RU2016133224A - Концевой блок для вращающейся мишени с электрическим соединением между токосъемником и ротором при давлении меньше атмосферного давления - Google Patents
Концевой блок для вращающейся мишени с электрическим соединением между токосъемником и ротором при давлении меньше атмосферного давления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2016133224A RU2016133224A RU2016133224A RU2016133224A RU2016133224A RU 2016133224 A RU2016133224 A RU 2016133224A RU 2016133224 A RU2016133224 A RU 2016133224A RU 2016133224 A RU2016133224 A RU 2016133224A RU 2016133224 A RU2016133224 A RU 2016133224A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- rotor
- current collector
- spraying
- target
- cooling region
- Prior art date
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 24
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 22
- 239000011530 conductive current collector Substances 0.000 claims 12
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 5
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32816—Pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3417—Arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/342—Hollow targets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3497—Temperature of target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/332—Coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Motor Or Generator Current Collectors (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
Claims (31)
1. Установка для распыления, содержащая:
по меньшей мере один концевой блок для поддерживания конца цилиндрической вращающейся распыляемой мишени, причем концевой блок включает в себя неподвижный проводящий токосъемник и вращающийся проводящий ротор для вращения с цилиндрической распыляемой мишенью во время операций распыления;
при этом концевой блок дополнительно включает в себя узел передачи электрической энергии, расположенный между неподвижным проводящим токосъемником и вращающимся ротором, для обеспечения передачи электрической энергии от токосъемника к ротору;
первую область охлаждения, через которую течет жидкость для охлаждения неподвижного проводящего токосъемника, причем первая область охлаждения расположена вокруг по меньшей мере участка неподвижного проводящего токосъемника и практически концентрична с неподвижным проводящим токосъемником;
вторую область охлаждения, которая отделена от первой области охлаждения и через которую течет жидкость для охлаждения ротора и мишени, причем вторая область охлаждения по меньшей мере частично окружена ротором, и при этом жидкость во второй области охлаждения течет в по меньшей мере направлении, которое практически параллельно оси, вокруг которой должны вращаться мишень и ротор;
при этом жидкость в первой области охлаждения течет вокруг упомянутой оси, вокруг которой должны вращаться мишень и ротор; и
при этом каждый из узла передачи электрической энергии, ротора и токосъемника расположен в области под вакуумом, имеющей давление меньше атмосферного давления, во время операций распыления.
2. Установка для распыления по п.1, причем узел передачи электрической энергии состоит из одной или более проводящих щеток.
3. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем каждый из всего узла передачи электрической энергии и всего ротора расположен в области под вакуумом, имеющей давление меньше атмосферного давления.
4. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем мишень также должна быть расположена целиком в области под вакуумом, имеющей давление меньше атмосферного давления.
5. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем весь токосъемник расположен в области под вакуумом, имеющей давление меньше атмосферного давления.
6. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем опора концевого блока поддерживает концевой блок с перекрытия камеры распыления установки для распыления.
7. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем жидкость в первой области охлаждения не смешивается с жидкостью во второй области охлаждения.
8. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем жидкость в первой области охлаждения содержит воду.
9. Установка для распыления по любому предыдущему пункту, причем жидкость во второй области охлаждения содержит воду.
10. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем концевой блок и мишень установлены на катодном барабане для избирательного перемещения и применения в операциях распыления в установке для распыления.
11. Установка для распыления по любому предшествующему пункту, причем вход охлаждающей жидкости и выход охлаждающей жидкости для первой области охлаждения предусмотрены в или вблизи упомянутого концевого блока, и при этом вход охлаждающей жидкости и выход охлаждающей жидкости для второй области охлаждения предусмотрены в или вблизи другого концевого блока, который предусмотрен на конце мишени, противоположном тому концу, на котором расположен упомянутый концевой блок, включающий в себя токосъемник.
12. Концевой блок для поддерживания вращающейся распыляемой мишени в установке для распыления, содержащий:
неподвижный проводящий токосъемник;
вращающийся проводящий ротор для вращения с вращающейся распыляемой мишенью во время операций распыления;
узел передачи электрической энергии, расположенный между неподвижным проводящим токосъемником и вращающимся ротором, по меньшей мере для обеспечения передачи электрической энергии от токосъемника к ротору; и
при этом каждый из узла передачи электрической энергии, ротора и токосъемника выполнен с возможностью расположения в области под вакуумом, имеющей давление меньше атмосферного давления, во время операций распыления.
13. Концевой блок по п.12, дополнительно содержащий первую область охлаждения, через которую течет жидкость для охлаждения неподвижного проводящего токосъемника, причем первая область охлаждения расположена вокруг по меньшей мере участка неподвижного проводящего токосъемника и практически концентрична с неподвижным проводящим токосъемником.
14. Концевой блок по п.13, дополнительно содержащий вторую область охлаждения, через которую течет жидкость для охлаждения ротора и мишени, причем вторая область охлаждения по меньшей мере частично окружена ротором, и при этом жидкость во второй области охлаждения течет в по меньшей мере направлении, которое практически параллельно оси, вокруг которой должны вращаться мишень и ротор.
15. Концевой блок по п.14, причем жидкость в первой области охлаждения течет вокруг упомянутой оси, вокруг которой должны вращаться мишень и ротор.
16. Концевой блок по любому из пп.12-15, причем узел передачи электрической энергии состоит из одной или более проводящих щеток.
17. Концевой блок по любому из пп.12-16, причем каждый из всего узла передачи электрической энергии и всего ротора выполнен с возможностью расположения в области под вакуумом, имеющей давление меньше атмосферного давления, во время операций распыления.
18. Концевой блок по любому из пп.14-17, причем первая и вторая области охлаждения не сообщаются по текучей среде друг с другом.
19. Способ изготовления изделия с покрытием, содержащий:
распыление вращающейся мишени в камере под давлением, меньшим, чем атмосферное давление, для напыления слоя на подложку, при этом мишень поддерживается концевым блоком, включающим в себя неподвижный проводящий токосъемник, вращающийся проводящий ротор, который вращается с распыляемой мишенью во время упомянутого распыления, узел передачи электрической энергии, расположенный между неподвижным проводящим токосъемником и вращающимся ротором, для передачи электрической энергии от токосъемника к ротору;
обеспечение концевого блока в таком положении, что во время упомянутого распыления каждый из узла передачи электрической энергии, ротора и токосъемника расположен в области под вакуумом, имеющей давление меньше атмосферного давления.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US14/153,658 | 2014-01-13 | ||
| US14/153,658 US9809876B2 (en) | 2014-01-13 | 2014-01-13 | Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure |
| PCT/US2014/072784 WO2015105711A1 (en) | 2014-01-13 | 2014-12-30 | Endblock for rotatable target with electrical connection between collector and rotor at pressure less than atmospheric pressure |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2016133224A true RU2016133224A (ru) | 2018-02-20 |
| RU2016133224A3 RU2016133224A3 (ru) | 2018-06-25 |
| RU2667143C2 RU2667143C2 (ru) | 2018-09-17 |
Family
ID=52355266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2016133224A RU2667143C2 (ru) | 2014-01-13 | 2014-12-30 | Концевой блок для вращающейся мишени с электрическим соединением между токосъемником и ротором при давлении меньше атмосферного давления |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9809876B2 (ru) |
| EP (1) | EP3095126B8 (ru) |
| JP (1) | JP2017503080A (ru) |
| KR (1) | KR20160108424A (ru) |
| CN (1) | CN106463325B (ru) |
| BR (1) | BR112016016151A2 (ru) |
| ES (1) | ES2660576T3 (ru) |
| PL (1) | PL3095126T3 (ru) |
| RU (1) | RU2667143C2 (ru) |
| WO (1) | WO2015105711A1 (ru) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1024754B9 (nl) * | 2016-11-29 | 2018-07-24 | Soleras Advanced Coatings Bvba | Een universeel monteerbaar eindblok |
| CN108277468B (zh) * | 2018-02-26 | 2019-11-12 | 沈阳中北真空技术有限公司 | 一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法 |
| SG11202008819VA (en) * | 2018-03-19 | 2020-10-29 | Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd | Power feeding mechanism, rotary base device and semiconductor processing equipment |
| CN113445013B (zh) * | 2021-06-28 | 2022-06-03 | 哈尔滨工业大学 | 旋翼轴承内圈内壁高功率磁控溅射薄膜沉积装置及方法 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5096562A (en) | 1989-11-08 | 1992-03-17 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
| US5427665A (en) | 1990-07-11 | 1995-06-27 | Leybold Aktiengesellschaft | Process and apparatus for reactive coating of a substrate |
| WO1992002659A1 (en) * | 1990-08-10 | 1992-02-20 | Viratec Thin Films, Inc. | Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems |
| US5620577A (en) * | 1993-12-30 | 1997-04-15 | Viratec Thin Films, Inc. | Spring-loaded mount for a rotatable sputtering cathode |
| US20020189939A1 (en) * | 2001-06-14 | 2002-12-19 | German John R. | Alternating current rotatable sputter cathode |
| US6736948B2 (en) | 2002-01-18 | 2004-05-18 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Cylindrical AC/DC magnetron with compliant drive system and improved electrical and thermal isolation |
| DE10213049A1 (de) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Dieter Wurczinger | Drehbare Rohrkatode |
| US7014741B2 (en) | 2003-02-21 | 2006-03-21 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Cylindrical magnetron with self cleaning target |
| US7513141B2 (en) | 2003-09-09 | 2009-04-07 | Applied Films Corporation | Method for differentially pumping endblock seal cavity |
| US20050224343A1 (en) * | 2004-04-08 | 2005-10-13 | Richard Newcomb | Power coupling for high-power sputtering |
| ES2320366T3 (es) | 2004-10-18 | 2009-05-21 | Bekaert Advanced Coatings | Bloque terminal plano para portar un material de pulverizacion ionica de manera giratoria. |
| WO2006042808A1 (en) | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Bekaert Advanced Coatings | An end-block for a rotatable target sputtering apparatus |
| US20060096855A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Richard Newcomb | Cathode arrangement for atomizing a rotatable target pipe |
| EP1783814A1 (fr) * | 2005-11-07 | 2007-05-09 | ARCELOR France | Procédé et installation d'avivage sous vide par pulvérisation magnétron d'une bande métallique |
| DE502005006841D1 (de) | 2005-12-22 | 2009-04-23 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Zerstäubungsvorrichtung mit einer Rohrkathode und Verfahren zum Betreiben dieser Zerstäubungsvorrichtung |
| KR20090029213A (ko) * | 2006-06-19 | 2009-03-20 | 베카에르트 어드벤스드 코팅스 | 스퍼터링 장치의 엔드-블록용 삽입편 |
| US8535490B2 (en) | 2007-06-08 | 2013-09-17 | General Plasma, Inc. | Rotatable magnetron sputtering with axially movable target electrode tube |
| DE102008033902B4 (de) | 2008-07-18 | 2012-01-19 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target und Vakuumbeschichtungsanlage |
| DE102008058528B4 (de) | 2008-11-21 | 2011-03-03 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Endblock für eine Magnetronanordnung mit einem rotierenden Target |
| US20120097526A1 (en) | 2009-04-03 | 2012-04-26 | Madocks John E | Rotary magnetron |
| US10586689B2 (en) * | 2009-07-31 | 2020-03-10 | Guardian Europe S.A.R.L. | Sputtering apparatus including cathode with rotatable targets, and related methods |
| EP2371992B1 (en) | 2010-04-01 | 2013-06-05 | Applied Materials, Inc. | End-block and sputtering installation |
-
2014
- 2014-01-13 US US14/153,658 patent/US9809876B2/en active Active
- 2014-12-30 PL PL14827991T patent/PL3095126T3/pl unknown
- 2014-12-30 BR BR112016016151A patent/BR112016016151A2/pt active Search and Examination
- 2014-12-30 RU RU2016133224A patent/RU2667143C2/ru active
- 2014-12-30 KR KR1020167021583A patent/KR20160108424A/ko active IP Right Grant
- 2014-12-30 EP EP14827991.2A patent/EP3095126B8/en not_active Not-in-force
- 2014-12-30 JP JP2016546486A patent/JP2017503080A/ja not_active Ceased
- 2014-12-30 CN CN201480077077.7A patent/CN106463325B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-12-30 ES ES14827991.2T patent/ES2660576T3/es active Active
- 2014-12-30 WO PCT/US2014/072784 patent/WO2015105711A1/en active Application Filing
-
2017
- 2017-10-18 US US15/786,809 patent/US20180037984A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9809876B2 (en) | 2017-11-07 |
| EP3095126B8 (en) | 2018-02-14 |
| RU2016133224A3 (ru) | 2018-06-25 |
| PL3095126T3 (pl) | 2018-06-29 |
| KR20160108424A (ko) | 2016-09-19 |
| US20150197847A1 (en) | 2015-07-16 |
| RU2667143C2 (ru) | 2018-09-17 |
| CN106463325A (zh) | 2017-02-22 |
| EP3095126B1 (en) | 2017-12-13 |
| BR112016016151A2 (pt) | 2017-08-08 |
| US20180037984A1 (en) | 2018-02-08 |
| CN106463325B (zh) | 2019-02-26 |
| EP3095126A1 (en) | 2016-11-23 |
| ES2660576T3 (es) | 2018-03-23 |
| WO2015105711A1 (en) | 2015-07-16 |
| JP2017503080A (ja) | 2017-01-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2016133224A (ru) | Концевой блок для вращающейся мишени с электрическим соединением между токосъемником и ротором при давлении меньше атмосферного давления | |
| JP2012505968A5 (ru) | ||
| JP4667337B2 (ja) | 管状カソードを有するスパッタ装置およびこのスパッタ装置の操作方法 | |
| JP2014525516A (ja) | 物理気相堆積チャンバターゲット用の冷却リング | |
| CN204999961U (zh) | 一种多工位自动化热喷涂辅助装置 | |
| WO2014053723A3 (fr) | Generateur electrique a multiples machines electriques | |
| RU2015150033A (ru) | Электростатическое распыляющее устройство для напыления жидкого покрывающего материала и установка для напыления, содержащая такое распыляющее устройство | |
| RU2627618C2 (ru) | Ветроэнергетическая установка и блок молниезащиты для ветроэнергетической установки | |
| CN204205048U (zh) | 一种耐高温的共形卫导天线阵 | |
| CN202658221U (zh) | 一种磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶 | |
| CN105376919B (zh) | 一种激光诱导液滴靶放电产生等离子体的装置 | |
| JP5764467B2 (ja) | スパッタ装置、ターゲット装置 | |
| CN102703872A (zh) | 磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶 | |
| CN102568990A (zh) | 真空镀膜用离子轰击板机构 | |
| CN107779826A (zh) | 电弧离子镀膜设备 | |
| CN111711379B (zh) | 一种基于摩擦电效应的雨水能量收集系统及收集方法 | |
| CN204160358U (zh) | 一种固定装置 | |
| CN203725118U (zh) | 一种等离子消毒液混合器的保温装置 | |
| CN203295596U (zh) | 一种离子镀膜装置 | |
| CN108672186A (zh) | 工件表面喷涂装置 | |
| CN207405236U (zh) | 一种可旋转的pecvd镀膜装置 | |
| CN107104556A (zh) | 零磨损电机滑环结构 | |
| CN201424502Y (zh) | 旋转溅射电弧柱靶装置 | |
| CN106244972A (zh) | 一种钨丝蒸发篮热喷涂夹持装置 | |
| CN204730730U (zh) | 一种喷溅装置的主轴机构 |