RU2282222C2 - Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения - Google Patents

Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения Download PDF

Info

Publication number
RU2282222C2
RU2282222C2 RU2004120551/28A RU2004120551A RU2282222C2 RU 2282222 C2 RU2282222 C2 RU 2282222C2 RU 2004120551/28 A RU2004120551/28 A RU 2004120551/28A RU 2004120551 A RU2004120551 A RU 2004120551A RU 2282222 C2 RU2282222 C2 RU 2282222C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
mirror
monochromator
reflection
layer
thickness
Prior art date
Application number
RU2004120551/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2004120551A (ru
Inventor
Торстен ФАЙГЛ (DE)
Торстен ФАЙГЛ
Норберт КАЙЗЕР (DE)
Норберт КАЙЗЕР
Томас КУЛЬМАНН (DE)
Томас КУЛЬМАНН
Сергей ЮЛИН (DE)
Сергей ЮЛИН
Original Assignee
ФРАУНХОФЕР-ГЕЗЕЛЛЬШАФТ ЦУР ФЕРДЕРУНГ ДЕР АНГЕВАНДТЕН ФОРШУНГ э.ф.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ФРАУНХОФЕР-ГЕЗЕЛЛЬШАФТ ЦУР ФЕРДЕРУНГ ДЕР АНГЕВАНДТЕН ФОРШУНГ э.ф. filed Critical ФРАУНХОФЕР-ГЕЗЕЛЛЬШАФТ ЦУР ФЕРДЕРУНГ ДЕР АНГЕВАНДТЕН ФОРШУНГ э.ф.
Publication of RU2004120551A publication Critical patent/RU2004120551A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2282222C2 publication Critical patent/RU2282222C2/ru

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/062Devices having a multilayer structure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/0891Ultraviolet [UV] mirrors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения содержит многослойную структуру, расположенную на подложке и включающую периодическую последовательность двух отдельных слоев (А, В) из различных материалов, образующих слой-разделитель и слой-поглотитель, с периодом, имеющим толщину d, причем используется брэгговское отражение второго или более высокого порядка. Указанная толщина d имеет отклонение от номинального значения не более 3%. При этом выполняется соотношение: (nAdA+nBdB)cos(θ)=mλ/2, где dA и dB - толщины соответствующих слоев; пA и пB - действительные части комплексных показателей преломления материалов слоев А и В; m - целое число, равное порядку брэгговского отражения, который больше или равен 2, λ - длина волны падающего излучения и θ - угол падения падающего излучения. Для относительной толщины слоя Г=dA/d выполняется соотношение Г<0,8/m. Обеспечивается создание многослойного зеркала, которое в диапазоне жесткого ультрафиолетового излучения имеет малую ширину кривой отражения по уровню половины максимума при высоком коэффициенте отражения в широком диапазоне углов падения. 5 з.п. ф-лы, 2 ил., 1 табл.

Description

Изобретение касается зеркала для жесткого ультрафиолетового излучения, которое обеспечивает монохроматизацию такого излучения.
Оптические системы для спектрального диапазона жесткого ультрафиолетового излучения (верхнего края спектра ультрафиолетового излучения), который охватывает длины волн приблизительно от 5 до 40 нм, формируются на основе многослойных зеркал. Многослойные зеркала состоят из чередующихся слоев двух материалов, оптические константы которых отличаются в максимально возможной степени. Для некоторых применений жесткого ультрафиолетового излучения, например в области материаловедения, рентгеновской астрономии или рентгеновской микроскопии, необходима монохроматизация этого излучения. Для этого необходимо уменьшать ширину спектральной кривой отражения многослойных зеркал, измеряемую по уровню половины максимума пика коэффициента отражения.
В литературе известны два подхода к уменьшению этой ширины.
Известно использование поперечного структурирования путем реактивного ионного травления для создания многослойного зеркала из комбинации материалов молибден/кремний, как описано в работе R.Benbalagh, J.M. Andre, R.Barchewitz, M.F.Ravet, A.Raynal, F.Delmotte, F.Nridou, Г.Джали, A.Bosseboeuf, R.Лаваль, Р.Troussel, Nucl. Inst. Meth. Phy. Res. A 458 (3) (2001), 650-655, что позволяет уменьшить ширину кривой коэффициента отражения многослойного зеркала в 3 раза по сравнению с шириной кривой коэффициента отражения многослойного зеркала со структурой молибден/кремний, оптимизированного для достижения максимального коэффициента отражения.
Однако недостаток такой обработки состоит в том, что литографическое структурирование многослойных структур является очень дорогостоящим и, кроме того, у такого многослойного зеркала при угле падения около 45° наблюдается значительное уменьшение коэффициента отражения, до R=2%, no сравнению с коэффициентом отражения R=40%, который имеет при том же угле падения соответствующее многослойное зеркало, не подвергнутое литографическому структурированию.
Известно, что ширина кривой отражения многослойных зеркал из молибдена/кремния может быть уменьшена путем уменьшения толщины слоев молибдена, как изложено в работе Y.C. Lim, Т. Westerwalbesloh, A.Aschentrup, О. Wehmeyer, Г. Haindl, U. Kleineberg, U. Heinzmann, Appl. Phys. A72 (2001), 121-124. Однако практика показывает, что уменьшение толщины слоя молибдена возможно только в ограниченной степени, поскольку эта толщина составляет всего около 3 нм даже в стандартном многослойном зеркале.
Целью настоящего изобретения является создание многослойного зеркала, которое в диапазоне жесткого ультрафиолетового излучения имеет малую ширину кривой отражения по уровню половины максимума при высоком коэффициенте отражения в широком диапазоне углов падения. Также желательно устранить ограничения и недостатки, присущие известному уровню техники.
Эта цель в соответствии с настоящим изобретением достигается с помощью признаков, изложенных в независимом пункте формулы изобретения.
Вследствие того, что многослойная структура зеркала образована периодическим повторением двух отдельных слоев А и В из различных материалов, образующих один период с толщиной d и имеющих соответствующие толщины (dA и dв), причем
0,97 (dA+dB)≤d≤(dA+dB) 1,03 и
(nAdA+nBdB)·cos(θ)=m·λ/2,
где nА и nB - действительные части комплексных показателей преломления материалов отдельных слоев А и В; m - целое число, представляющее порядок брэгговского отражения, больший или равный 2, λ - длина волны падающего излучения, а θ - угол падения падающего излучения, в многослойном зеркале, выполненном согласно настоящему изобретению, может быть достигнуто существенное уменьшение ширины кривой отражения по уровню половины максимума при использовании брэгговского отражения второго или более высокого порядка. Благодаря уменьшению ширины кривой отражения по уровню половины максимума путем использования брэгговского отражения более высокого порядка, многослойное зеркало действует как монохроматор, в результате чего значительно упрощается структура оптических систем для жесткого ультрафиолетового излучения, например в синхротронных источниках излучения и спектрометрах ультрафиолетового диапазона для плазменных источников, где для монохроматизации жесткого ультрафиолетового излучения традиционно используются различные типы решеток, поскольку многослойное зеркало может одновременно использоваться и как монохроматор, и как элемент направления луча. Более нет необходимости снабжать оптический тракт дополнительной дифракционной решеткой.
Требуемый эффект также достигается для произвольного случая наклонного падения волны путем учета угла θ падения.
Как видно из признаков независимого пункта формулы изобретения, увеличение толщины периода структуры в целое число раз необходимо для достижения отражения более высокого брэгговского порядка, использование которого обычно ведет к уменьшению коэффициента отражения многослойного зеркала.
Согласно настоящему изобретению, это уменьшение коэффициента отражения, возникающее при увеличении толщины периода, ограничивается тем, что при вышеупомянутом увеличении толщины периода увеличивается только толщина слоя В (слоя разделителя), тогда как толщина слоя А (слоя поглотителя) остается неизменной по сравнению с соответствующим многослойным зеркалом, в котором используется брэгговское отражение первого порядка; то есть относительная толщина слоя A Г=dA/d слоя всегда меньше, чем 0,8/m, где m - целое число, соответствующее порядку брэгговского отражения, который равен или превышает 2.
В предпочтительном варианте выполнения настоящего изобретения, согласно п.2 формулы изобретения, можно достигнуть даже лучших результатов, если обеспечить, чтобы относительная толщина Г слоя А всегда была меньше, чем 0,5/m.
Один из примеров выполнения настоящего изобретения показан на фиг.1, и изобретение подробно описано со ссылкой на этот чертеж.
На фиг.1 схематично показано поперечное сечение многослойного зеркала-монохроматора;
на сриг.2 показан график экспериментально измеренных значений коэффициента отражения.
На фиг.1 в качестве примера схематично показана многослойная структура зеркала-монохроматора для жесткого ультрафиолетового излучения. Отдельные слои А и В, которые в каждом случае вместе образуют один период, расположены с периодической последовательностью под слоем D покрытия, который выполнен, например, из кремния, при этом показанный темным слой А является слоем поглотителя и имеет толщину dA, а показанный светлым слой В является слоем разделителя и имеет толщину dB. Толщина d периода складывается из толщин dA и dB слоев А и В.
На чертеже схематично показаны четыре таких периода, образованных слоями А и В, при этом самый нижний слой граничит с подложкой S. Толщины dA и dB слоев в каждом случае неизменны во всех периодах, так что толщина d конкретного периода везде имеет отклонение не более ±1%; такое возможное при промышленном изготовлении отклонение гарантирует, тем не менее, способность настоящего изобретения функционировать.
На практике слой А поглотителя может быть выполнен, например, из молибдена, а слой В разделителя - например, из кремния. В данной структуре подложка S представляет собой кремниевую пластину. Количество периодов, состоящих из слоев А и В, составляет, например, 40, так что глубина проникновения излучения используется в максимальной степени.
В многослойном зеркале-монохроматоре, схематично показанном на фиг.1, используется второй или более высокий порядок брэгговского отражения. Здесь толщина d любого из периодов в идеальном случае равна d=dA+dB, при этом nAdA+nBdB=m·λ/2, где комплексные показатели преломления материалов отдельных слоев А и В определяются выражениями
Figure 00000002
и
Figure 00000003
так что оптические константы nА и nВ получаются непосредственно из действительных частей комплексных показателей преломления; m - целое число, равное порядку брэгговского отражения, который больше или равен 2; и λ - длина волны падающего излучения, которое должно быть отражено зеркалом-монохроматором с минимально возможным ослаблением.
Чтобы в соответствии с вышеприведенным выражением для достижения брэгговского отражения второго или более высокого порядка увеличить толщину периода в целое число раз по сравнению с обычным многослойным зеркалом, работающим на первом порядке брэгговского отражения, и чтобы соответственно уменьшить ширину кривой коэффициента отражения по уровню половины максимума, но при этом по возможности сохранить значение коэффициента отражения зеркала в точке максимума, увеличивается только толщина слоя В разделителя, в то время как толщина слоя А поглотителя не изменяется по сравнению с вышеупомянутым многослойным зеркалом, работающим на первом порядке брэгговского отражения. Таким образом, относительная толщина Г=dA/d слоя А в каждом периоде выбрана так, чтобы выполнялось условие Г<0,8/m. Еще лучшего результата можно достичь выбором Г<0,5/m.
Поскольку материал разделителя для многослойного зеркала выбирают так, чтобы он вносил лишь очень малое поглощение, коэффициент отражения уменьшается в этом случае далеко не столь значительно, как в том случае, когда толщины обоих слоев увеличивают пропорционально для достижения отражения более высокого порядка отражения по сравнению с многослойным зеркалом первого порядка.
При моделировании, которое проводилось для такого многослойного зеркала-монохроматора со слоями поглотителя из молибдена и разделителя из кремния, образующими 50 периодов, для выбранной длины волны 13,5 нм, причем шероховатость и наличие слоев взаимной диффузии на границах молибден/кремний не учитывались, были рассчитаны максимальный коэффициент отражения, теоретически достижимый с использованием вышеописанной структуры, и полная ширина пика коэффициента отражения по уровню половины его максимума (FWHM) для различных порядков m брэгговского отражения и различных толщин слоев В разделителя; эти результаты сведены в таблицу. Например, даже для второго брэгговского порядка можно достичь уменьшения ширины пика коэффициента отражения в 2 раза. Даже для десятого брэгговского порядка все еще можно достичь коэффициента отражения более 25%.
Таблица 1
m dsi (нм) dMo (нм) d (нм) Г Rmax (% при 13,5 нм) FWHM (нм)
1 3,92 3,00 6,92 0,43 75,6 0,631
2 10,7 3,00 13,7 0,22 65,7 0,327
3 17,5 3,00 20,5 0,17 57,4 0,220
5 31,0 3,00 34,0 0,096 44,4 0,137
10 64,8 3,00 67,8 0,046 25,2 0,080
При практической реализации такого многослойного зеркала-монохроматора с отражением второго или третьего брэгговского порядка и структурой, соответствующей значениям, приведенным в таблице для m=2 и m=3, были измерены показанные на фиг.2 значения коэффициента отражения в зависимости от длины волны жесткого ультрафиолетового излучения. Ясно видно, что имеется узкий пик коэффициента отражения около выбранной длины волны λ, равной 13,5 нм, и, следовательно, достигается требуемая монохроматизация около требуемой длины волны λ.
Здесь полная ширина пика коэффициента отражения по уровню половины максимума составляет 0,277 нм для брэгговского порядка m=2 при максимальном коэффициенте отражения R=53,5% и 0,188 нм для m=3 при максимальном коэффициенте отражения R=45,3%. По сравнению с известными многослойными зеркалами, работающими на первом порядке брэгговского отражения, ширина пика коэффициента отражения по уровню половины максимума уменьшена и составляет менее половины или менее одной трети.

Claims (6)

1. Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения, включающее многослойную структуру, нанесенную на подложку в виде последовательности отдельных слоев, отличающееся тем, что многослойная структура образована периодическим повторением двух отдельных слоев А и В из различных материалов, образующих один период многослойной структуры, имеющий толщину d, при толщинах соответствующих слоев dA и dB, причем:
0,97(dA+dB)≤d≤(dA+dB)1,03 и
(nAdA+nBdB)cos(θ)=mλ/2,
где nA и nB - действительные части комплексных показателей преломления материалов отдельных слоев А и В; m - целое число, равное порядку брэгговского отражения, который больше или равен 2; λ - длина волны падающего излучения и θ - угол падения падающего излучения; а для относительной толщины слоя Г=dA/d выполняется соотношение
Г<0,8/m.
2. Зеркало-монохроматор по п.1, отличающееся тем, что для относительной толщины слоя Г=dA/d выполняется соотношение Г<0,5/m.
3. Зеркало-монохроматор по п.1 или 2, отличающееся тем, что материалами отдельных слоев А и В являются молибден и кремний.
4. Зеркало-монохроматор по п.1 или 2, отличающееся тем, что оно имеет так много периодов, что глубина проникновения падающего излучения используется в максимальной степени для достижения оптимального коэффициента отражения.
5. Зеркало-монохроматор по п.1 или 2, отличающееся тем, что на поверхности слоя, наиболее удаленного от подложки, имеется слой покрытия.
6. Зеркало-монохроматор по п.1 или 2, отличающееся тем, что ширина спектральной кривой коэффициента отражения зеркала, измеренная по уровню половины максимума, при использовании брэгговского отражения второго порядка (m=2) уменьшается приблизительно в два раза по сравнению с шириной спектральной кривой коэффициента отражения зеркала при использовании брэгговского отражения первого порядка (m=1), измеренной по уровню половины максимума.
RU2004120551/28A 2002-02-25 2003-02-21 Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения RU2282222C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10208705A DE10208705B4 (de) 2002-02-25 2002-02-25 Monochromatorspiegel für den EUV-Spektralbereich
DE10208705.9 2002-02-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2004120551A RU2004120551A (ru) 2005-05-27
RU2282222C2 true RU2282222C2 (ru) 2006-08-20

Family

ID=27740506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2004120551/28A RU2282222C2 (ru) 2002-02-25 2003-02-21 Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7173759B2 (ru)
EP (1) EP1478953B1 (ru)
JP (1) JP2005517988A (ru)
AT (1) ATE363084T1 (ru)
DE (2) DE10208705B4 (ru)
PL (1) PL370308A1 (ru)
RU (1) RU2282222C2 (ru)
WO (1) WO2003071317A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU197307U1 (ru) * 2019-12-23 2020-04-21 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Балтийский федеральный университет имени Иммануила Канта" Многослойное зеркало для монохроматизации жесткого рентгеновского излучения

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7193228B2 (en) * 2004-03-10 2007-03-20 Cymer, Inc. EUV light source optical elements

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3033323B2 (ja) * 1992-02-25 2000-04-17 株式会社ニコン X線多層膜反射鏡の製造方法
US6521101B1 (en) * 1995-11-04 2003-02-18 The Regents Of The University Of California Method for fabricating beryllium-based multilayer structures
JPH1138192A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Nikon Corp 多層膜反射鏡
US6110607A (en) * 1998-02-20 2000-08-29 The Regents Of The University Of California High reflectance-low stress Mo-Si multilayer reflective coatings
US6295164B1 (en) * 1998-09-08 2001-09-25 Nikon Corporation Multi-layered mirror
DE19926056B4 (de) * 1999-06-08 2004-03-25 Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh Einrichtung zur Analyse atomarer und/oder molekularer Elemente mittels wellenlängendispersiver, röntgenspektrometrischer Einrichtungen
TWI267704B (en) * 1999-07-02 2006-12-01 Asml Netherlands Bv Capping layer for EUV optical elements
DE10016008A1 (de) * 2000-03-31 2001-10-11 Zeiss Carl Villagensystem und dessen Herstellung
US20020171922A1 (en) * 2000-10-20 2002-11-21 Nikon Corporation Multilayer reflective mirrors for EUV, wavefront-aberration-correction methods for same, and EUV optical systems comprising same
JP4320970B2 (ja) * 2001-04-11 2009-08-26 株式会社ニコン 多層膜反射鏡の製造方法
NL1018139C2 (nl) * 2001-05-23 2002-11-26 Stichting Fund Ond Material Meerlagenspiegel voor straling in het XUV-golflengtegebied en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU197307U1 (ru) * 2019-12-23 2020-04-21 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Балтийский федеральный университет имени Иммануила Канта" Многослойное зеркало для монохроматизации жесткого рентгеновского излучения

Also Published As

Publication number Publication date
DE10208705A1 (de) 2003-09-11
US7173759B2 (en) 2007-02-06
PL370308A1 (en) 2005-05-16
ATE363084T1 (de) 2007-06-15
DE10208705B4 (de) 2008-10-30
EP1478953A1 (de) 2004-11-24
RU2004120551A (ru) 2005-05-27
US20050128571A1 (en) 2005-06-16
WO2003071317A1 (de) 2003-08-28
JP2005517988A (ja) 2005-06-16
DE50307322D1 (de) 2007-07-05
WO2003071317A8 (de) 2004-04-15
EP1478953B1 (de) 2007-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6809864B2 (en) Multi-layer structure with variable bandpass for monochromatization and spectroscopy
Chkhalo et al. Next generation nanolithography based on Ru/Be and Rh/Sr multilayer optics
TWI427334B (zh) Euv蝕刻裝置反射光學元件
JP6389896B2 (ja) 多層ミラー
US7050237B2 (en) High-efficiency spectral purity filter for EUV lithography
KR101825336B1 (ko) 반사 광학 소자 및 이의 제조 방법
US8937709B2 (en) Reflective optical element for EUV lithography
US10916356B2 (en) Reflective optical element
KR20210105333A (ko) 비-반사 영역을 구비한 반사 층을 갖는 포토마스크
WO2016128029A1 (en) Euv multilayer mirror, optical system including a multilayer mirror and method of manufacturing a multilayer mirror
RU2282222C2 (ru) Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения
US11073766B2 (en) Reflective optical element and optical system for EUV lithography having proportions of substances which differ across a surface
JP2007515689A (ja) 交互の多層スタックを持つ2次元回折格子ネットワーク、その製法そしてそれらのネットワークを備える分光器
JPS62226047A (ja) 多層膜反射鏡
US10578783B2 (en) Optical grating and optical assembly for same
JP5669295B2 (ja) 多層膜光学素子
Sammar et al. Narrow bandpass multilayer x-ray monochromator
JP2011075850A (ja) 多層膜ラミナー型回折格子及び分光器
Seely et al. Extreme ultraviolet optical constants for the design and fabrication of multilayer-coated gratings
JP2993147B2 (ja) X線高次光除去フィルター
Martynov et al. Deep multilayer gratings with adjustable bandpass for XRF spectroscopy
JP2009300303A (ja) 多層膜不等間隔溝ラミナー型回折格子及び同回折格子を用いた分光装置
Hansen et al. Multilayer phase-diffraction gratings modeled as a structure in three dimensions
Koike et al. Design of soft x-ray wide-band multilayer gratings for constant deviation monochromators

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20180222