RU2316612C1 - Способ получения пленочных покрытий посредством лазерной абляции - Google Patents

Способ получения пленочных покрытий посредством лазерной абляции Download PDF

Info

Publication number
RU2316612C1
RU2316612C1 RU2006120857/02A RU2006120857A RU2316612C1 RU 2316612 C1 RU2316612 C1 RU 2316612C1 RU 2006120857/02 A RU2006120857/02 A RU 2006120857/02A RU 2006120857 A RU2006120857 A RU 2006120857A RU 2316612 C1 RU2316612 C1 RU 2316612C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
target
laser
focus
substrate
radiation
Prior art date
Application number
RU2006120857/02A
Other languages
English (en)
Inventor
Антон Александрович Каменев (RU)
Антон Александрович Каменев
Игорь Александрович Маслов (RU)
Игорь Александрович Маслов
Владимир Зальманович Мордкович (RU)
Владимир Зальманович Мордкович
Original Assignee
ООО "Объединенный центр исследований и разработок"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ООО "Объединенный центр исследований и разработок" filed Critical ООО "Объединенный центр исследований и разработок"
Priority to RU2006120857/02A priority Critical patent/RU2316612C1/ru
Priority to PCT/RU2007/000308 priority patent/WO2007149011A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2316612C1 publication Critical patent/RU2316612C1/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу получения пленочных покрытий и может найти применение при изготовлении мелкозернистых порошков и других изделий с покрытиями. Покрытия получают лазерной абляцией поверхности мишени с образованием струи частиц, направленной на подложку. Мишень располагают со смещением от фокуса лазерного излучения не менее чем по двум осям координат, одна из которых совпадает с направлением излучения. Смещение мишени от фокуса по оси, совпадающей с направлением излучения, составляет от 1 до 5 мм, а по оси, перпендикулярной первой оси, составляет не более 1 мм. В результате повышается скорость осаждения материала, обеспечивается возможность нанесения пленок на поверхности большой площади. 8 з.п. ф-лы, 4 ил., 2 табл.

Description

Область техники
Изобретение относится к области получения пленок, покрытий, нанесения катализаторов, а также получения мелкодисперсных порошков, касается нового высокоэффективного способа получения материалов с использованием лазерного излучения высокой мощности.
Уровень техники
В настоящее время существует большое количество методов осаждения пленок и покрытий, однако очень ограниченное их число подходит для нанесения покрытий на большие поверхности. Это связано с тем, что нанесение покрытий в вакуумных камерах (химическое осаждение из паровой фазы, импульсное лазерное осаждение и др.) ограничивает размер подложки. Физические методы, такие как трафаретная печать или покрытие с помощью центрифугирования, не обеспечивают высокого качества получаемых покрытий.
Известен способ получения пленочных покрытий на больших поверхностях (патент США №6225007 от 01.05.2001), заключающийся в том, что в фокус лазера распыляется аэрозоль, содержащий прекурсоры (например, растворимые соли) будущей пленки. В фокусе происходит разложение аэрозоля, поджиг плазмы и осаждение пленки на подложку, расположенную вблизи фокуса. Главными недостатками этого метода являются малая эффективность осаждения (большие потери аэрозоля), ограниченность применения, поскольку не всегда можно подобрать растворитель, позволяющий получать растворы прекурсоров с достаточно высокой концентрацией, а также ограничения скорости осаждения, также связанные с ограниченной растворимостью прекурсоров.
Известен способ осаждения тонких пленок посредством лазерной абляции (WO 2002/024972 от 28.03.2002), выбранный в качестве прототипа. Способ содержит следующие этапы: проведение лазерной абляции поверхности мишени для создания струи частиц испаряемого вещества, проходящей в направлении распространения от поверхности мишени, размещение подложки в направлении распространения струи так, чтобы частицы испаряемого вещества, содержащиеся в струе, осаждались на подложку, фокусировка лазерного пучка перед поверхностью мишени. Фокусировку лазерного пучка осуществляют так, чтобы минимальное поперечное сечение сфокусированного пучка размещалось в области критической концентрации. При этом частицам испаряемого вещества сообщают дополнительную кинетическую энергию или скорость, благодаря наличию которой более медленно движущиеся частицы испаряемого вещества в струе отклоняются от направления распространения, что препятствует их осаждению на подложке. Способ осуществляют, преимущественно, в вакуумных камерах.
Недостатками такого способа являются малая скорость осаждения, а также то, что для целого ряда материалов необходимо использовать вакуумные камеры для создания пониженного давления, при которых невозможно нанесение материала на поверхности с большой площадью. Кроме того, из-за отклонения медленно движущихся в струе частиц происходит неполное использование испаряемого материала, что влечет высокие потери.
Раскрытие изобретения
Задача, решаемая заявленным изобретением, заключается в создании высокоэффективного способа получения пленочных покрытий (сплошных или различной конфигурации: островковых, сетчатых, точечных, линейных или их сочетаний) посредством лазерной абляции на любые поверхности.
Технический результат состоит в повышении скорости осаждения материала в процессе лазерной абляции за счет образования узконаправленной, высокоэффективной струи, содержащей основную часть (более 95%) материала мишени, при этом обеспечивается возможность нанесения пленок или покрытий на поверхности с большой площадью или возможность получения мелкодисперсных порошков, а также исключается необходимость использования вакуумных камер в процессе осаждения.
Технический результат достигается тем, что осуществляют лазерную абляцию поверхности мишени с образованием струи частиц, направленной на подложку, при этом мишень располагают со смещением от фокуса лазерного излучения не менее чем по двум осям координат, одна из которых совпадает с направлением излучения.
Для получения устойчивой узконаправленной, высокоэффективной струи испаряемого материала необходимо располагать мишень вне фокуса лазерного излучения, смещая по оси, совпадающей с направлением излучения, и по оси, перпендикулярной первой оси. Смещение лишь по одной оси, совпадающей с направлением излучения, приводит к тому, что струя распространяется в сторону излучателя, что не дает возможности производить осаждение.
Смещение мишени от фокуса по оси, совпадающей с направлением излучения, составляет от 1 до 5 мм, а по оси, перпендикулярной первой оси, - не более 1 мм. Отклонение мишени от фокуса лазерного излучения на большие, чем указанные расстояния приводит к исчезновению струи частиц испаряемого материала. При использовании смещения мишени от фокуса излучения происходит создание струи выбиваемых с поверхности мишени частиц с высокой энергией, которая позволяет осуществлять нанесение пленочных покрытий на большие поверхности как путем перемещения подложки, так и перемещением фокусирующего устройства лазера с мишенью. Это позволяет получать пленочные покрытия не только с высокой скоростью, но и значительно снизить потери материала мишени, так как образующаяся при абляции узконаправленная струя выбитых из мишени частиц практически полностью переходит в осаждаемый материал. Таким образом, при осуществлении изобретения достигается дополнительный технический результат - уменьшение потерь материала мишени.
С помощью предложенного метода возможно нанесение сплошных, островковых, точечных, сетчатых, линейных и иных пленочных покрытий. Для этого возможно кратковременное помещение мишени в указанную точку вблизи фокуса излучения. Кроме того, геометрия покрытия может задаваться движением подложки.
В качестве подложек возможно использование объектов различной геометрии и пространственных форм (линейные, плоские, объемные формы, и их различные комбинации, в т.ч. трехмерные).
Для создания струи испаряемого вещества необходимо с помощью лазера сообщать энергию от 25 кВт/см2 до 200 кВт/см2. Использование меньшей мощности не приводит к образованию струи распыляемого вещества, а большая мощность приводит к быстрому плавлению материала мишени.
Изменение мощности лазерного излучения в интервале от 25 кВт/см2 до 200 кВт/см2 позволяет регулировать интенсивность струи и тем самым контролировать скорость осаждения и толщину осаждаемого материала.
Для получения оксидных покрытий необходимо в качестве мишени использовать оксиды металлов или их смеси.
Для получения металлических покрытий в качестве материала мишени предпочтительно использовать металлы или сплавы. При этом для предотвращения окисления покрытия получение пленочных покрытий необходимо производить в инертной атмосфере. В качестве инертной атмосферы возможно использование атмосферы азота.
Для повышения адгезии материала к поверхности подложки может осуществляться дополнительный подогрев подложки. Типичные температуры нагрева находятся в интервале 200°С-1200°С. Меньшая, чем 200°С температура нагрева подложки не приводит к улучшению адгезии. Большая, чем 1200°С температура нагрева может привести к плавлению подложки. При этом дополнительный подогрев подложки может быть осуществлен при помощи дополнительного лазера.
В ряде случаев для снятия напряжений в осаждаемом материале и улучшению адгезии возможно применение дополнительного отжига пленки после нанесения, что также может осуществляться с помощью лазера.
Краткое описание чертежей
На фиг.1 изображена схема расположения твердой мишени для образования струи испаряемого материала и мишени.
На фиг.2 изображена схема движения струи испаряемого материала.
На фиг.3 изображена схема процесса нанесения на плоские подложки.
На фиг.4 изображена схема процесса нанесения на цилиндрическую подложку.
Осуществление изобретения
Для осуществления изобретения излучение 1 лазера фокусируется в фокусе 2 вблизи поверхности мишени 3, то есть мишень 3 устанавливают со смещение по оси, совпадающей с направлением излучения, и по оси, перпендикулярной первой оси, и выполняют лазерную абляцию поверхности мишени 3 для создания струи 4 частиц испаряемого материала.
Для получения узконаправленной устойчивой струи испаряемого материала необходимое смещение мишени от фокуса по оси (X), совпадающей с направлением излучения, составляет от 1 до 5 мм, а по оси (Y), перпендикулярной первой оси, не более 1 мм. При этом возможно изменение направления распространения струи за счет изменения положения фокуса 2 лазерного излучения относительно твердой мишени 3, как показано на фиг.2. Схема движения струи зависит от положения твердой мишени 4. Отклонение мишени от фокуса лазерного излучения на большие, чем указанные расстояния приводит к исчезновению струи частиц испаряемого материала. При использовании смещения мишени от фокуса излучения происходит создание струи выбиваемых с поверхности мишени частиц с высокой энергией, которая позволяет осуществлять нанесение на большие поверхности путем перемещения как подложки, так и фокусирующего устройства лазера с мишенью.
Для нанесения материала на плоскую подложку с помощью фокусирующего устройства 5 излучение 1 лазера фокусируется в фокусе 2 вблизи твердой мишени 3. При этом образуется струя частиц 4, направленная в сторону вращающейся подложки 6. Постепенно мишень 3 подается в зону осаждения (по мере расходования материала мишени).
Для нанесения материала на подложку цилиндрическую подложку с помощью фокусирующего устройства 5 излучение 1 лазера фокусируется в фокусе 2 вблизи твердой мишени 3. При этом образуется струя частиц 4, направленная в сторону вращающейся подложки 6. Постепенно мишень 3 подается в зону осаждения (по мере расходования материала мишени). При этом подложка 6 движется также и по оси перпендикулярной излучению лазера, для того чтобы покрытие осаждалось на всю поверхность подложки.
Изобретение иллюстрируется следующими примерами:
Пример 1
Пленка La0.6Са0.4MnO3 толщиной 150 мкм была получена на плоской подложке из CaTiO3 диаметром 18 мм при использовании указанного режима осаждения. Для осаждения был использован лазер постоянного излучения на основе граната Y3Al5О12, легированного Nd2O3, с длиной волны излучения 1,064 мкм. Мощность лазера при нанесении составляла 200 Вт. Время нанесения 1,5 минуты. Скорость вращения подложки 60 об/мин. Расстояние от фокуса излучения до подложки составляло 3 мм. В качестве твердой мишени использовалась смесь оксидов лантана и марганца, а также карбоната кальция, отожженных при температуре 1100°С в течении 6 часов. Мишень толщиной 2 мм помещали в непосредственной близости от фокуса лазера с отклонениями по оси Х - 3 мм Y - 0,7 мм. Скорость подачи твердой мишени составляла 1 см/мин. Полученные пленки отжигались в излучении лазера при температуре 1100°С.
Пример 2
Пленка La0.6Са0.4MnO3 толщиной 130 мкм была получена на трубчатой подложке Al2О3 диаметром 10 мм, длиной 10 см при использовании указанного режима осаждения. Для осаждения был использован лазер постоянного на основе граната Y3Al5О12, легированного Nd2O3, с длиной волны излучения 1,064 мкм. Мощность лазера при нанесении составляла 210 Вт. Время нанесения 5 минут. Скорость вращения подложки 300 об/мин, линейная скорость перемещения 2 см/мин. Расстояние от фокуса излучения до подложки составляло 2,5 мм. В качестве твердой мишени использовалась смесь оксидов лантана и марганца, а также карбоната кальция, отожженных при температуре 1100°С в течении 6 часов. Мишень толщиной 2 мм помещали в непосредственной близости от фокуса лазера с отклонениями с отклонениями по оси Х - 3 мм Y - 0,7 мм. Скорость подачи твердой мишени составляла 0,7 см/мин. Полученные пленки отжигались в муфельной печи при температуре 1100°С.
Пример 3
Аналогичен примеру 1 и отличается величиной смещения мишени от фокуса, типом отжига, мощностью излучения и подробно описан в таблице 1, 2.
Пример 4
Аналогичен примеру 2 и отличается величиной смещения мишени от фокуса, типом отжига и мощностью излучения и подробно описан в таблице 1, 2.
Пример 5
Аналогичен примеру 1 и отличается величиной смещения мишени от фокуса и мощностью излучения и подробно описан в таблицах 1 и 2.
Пример 6
Аналогичен примеру 2 и отличается величиной смещения мишени от фокуса и мощностью излучения и подробно описан в таблицах 1 и 2.
Пример 7
Аналогичен примеру 1 и отличается величиной смещения мишени от фокуса, типом отжига, мощностью излучения и подробно описан в таблицах 1 и 2.
Пример 8
Аналогичен примеру 2 и отличается величиной смещения мишени от фокуса, типом отжига, мощностью излучения и подробно описан в таблицах 1 и 2.
Пример 9
Аналогичен примеру 1 и отличается величиной смещения мишени от фокуса и мощностью излучения и подробно описан в таблицах 1 и 2.
Пример 10
Аналогичен примеру 2 и отличается величиной смещения мишени от фокуса и мощностью излучения и подробно описан в таблицах 1 и 2.
Пример 11
Аналогичен примеру 1 и отличается величиной смещения мишени от фокуса и мощностью излучения и подробно описан в таблицах 1 и 2.
Figure 00000002
Figure 00000003

Claims (9)

1. Способ получения пленочных покрытий, заключающийся в лазерной абляции поверхности мишени с образованием струи частиц, направленной на подложку, отличающийся тем, что мишень располагают со смещением от фокуса лазерного излучения не менее чем по двум осям координат, одна из которых совпадает с направлением излучения, при этом смещение мишени от фокуса по оси, совпадающей с направлением излучения, составляет от 1 до 5 мм, а по оси, перпендикулярной первой оси, составляет не более 1 мм.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что абляцию осуществляют при мощности лазерного излучения от 25 до 200 кВт/см2.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве материала мишени используют оксиды металлов или смеси оксидов металлов.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве материала мишени используют металлы или их сплавы, при этом покрытие получают в атмосфере инертного газа.
5. Способ по п.4, отличающийся тем, что в качестве инертного газа используют азот.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что производят подогрев подложки до температуры от 200 до 1200°С.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что подогрев подложки выполняют лазерным излучением дополнительного лазера.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что после формирования пленочного покрытия его подвергают отжигу.
9. Способ по п.8, отличающийся тем, что отжиг осуществляют лазерным излучением того же или дополнительного лазера.
RU2006120857/02A 2006-06-15 2006-06-15 Способ получения пленочных покрытий посредством лазерной абляции RU2316612C1 (ru)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006120857/02A RU2316612C1 (ru) 2006-06-15 2006-06-15 Способ получения пленочных покрытий посредством лазерной абляции
PCT/RU2007/000308 WO2007149011A1 (en) 2006-06-15 2007-06-07 Method for producing film coatings by means of laser ablation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2006120857/02A RU2316612C1 (ru) 2006-06-15 2006-06-15 Способ получения пленочных покрытий посредством лазерной абляции

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2316612C1 true RU2316612C1 (ru) 2008-02-10

Family

ID=38833658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2006120857/02A RU2316612C1 (ru) 2006-06-15 2006-06-15 Способ получения пленочных покрытий посредством лазерной абляции

Country Status (2)

Country Link
RU (1) RU2316612C1 (ru)
WO (1) WO2007149011A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2756111C1 (ru) * 2020-07-06 2021-09-29 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования. "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ) Способ получения стабилизированных нанодисперсных частиц диоксида церия

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115537737B (zh) * 2022-10-13 2023-11-17 西南交通大学 一种薄涂层的制备方法及系统

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06172978A (ja) * 1992-12-08 1994-06-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザーアブレーション装置
RU2087254C1 (ru) * 1995-11-08 1997-08-20 Республиканский инженерно-технический центр порошковой металлургии с НИИ проблем порошковой технологии и покрытий и опытным производством Способ получения ультрадисперсного порошка диоксида циркония с покрытием
US5747120A (en) * 1996-03-29 1998-05-05 Regents Of The University Of California Laser ablated hard coating for microtools
AUPR026100A0 (en) * 2000-09-20 2000-10-12 Tamanyan, Astghik Deposition of thin films by laser ablation

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2756111C1 (ru) * 2020-07-06 2021-09-29 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования. "Юго-Западный государственный университет" (ЮЗГУ) Способ получения стабилизированных нанодисперсных частиц диоксида церия

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007149011A1 (en) 2007-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080085368A1 (en) Method and Apparatus for Coating a Substrate
US20140017416A1 (en) P-type semiconductor zinc oxide films process for preparation thereof, and pulsed laser deposition method using transparent substrates
RU2447012C1 (ru) Способ получения наноструктурированной поверхности сталей методом лазерно-плазменной обработки
US7964247B2 (en) Process and apparatus for the manufacture of a sputtering target
WO2013065339A1 (ja) 溶射皮膜における緻密化層の形成方法、及び溶射皮膜被覆部材
EP1856302A1 (en) Pulsed laser deposition method
KR20180111860A (ko) 세라믹스 소결체의 제조 방법, 그리고 세라믹스 성형체의 제조 방법 및 제조 장치
RU2316612C1 (ru) Способ получения пленочных покрытий посредством лазерной абляции
JP2013506757A (ja) 結晶構造を作るための方法および構成
JP6605868B2 (ja) コールドスプレー装置およびこれを用いた被膜形成方法
JPS63227766A (ja) 超微粒子膜の形成方法
JP6614651B2 (ja) シリコンナノ粒子の製造方法及び装置
KR20180101670A (ko) 에어로졸 증착 장치 및 에어로졸 증착 방법
RU2597447C2 (ru) Лазерный способ получения функциональных покрытий
JP2006297270A (ja) 構造物の製造方法及び製造装置、構造物
JPH03122283A (ja) 基板表面の被覆装置
JP2005256017A (ja) 粒子配置装置及び粒子の配置方法
JP2505375B2 (ja) 化合物膜の成膜方法及び成膜装置
EP3023513B1 (en) Method to produce nanoporous coatings in open air conditions
RU2640114C2 (ru) Лазерный плазмотрон для осаждения композитных алмазных покрытий
CN114231884B (zh) 一种激光蒸发后进行等离子沉积的镀膜方法
Gaković et al. Modification of multilayered TiAlN/TiN coating by nanosecond and picosecond laser pulses
JP2000297361A (ja) 超微粒子膜形成方法及び超微粒子膜形成装置
JP4627693B2 (ja) 薄膜形成装置
JP2505376B2 (ja) 成膜方法及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
PC4A Invention patent assignment

Effective date: 20080626

PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20150313