блестящей и зеркальной поверхностью, блеск составляет 87-100 отн.ед. Выход по току равен 95-98%. Рассеивающая способность электролита - 38-46%. Медные покрытия малопористы (число пор изменяется от 1 до 5 на 1 см2 при толщине от 7 до 9 мкм) и препятствуют диффузии водорода в стальную основу. Пластичность стальных образцов максимальна 95-99%, а объем водородосодержания изменяется от 17 до 37 мл/100 г Ме, табл.3 №3.
Таким образом, приведенные примеры подтверждают преимущества заявляемого электролита и позволяют получить качественные гальванические осадки, хорошо сцепленные с основой, блестящей и зеркальной поверхностью, минимальным наводороживанием стальной основы. Электролит обладает высокой рассеивающей способностью, что позволяет получить равномерные покрытия по всей поверхности образца в присутствии ингибитора наводороживания сульфосалициловой кислоты и блескообразователя - 2-третбутилокси-1,3-бис(бутиламина)пропана (табл.2, №7).
Табл.2
Свойства осадков меди, полученных из сульфатного электролита
№№ п/п Состав электролита Дк, А/дм2 Пластичность, % Потенциал катода - Е.В Блеск, отн.ед. Расс. способность, % Выход по току, % Внешний вид покрытия
Время, мин
5,5 11 22
1 2 3 4 5 6 7 8 9
1. Медь сернокислая, г 40 1 90 87 84 0,189 40 31 92 Мелкокристаллический, гладкий, хорошо сцепленный с основой, блестящий и зеркальный
Кислота серная, г 200 2 88 85 82 0,165 65 28 94
2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино) пропан, ммоль/л 1 3 86 82 77 0,160 100 25 96
Вода, до 1 л 4 84 77 75 0,154 100 24 97
2. Медь сернокислая, г 225 1 93 90 86 0,191 100 32 94 Мелкокристаллический, гладкий, равномерный, хорошо сцепленный с основой, зеркальный.
Кислота серная, г 45 2 91 87 85 0,185 100 29 96
2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино) пропан, ммоль/л 2 3 88 85 84 0,171 100 27 95
Вода, до 1 л 4 87 83 81 0,164 100 25 91
3. Медь сернокислая, г 225 1 93 92 87 0,201 75 33 93 Мелкокристаллический, гладкий, хорошо сцепленный с основой, блестящий и зеркальный
Кислота серная, г 45 2 92 87 85 0,189 90 20 95
2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино) пропан, ммоль/л 2 3 90 86 84 0,177 100 27 96
Вода, до 1 л 4 87 85 83 0,169 81 20 93
4. Медь сернокислая, г 200 1 97 95 92 0,135 19 44 93 Крупнокристаллический, неравномерный, частично отслаивающийся от основы, матовый и полублестящий
Кислота серная, г 40 2 95 92 90 0,124 8 43 95
Сульфосалициловая кислота, ммоль/л 1 3 90 89 87 0,115 8 41 96
Вода, до 1 л 4 88 87 85 0,104 8 39 97
5. Медь сернокислая, г 225 1 98 96 94 0,144 8 45 94 Крупнокристаллический, неравномерный, частично отслаивающийся от основы, матовый и полублестящий
Кислота серная, г 45 2 96 92 91 0,132 8 43 96
Сульфосалициловая кислота, ммоль/л 2 3 95 90 98 0,124 14 42 98
Вода, до 1 л 4 94 89 87 0,114 12 40 98
6. Медь сернокислая, г 250 1 97 97 95 0,156 8 45 95 Крупнокристаллический, неравномерный, частично отслаивающийся от основы, матовый
Кислота серная, г 50 2 96 95 94 0,142 6 44 96
Сульфосалициловая кислота, ммоль/л 3 3 96 93 91 0,129 8 42 96
Вода, до 1 л 4 95 91 89 0,118 7 40 97
7. Медь сернокислая, г 225 1 99 97 96 0,110 100 46 95 Мелкокристаллический, равномерный, хорошо сцепленный с основой, блестящей и зеркальной поверхностью
Кислота серная, г 45 2 98 97 96 0,096 100 45 97
2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино) пропан, ммоль/л 2 3 98 96 95 0,084 95 42 98
Сульфосалициловая кислота, ммоль/л 2 4 97 94 95 0,071 87 38 96
Вода, до 1 л
Табл.3
Пористость медных покрытий
№№ п/п Добавка Дк, А/дм2 Концентрация, ммоль/л Число пор на 1 см2, мкм
Толщина покрытия
1 3 5 7 9
1 2 3 4 5
1. Медь сернокислая, г 200 1 1 29 18 12 8 6
Кислота серная, г 40 4 25 15 9 7 5
2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино) 1 27 15 12 8 6
пропан, 4 2 25 13 10 6 4
Вода, до 1 л 1 25 13 10 6 4
4 3 22 11 8 5 4
2. Медь сернокислая, г 1 1 25 19 16 11 5
Кислота серная, г 4 20 14 12 6 4
Кислота сульфосалициловая 1 2 20 17 12 9 5
Вода, до 1 л 4 17 13 9 5 2
1 3 22 15 10 8 4
4 17 10 8 4 1,5
3. Медь сернокислая, г 225 1
Кислота серная, г 45 4 2 17 11 7 5 2
2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино) пропан, 15 9 7 4 1
Кислота сульфосалициловая
Вода, до 1 л
Источники информации
1. А.С. 244057. Электролит меднения. БИ №17, 1969.
2. А.С. 630648. Электролит блестящего меднения. БИ №40, 1978.
3. А.С. 819226. Электролит блестящего меднения. БИ №13, 1981.
4. А.С. 850752, №28. Электролит для осаждения покрытий на основе меди. БИ №28, 1981.
5. А.С. 1085295 А. Электролит блестящего меднения, 1982.
6. А.С. 1010161. Электролит блестящего меднения. БИ №13, 1983.
7. Клячко Ю.А., Афанасьева Т.И., Иванова И.А. Метод определения водорода в тонких пленках металла. // Зав.лаб. - 1970. - т.9. - вып.36. - с.1089-1090.
8. Милушкин А.С, Белоглазов С.М. Ингибиторы наводороживания и электрокристаллизации при меднении и никелировании. - Л.: Изд-во ЛГУ, 1986. - 186 с.
9. Лошкарев Ю.М., Говорова Е.М. Электроосаждение меди в присутствии блескообразующих и выравнивающих добавок. // Защита металлов. - 1998. - т.34. - с.451-468.

Claims (1)

  1. Водный электролит блестящего меднения, содержащий медь сернокислую, кислоту серную, ингибитор наводороживания и блескообразователь, отличающийся тем, что в качестве ингибитора наводороживания он содержит сульфосалициловую кислоту, а в качестве блескообразователя 2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино)пропан при следующем соотношении компонентов, г/л:
    медь сернокислая 200-250 кислота серная 40-50 2-n-третбутилокси-1,3-бис(бутиламино)пропан, ммоль/л 1-3 сульфосалициловая кислота, ммоль/л 1-3 вода до 1 л
RU2003119934/02A 2003-07-01 2003-07-01 Водный электролит блестящего меднения RU2323275C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2003119934/02A RU2323275C2 (ru) 2003-07-01 2003-07-01 Водный электролит блестящего меднения

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2003119934/02A RU2323275C2 (ru) 2003-07-01 2003-07-01 Водный электролит блестящего меднения

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2003119934A RU2003119934A (ru) 2005-02-20
RU2323275C2 true RU2323275C2 (ru) 2008-04-27

Family

ID=35217922

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2003119934/02A RU2323275C2 (ru) 2003-07-01 2003-07-01 Водный электролит блестящего меднения

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2323275C2 (ru)

Also Published As

Publication number Publication date
RU2003119934A (ru) 2005-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101502804B1 (ko) Pd 및 Pd-Ni 전해질 욕조
US11384446B2 (en) Compositions and methods for the electrodeposition of nanotwinned copper
JP2015212417A (ja) 光沢ニッケル層の析出のための電解浴、または光沢ニッケル層の析出のための電解浴中での使用のための混合物、および光沢ニッケル層を有する物品の製造方法
WO2012081274A1 (ja) ニッケルめっき液及びニッケルめっき方法
Bhat et al. Studies on electrodeposited Zn-Fe alloy coating on mild steel and its characterization
ES2390119T3 (es) Procedimiento y composición para electrochapado a alta velocidad con estaño y aleaciones de estaño
RU2323275C2 (ru) Водный электролит блестящего меднения
CN111020666A (zh) 一种铝合金环保型宽温阳极氧化工艺
EP0892087A2 (en) Electroplating of low-stress nickel
JP2009149978A (ja) 銅−亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法
RU2194097C1 (ru) Электролит блестящего меднения
RU2237755C2 (ru) Электролит меднения стальных деталей
RU2278908C1 (ru) Электролит блестящего меднения
RU2385366C1 (ru) Электролит меднения стальных подложек
CN109989080A (zh) 一种多羟基离子液体电沉积制备钢铁表面高锡青铜耐蚀膜的方法
RU2215829C1 (ru) Электролит блестящего меднения
KR20200092882A (ko) 인듐 전기도금 조성물 및 니켈에 인듐을 전기도금하는 방법
RU2363774C1 (ru) Электролит блестящего никелирования
RU2210638C2 (ru) Электролит блестящего никелирования
WO2010101212A1 (ja) 銅-亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法
SU1055781A1 (ru) Водный электролит блест щего меднени
RU2103420C1 (ru) Электролит блестящего меднения
RU2175999C2 (ru) Водный электролит блестящего меднения
RU2291230C1 (ru) Электролит свинцевания
RU2179203C2 (ru) Электролит блестящего меднения

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20090702