RU2034776C1 - Способ очистки фторида водорода - Google Patents
Способ очистки фторида водорода Download PDFInfo
- Publication number
- RU2034776C1 RU2034776C1 SU4935091A RU2034776C1 RU 2034776 C1 RU2034776 C1 RU 2034776C1 SU 4935091 A SU4935091 A SU 4935091A RU 2034776 C1 RU2034776 C1 RU 2034776C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- purification
- hydrogen fluoride
- sif
- fluoride
- fluoride purification
- Prior art date
Links
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
Изобретение относится к неорганической химии. Сущность способа очистки фторида водорода от примесей SiF4 и PF5 заключается в том, что газовую смесь пропускают через фторид натрия при 225 - 275°С и давлением 50 - 150 мм рт. ст. Степень очистки HF от SF4 составляет 100%, а от PF5 - 99,3%.
Description
Изобретение относится к неорганической химии, в частности к технологии получения и очистки безводного фторида водорода.
Наиболее близким по технической сущности к изобретению является способ, принятый за прототип, согласно которому НF и SiF4 улавливают совместно на фториде натрия, а затем проводят раздельную десорбцию НF при 350оС, а SiF4 при 550оС.
Недостатками прототипа являются двухстадийность процесса, сравнительно высокие энергозатраты, меньшая емкость сорбента для SiF4 вследствие совместной с НF сорбции, невозможность очистки НF от присутствующего в качестве примеси РF5 как на стадии сорбции, так и на стадии десорбции.
Целью изобретения является обеспечение возможности одновременной очистки НF от присутствующего в газе РF5.
Поставленная цель достигается тем, что очистку безводного фторида водорода от фторида кремния и фторида фосфора производят пропусканием газовой смеси через фторид натрия при 225-275оС и давлении 50-150 мм рт.ст.
П р и м е р 1. Газовую смесь массой 1,5 кг, состоящую из 86 мас. НF, 10 мас. SiF4 и 4 мас. РF5, пропускают через 12 кг гранулированного NaF при температуре 260+ +10оС и давлении 145 + 5 мм рт.ст. Пропущенный через сорбент НF конденсировали в емкости при температуре жидкого азота. По окончании процесса в емкости оказалось 1,27 кг НF. Анализ продукта показал присутствие в нем следов SiF4 и около 0,03 мас. РF5. Степень очистки НF от SiF4 практически нацело, а от РF5 99,3%
П р и м е р 2. Смесь газов, в которой содержатся те же, что и в примере 1, компоненты, пропускали через слой гранулированного NaF при 230+ 5оС и давлении 50+ 60 мм рт. ст. Расход исходной газовой смеси составлял 0,017 дм3/см3 мин. Прошедшие через сорбент газы содержали до данным ИКС-анализа не более 0,02 мас. SiF4 и около 0,03 мас. РF5. Степень очистки НF от указанных соединений составила более 99%
Преимуществами предлагаемого способа очистки безводного НF от примесей SiF4 и РF5 по сравнению с известными техническими решениями являются: проведение очистки в одну стадию; возможность улавливания РF5; снижение потерь НF; снижение энергозатрат; упрощение процесса очистки НF.
П р и м е р 2. Смесь газов, в которой содержатся те же, что и в примере 1, компоненты, пропускали через слой гранулированного NaF при 230+ 5оС и давлении 50+ 60 мм рт. ст. Расход исходной газовой смеси составлял 0,017 дм3/см3 мин. Прошедшие через сорбент газы содержали до данным ИКС-анализа не более 0,02 мас. SiF4 и около 0,03 мас. РF5. Степень очистки НF от указанных соединений составила более 99%
Преимуществами предлагаемого способа очистки безводного НF от примесей SiF4 и РF5 по сравнению с известными техническими решениями являются: проведение очистки в одну стадию; возможность улавливания РF5; снижение потерь НF; снижение энергозатрат; упрощение процесса очистки НF.
Внедрение предлагаемого способа в производство позволит сократить длительность процесса переработки газовых смесей, содержащих НF, SiF4 и РF5, и уменьшить трудо- и энергозатраты.
Claims (1)
- СПОСОБ ОЧИСТКИ ФТОРИДА ВОДОРОДА от тетрафторида кремния путем пропускания через фторид натрия при 225 275oС, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности одновременной очистки от пентафторида фосфора, процесс осуществляют при давлении 50 150 мм рт. ст.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4935091 RU2034776C1 (ru) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | Способ очистки фторида водорода |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU4935091 RU2034776C1 (ru) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | Способ очистки фторида водорода |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2034776C1 true RU2034776C1 (ru) | 1995-05-10 |
Family
ID=21573893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU4935091 RU2034776C1 (ru) | 1993-03-11 | 1993-03-11 | Способ очистки фторида водорода |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2034776C1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2534252C1 (ru) * | 2013-05-07 | 2014-11-27 | Открытое акционерное общество "Ведущий научно-исследовательский институт химической технологии" | Способ очистки фтористого водорода |
-
1993
- 1993-03-11 RU SU4935091 patent/RU2034776C1/ru active
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
1. Патент США N 3551098, кл. C 01D 3/02, 1968. * |
2. Авторское свидетельство СССР N 302268, кл. C 01B 7/19, 1933. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2534252C1 (ru) * | 2013-05-07 | 2014-11-27 | Открытое акционерное общество "Ведущий научно-исследовательский институт химической технологии" | Способ очистки фтористого водорода |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2443621C2 (ru) | Обратимый безводный способ разделения газовых смесей, содержащих кислоты | |
US4980144A (en) | Process for purifying nitrogen trifluoride gas | |
JPS5937116B2 (ja) | 殺菌ガス分離方法 | |
WO2023202270A1 (zh) | 一种分级利用磷矿石中氟、硅资源的方法 | |
JPH08240382A (ja) | 弗素化合物回収のための低温精留系 | |
RU2034776C1 (ru) | Способ очистки фторида водорода | |
CN106744688A (zh) | 一种用于去除氯化氢气体中氟化氢气体的方法 | |
CN108529560A (zh) | 从氟化尾气中制取氯化氢的方法 | |
RU2184698C1 (ru) | Способ получения трифторида азота | |
JP3548135B2 (ja) | Pfc混合排ガスの回収前処理方法 | |
JP2002284512A (ja) | 高純度三弗化窒素の製造方法 | |
RU2328335C1 (ru) | Способ разделения фторсодержащих газовых смесей | |
JP2000005561A (ja) | フッ化物の処理方法 | |
JPS61197415A (ja) | ジクロロシランの精製法 | |
SU1726368A1 (ru) | Способ очистки хлористого водорода | |
JPS641405B2 (ru) | ||
RU2248321C1 (ru) | Способ очистки трифторида азота от тетрафторметана | |
RU98117122A (ru) | Способ получения бромистого лития из рассолов | |
JPH0149532B2 (ru) | ||
JPH11349304A (ja) | 高純度三弗化窒素ガスの精製方法 | |
JPS58172328A (ja) | 塩化メチルとメチルアミンの分離方法 | |
RU2205059C1 (ru) | Способ отделения газовых примесей от газовых смесей | |
KR101462752B1 (ko) | 배가스 중의 삼불화질소 회수 방법 | |
KR950007316B1 (ko) | 클로로디플루오로메탄으로부터의 불화수소의 분리 및 회수방법 | |
KR20240007033A (ko) | 반도체 식각 공정에서 배출된 폐가스에서 고순도 제논, 크립톤 가스를 생산하는 방법 |