RU2016127322A - Способ получения карбида бора плазмохимическим методом - Google Patents

Способ получения карбида бора плазмохимическим методом Download PDF

Info

Publication number
RU2016127322A
RU2016127322A RU2016127322A RU2016127322A RU2016127322A RU 2016127322 A RU2016127322 A RU 2016127322A RU 2016127322 A RU2016127322 A RU 2016127322A RU 2016127322 A RU2016127322 A RU 2016127322A RU 2016127322 A RU2016127322 A RU 2016127322A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
boron carbide
plasma
producing boron
chemical
deposition
Prior art date
Application number
RU2016127322A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2648421C2 (ru
Inventor
Роман Алексеевич Корнев
Дмитрий Алексеевич Конычев
Петр Геннадьевич Сенников
Сергей Михайлович Зырянов
Original Assignee
Акционерное общество "Производственное объединение Электрохимический завод" (АО "ПО ЭХЗ")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Акционерное общество "Производственное объединение Электрохимический завод" (АО "ПО ЭХЗ") filed Critical Акционерное общество "Производственное объединение Электрохимический завод" (АО "ПО ЭХЗ")
Priority to RU2016127322A priority Critical patent/RU2648421C2/ru
Publication of RU2016127322A publication Critical patent/RU2016127322A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2648421C2 publication Critical patent/RU2648421C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/90Carbides
    • C01B32/914Carbides of single elements
    • C01B32/991Boron carbide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Claims (2)

1. Способ получения карбида бора плазмохимическим синтезом в высокочастотном разряде в реакторе, содержащем электроды, выполненные в виде подложек для осаждения карбида бора, при этом синтез проводят при мощности разряда 500 Вт в плазме атмосферного давления при подаче в реактор потоков водорода, фторида бора и метана при общей скорости потоков 1000 см3/мин и при соотношении потоков H2:BF3, равном 2,6, и соотношении потоков BF3:CH4, равном 5,5.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что температура электродов при осаждении карбида бора составляет 800-1200°C.
RU2016127322A 2016-07-06 2016-07-06 Способ получения карбида бора плазмохимическим методом RU2648421C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016127322A RU2648421C2 (ru) 2016-07-06 2016-07-06 Способ получения карбида бора плазмохимическим методом

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016127322A RU2648421C2 (ru) 2016-07-06 2016-07-06 Способ получения карбида бора плазмохимическим методом

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2016127322A true RU2016127322A (ru) 2018-01-10
RU2648421C2 RU2648421C2 (ru) 2018-03-26

Family

ID=60965264

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2016127322A RU2648421C2 (ru) 2016-07-06 2016-07-06 Способ получения карбида бора плазмохимическим методом

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2648421C2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110092382A (zh) * 2018-01-28 2019-08-06 大连天宏硼业有限公司 一种碳化硼去除游离碳工艺

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4295890A (en) * 1975-12-03 1981-10-20 Ppg Industries, Inc. Submicron beta silicon carbide powder and sintered articles of high density prepared therefrom
CA1236853A (en) * 1975-12-03 1988-05-17 Frederick G. Stroke SUBMICRON .beta. SILICON CARBIDE POWDER AND SINTERED ARTICLES OF HIGH DENSITY PREPARED THEREFROM
US4895628A (en) * 1985-02-12 1990-01-23 The Dow Chemical Company Process for the preparation of submicron-sized boron carbide powders
JPS6345111A (ja) * 1987-05-28 1988-02-26 Mitsui Toatsu Chem Inc 新規炭化ホウ素の製造法
JP2561866B2 (ja) * 1990-01-16 1996-12-11 理化学研究所 炭化ホウ素の微粒子製造方法
UA82066C2 (ru) * 2004-11-15 2008-03-11 Институт проблем материаловедения им. И.М. Францевича Способ получения мелкодисперсного порошка карбида бора
US7635458B1 (en) * 2006-08-30 2009-12-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Production of ultrafine boron carbide particles utilizing liquid feed materials
US7438880B2 (en) * 2006-12-20 2008-10-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Production of high purity ultrafine metal carbide particles
UA82800C2 (ru) * 2007-04-16 2008-05-12 Nat Metallurgical Academy Ukraine Способ получения карбида бора
RU2550848C2 (ru) * 2013-04-01 2015-05-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический университет" Способ получения карбида бора
RU2576041C2 (ru) * 2013-12-20 2016-02-27 Акционерное общество "Обнинское научно-производственное предприятие "Технология" им. А.Г. Ромашина" Способ получения полидисперсного порошка карбида бора

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110092382A (zh) * 2018-01-28 2019-08-06 大连天宏硼业有限公司 一种碳化硼去除游离碳工艺

Also Published As

Publication number Publication date
RU2648421C2 (ru) 2018-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MX2016009778A (es) Soplete de plasma.
RU2016148886A (ru) Свч-плазменный реактор для изготовления синтетического алмазного материала
JP2010209330A5 (ru)
SG196762A1 (en) High pressure, high power plasma activated conformal film deposition
WO2012112584A3 (en) Atomic layer deposition using radicals of gas mixture
GB2548501A (en) Highly twinned, oriented polycrystalline diamond film and method of manufacture thereof
GB201205801D0 (en) Process
JP2013229608A5 (ru)
JP2020507922A5 (ru)
GB201019967D0 (en) Low work function diamond surface and radiation energy converters using same
JP2015512858A5 (ru)
EP3061845A3 (en) Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell
JP2012182447A5 (ja) 半導体膜の作製方法
RU2011144413A (ru) Способ получения графеновой пленки
PH12018500025A1 (en) Method for producing cobalt powder
SG10201909284PA (en) Residue free oxide etch
RU2016127322A (ru) Способ получения карбида бора плазмохимическим методом
JP2016082010A5 (ru)
MX2016001066A (es) Metodos y sistemas para generar especies de fluoruro reactivas a partir de un precursor gaseoso en una formacion subterranea para su estimulacion.
MY171867A (en) Polycrystalline silicon deposition method
MX2017000426A (es) Metodo para producir fluoruro de hidrogeno.
JP2011109076A5 (ja) 半導体装置の作製方法
RU2012135387A (ru) Способ микроволновой конверсии метан-водяной смеси в синтез-газ
RU2012153091A (ru) Способ осаждения нитрида кремния на кремниевую подложку
CN106087039A (zh) 一种碳化硅外延炉的配件处理方法