RU2020122018A - Золотая распыляемая мишень и способ ее получения - Google Patents
Золотая распыляемая мишень и способ ее получения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2020122018A RU2020122018A RU2020122018A RU2020122018A RU2020122018A RU 2020122018 A RU2020122018 A RU 2020122018A RU 2020122018 A RU2020122018 A RU 2020122018A RU 2020122018 A RU2020122018 A RU 2020122018A RU 2020122018 A RU2020122018 A RU 2020122018A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- gold
- target
- hkl
- less
- crystallographic planes
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C5/00—Alloys based on noble metals
- C22C5/02—Alloys based on gold
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/14—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of noble metals or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3423—Shape
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Claims (15)
1. Золотая распыляемая мишень, выполненная из золота чистотой 99,999% или более и имеющая среднее значение твердости по Виккерсу 20 или более и менее 40, средний размер кристаллического зерна 15 мкм или более и 200 мкм или менее и с плоскостью {110} золота, ориентированной к подлежащей распылению поверхности золотой распыляемой мишени.
2. Золотая распыляемая мишень по п. 1, в которой индексы N ориентации кристаллографических плоскостей золота определяются согласно следующему уравнению (1), основанному на отношении интенсивностей дифракции каждой из кристаллографических плоскостей, которое получено с помощью рентгеновской дифракции для подлежащей распылению поверхности, индекс N ориентации плоскости {110} золота составляет более 1 и является наибольшим среди индексов N ориентации всех кристаллографических плоскостей:
где I/I(hkl) – отношение интенсивностей дифракции плоскости (hkl) при рентгеновской дифракции, JСРDS·I/I(hkl) – отношение интенсивностей дифракции плоскости (hkl) в карточке JСРDS, Ʃ(I/I(hkl)) – сумма отношений интенсивностей дифракции всех кристаллографических плоскостей при рентгеновской дифракции, а Σ(JСРDS*I/I(hkl)) – сумма отношений интенсивностей дифракции всех кристаллографических плоскостей в карточке JСРDS.
3. Золотая распыляемая мишень по п. 1 или 2, в которой вариация твердости по Виккерсу по всей распыляемой мишени находится в пределах ±20%.
4. Золотая распыляемая мишень по любому пп. 1-3, в которой вариация среднего размера кристаллических зерен по всей распыляемой мишени находится в пределах ±20%.
5. Золотая распыляемая мишень по любому из пп. 1-4, в которой распыляемая мишень имеет форму пластины.
6. Золотая распыляемая мишень по любому из пп. 1-4, в которой распыляемая мишень имеет цилиндрическую форму.
7. Способ получения золотой распыляемой мишени по п.1, содержащий приготовление золотого слитка, имеющего чистоту золота 99,999% или более, обработку золотого слитка для формирования пластинчатой золотой заготовки, горячую ковку или горячую прокатку золотой заготовки при температуре 200°С или более и 800°С или менее или холодную прокатку золотой заготовки при степени обработки 50% или более и 90% или менее для получения материала пластинчатой мишени, и термическую обработку материала мишени при температуре 200°С или более и 500°С или менее с поддержанием температуры в течении 10 мин или более и 120 мин или менее.
8. Способ получения золотой распыляемой мишени по п.1, содержащий приготовление золотого слитка, имеющего чистоту золота 99,999% или более, обработку золотого слитка для формирования цилиндрической золотой заготовки, холодное прессование золотой заготовки при коэффициенте вытяжки 1,5 или более и 3,0 или менее, многократное холодное волочение золотой заготовки при степени обработки 2% или более и 5% или менее или горячую ковку золотой заготовки при температуре 200°С или более и 800°С или менее и при степени обработки 30% или более и 80% или менее для формирования цилиндрической мишени, и термическую обработку мишени при температуре 200°С или более и 500°С или менее с поддержанием температуры в течении 10 мин или более и 120 мин или менее.
9. Способ по п. 7 или 8, в котором получают мишень с индексами N ориентации кристаллографических плоскостей золота, которые определяют согласно следующему уравнению (1), основанному на отношении интенсивностей дифракции каждой из кристаллографических плоскостей золота, которое получено с помощью рентгеновской дифракции для подлежащей распылению поверхности, индекс N ориентации плоскости {110} золота составляет более 1 и является наибольшим среди индексов N ориентации всех кристаллографических плоскостей:
где I/I(hkl) – отношение интенсивностей дифракции плоскости (hkl) при рентгеновской дифракции, JСРDS*I/I(hkl) – отношение интенсивностей дифракции плоскости (hkl) в карточке JСРDS, Ʃ(I/I(hkl)) – сумма отношений интенсивностей дифракции всех кристаллографических плоскостей при рентгеновской дифракции, а Σ(JСРDS*I/I(hkl)) – сумма отношений интенсивностей дифракции всех кристаллографических плоскостей в карточке JСРDS.
10. Способ по любому из пп. 7-9, в котором получают мишень с вариацией твердости по Виккерсу по всей распыляемой мишени в пределах ±20%.
11. Способ по любому из пп. 7-10, в котором получают мишень с вариацией среднего размера кристаллических зерен по всей распыляемой мишени в пределах ±20%.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017234720A JP7274816B2 (ja) | 2017-12-06 | 2017-12-06 | 金スパッタリングターゲットとその製造方法 |
| JP2017-234720 | 2017-12-06 | ||
| PCT/JP2018/044584 WO2019111900A1 (ja) | 2017-12-06 | 2018-12-04 | 金スパッタリングターゲットとその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2020122018A true RU2020122018A (ru) | 2022-01-10 |
| RU2020122018A3 RU2020122018A3 (ru) | 2022-01-10 |
| RU2785507C2 RU2785507C2 (ru) | 2022-12-08 |
Family
ID=
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102598372B1 (ko) | 2023-11-03 |
| US11795540B2 (en) | 2023-10-24 |
| JP7274816B2 (ja) | 2023-05-17 |
| TWI798304B (zh) | 2023-04-11 |
| JP2022128463A (ja) | 2022-09-01 |
| EP3722455A1 (en) | 2020-10-14 |
| TW201936930A (zh) | 2019-09-16 |
| CN111448335B (zh) | 2023-01-03 |
| JP7353424B2 (ja) | 2023-09-29 |
| JP2019099891A (ja) | 2019-06-24 |
| US20200340101A1 (en) | 2020-10-29 |
| US20230120540A1 (en) | 2023-04-20 |
| CN111448335A (zh) | 2020-07-24 |
| WO2019111900A1 (ja) | 2019-06-13 |
| KR20200085290A (ko) | 2020-07-14 |
| EP3722455A4 (en) | 2021-03-31 |
| RU2020122018A3 (ru) | 2022-01-10 |
| US11560620B2 (en) | 2023-01-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2674357T3 (es) | Procesamiento termomecánico de aleaciones alfa-beta de titanio | |
| RU2638139C2 (ru) | Ковка в открытом штампе с раздельными проходами трудных для ковки и чувствительных к траектории деформирования сплавов на основе титана и на основе никеля | |
| CN105016708B (zh) | 一种功能性活晶瓷及其制备方法和应用 | |
| JP2016148110A5 (ru) | ||
| CN106521270A (zh) | 一种改善铝锂合金耐腐蚀性能的热处理工艺 | |
| CN103045974B (zh) | 提高变形铝合金强度并保持其塑性的热加工方法 | |
| Liu et al. | The effect of cumulative large plastic strain on the structure and properties of a Cu–Zn alloy | |
| TWI456072B (zh) | 冷軋下之捲料處理性優異的高強度α＋β型鈦合金熱軋板及其製造方法 | |
| CN101323939B (zh) | 一种提高钛合金断裂韧性和抗疲劳强度的热加工工艺 | |
| JP2016503126A5 (ru) | ||
| Demakov et al. | Effect of annealing temperature on the texture of copper wire | |
| RU2020122018A (ru) | Золотая распыляемая мишень и способ ее получения | |
| Huang et al. | Edge crack damage analysis of AZ31 magnesium alloy hot-rolled plate improved by vertical roll pre-rolling | |
| Hamad et al. | Microstructure and texture evolution in low carbon steel deformed by differential speed rolling (DSR) method | |
| CN111014286B (zh) | 一种基于织构调控的高扭转性能钛合金丝制备方法 | |
| JP5875965B2 (ja) | チタン板およびその製造方法 | |
| RU2637396C2 (ru) | Способ получения диссипативных структур | |
| RU2018146163A (ru) | Золотая распыляемая мишень | |
| Lotkov et al. | Ultrafine structure and martensitic transformation in titanium nickelide after warm abc pressing | |
| CN1912167A (zh) | Mg－Al系合金的强磁场时效热处理方法 | |
| US20030098102A1 (en) | High-purity aluminum sputter targets and method of manufacture | |
| RU2020122019A (ru) | Способ получения золотой пленки с использованием золотой распыляемой мишени | |
| Yi et al. | Improvement of magnesium sheet formability by alloying addition of rare earth elements | |
| RU2397256C1 (ru) | Способ изготовления монтажного ручного инструмента из титановых сплавов | |
| CN112195422B (zh) | 一种类单晶纯铜的制备方法 |