RU2013151453A - Способ обеспечения последовательных импульсов мощности - Google Patents

Способ обеспечения последовательных импульсов мощности Download PDF

Info

Publication number
RU2013151453A
RU2013151453A RU2013151453/07A RU2013151453A RU2013151453A RU 2013151453 A RU2013151453 A RU 2013151453A RU 2013151453/07 A RU2013151453/07 A RU 2013151453/07A RU 2013151453 A RU2013151453 A RU 2013151453A RU 2013151453 A RU2013151453 A RU 2013151453A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
interval
power
power pulses
generator
partial
Prior art date
Application number
RU2013151453/07A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2596818C2 (ru
Inventor
Зигфрид КРАССНИТЦЕР
Даниэль ЛЕНДИ
Маркус ЛЕХТХАЛЕР
Курт РУМ
Original Assignee
Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102011018363A external-priority patent/DE102011018363A1/de
Priority claimed from DE102011117177A external-priority patent/DE102011117177A1/de
Application filed by Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах filed Critical Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Publication of RU2013151453A publication Critical patent/RU2013151453A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2596818C2 publication Critical patent/RU2596818C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3485Sputtering using pulsed power to the target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3492Variation of parameters during sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/352Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3464Operating strategies
    • H01J37/3467Pulsed operation, e.g. HIPIMS

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Surgical Instruments (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Electrostatic Separation (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)

Abstract

1. Способ обеспечения импульсов мощности линейно изменяемым интервалом импульсов мощности для работы распылительного катода для создания покрытия посредством осаждения паров (PVD), при этом распылительный катод PVD содержит первый частичный катод и второй частичный катод, при этом для частичных катодов задана максимальная средняя прикладываемая мощность, и при этом задается длительность интервалов импульсов мощности, при этом способ содержит следующие этапы:a) обеспечения генератора с заданной, предпочтительно по меньшей мере после включения и по истечении интервала нарастания мощности, постоянной отдаваемой мощностью,b) включения генератора,c) подключения первого частичного катода к генератору таким образом, что первый частичный катод нагружается мощностью генератора,d) разъединения генератора и первого частичного катода по истечении заданного интервала импульсов мощности, соответствующего первому частичному катоду,e) подключения второго частичного катода к генератору таким образом, что второй частичный катод нагружается мощностью генератора,f) разъединения генератора и второго частичного катода по истечении заданного интервала импульсов мощности, соответствующего второму частичному катоду,при этом первый интервал импульсов мощности начинается во времени перед вторым интервалом импульсов мощности, и первый интервал импульсов мощности заканчивается во времени перед вторым интервалом импульсов мощности,отличающийся тем, что этапы d) и е) выполняют таким образом, что первый интервал импульсов мощности и второй интервал импульсов мощности перекрываются во времени, и все интервалы импульсов мощнос

Claims (10)

1. Способ обеспечения импульсов мощности линейно изменяемым интервалом импульсов мощности для работы распылительного катода для создания покрытия посредством осаждения паров (PVD), при этом распылительный катод PVD содержит первый частичный катод и второй частичный катод, при этом для частичных катодов задана максимальная средняя прикладываемая мощность, и при этом задается длительность интервалов импульсов мощности, при этом способ содержит следующие этапы:
a) обеспечения генератора с заданной, предпочтительно по меньшей мере после включения и по истечении интервала нарастания мощности, постоянной отдаваемой мощностью,
b) включения генератора,
c) подключения первого частичного катода к генератору таким образом, что первый частичный катод нагружается мощностью генератора,
d) разъединения генератора и первого частичного катода по истечении заданного интервала импульсов мощности, соответствующего первому частичному катоду,
e) подключения второго частичного катода к генератору таким образом, что второй частичный катод нагружается мощностью генератора,
f) разъединения генератора и второго частичного катода по истечении заданного интервала импульсов мощности, соответствующего второму частичному катоду,
при этом первый интервал импульсов мощности начинается во времени перед вторым интервалом импульсов мощности, и первый интервал импульсов мощности заканчивается во времени перед вторым интервалом импульсов мощности,
отличающийся тем, что этапы d) и е) выполняют таким образом, что первый интервал импульсов мощности и второй интервал импульсов мощности перекрываются во времени, и все интервалы импульсов мощности совместно образуют первую группу, так что отдача мощности из генератора сохраняется все время без перерыва между началом первого интервала импульсов мощности до конца второго интервала импульсов мощности, и отсутствует второй интервал нарастания мощности.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что перекрытие во времени первого интервала импульсов мощности и второго интервала импульсов мощности составляет не более х% интервала нарастания мощности, или, если первый интервал импульсов мощности отличается по длительности от второго интервала импульсов мощности, составляет не более х% интервала импульсов мощности меньшей длительности, при этом х меньше или равен 20, предпочтительно х меньше или равен 10.
3. Способ по любому из пп.1 или 2, отличающийся тем, что распылительный катод PVD содержит по меньшей мере один дополнительный частичный катод, предпочтительно несколько дополнительных частичных катодов, при этом дополнительные частичные катоды подключают к генератору и разъединяют с ним в соответствии с этапами е) и f), при этом соотнесенный с очередным дополнительным частичным катодом интервал импульсов мощности перекрывается во времени с интервалом импульсов мощности, который соответствует непосредственно предыдущему частичному катоду, и первый, второй и дополнительный или дополнительные интервалы импульсов мощности вместе образуют непрерывную во времени первую группу, так что отдача мощности от генератора во время образованного первой группой группового интервала сохраняется все время без перерыва, и отсутствует второй интервал нарастания мощности.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что за первой группой следует вторая группа, внутри которой в соответствии с первой группой подают на первый, второй и, возможно, дополнительные частичные катоды импульсы мощности в пределах перекрывающихся интервалов импульсов мощности, при этом вторая группа следует за первой группой таким образом, что первый интервал импульсов мощности второй группы перекрывается с последним интервалом импульсов мощности первой группы, так что сохраняется все время без перерывов отдача мощности от генератора с начала первого интервала импульсов мощности первой группы до конца последнего интервала импульсов мощности второй группы, и отсутствует второй интервал нарастания мощности.
5. Способ по п.4, отличающийся тем, что в соответствии со сформулированными в п.4 условиями для групп 1 и 2 следуют друг за другом N групп, при этом N является целым числом >1.
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что количество N групп предпочтительно выбирают максимальным, но лишь настолько большим, что для каждого частичного катода n справедливо, что сумма соотнесенных с ним интервалов tpn импульсов мощности за вычетом перекрытия tdn для всех групп 1N не превышает максимальное время 100 мс.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что во время интервала потерь отдаваемая генератором мощность отдается на не используемую для нанесения покрытия нагрузку, при этом интервал потерь содержит по меньшей мере интервал нарастания мощности, и интервал потерь перекрывается с первым интервалом импульсов мощности первой группы, и интервал потерь вместе с группами образуют непрерывную последовательность.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что способ многократно повторяют, и что каждый раз после последнего интервала импульсов мощности генератор выключают для паузы, и выбирают паузу настолько длинной, что отдаваемая на частичные катоды усредненная во времени мощность соответствует заданному значению с учетом пауз.
9. Способ HIPIMS, который содержит способ по п.1, отличающийся тем, что заданная мощность генератора составляет по меньшей мере около 20 кВт, предпочтительно по меньшей мере около 40 кВт и особенно предпочтительно около 60 кВт.
10. Способ HIPIMS по п.9, отличающийся тем, что параметры выбирают таким образом, что отдаваемая на частичные катоды усредненная во времени мощность менее 10 кВт и предпочтительно около 5 кВт, при этом преобладающая во времени и локально на частичных катодах плотность разрядного тока предпочтительно более 0,2 А/см2.
RU2013151453/07A 2011-04-20 2012-04-04 Способ обеспечения последовательных импульсов мощности RU2596818C2 (ru)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011018363A DE102011018363A1 (de) 2011-04-20 2011-04-20 Hochleistungszerstäubungsquelle
DE102011018363.9 2011-04-20
DE102011117177A DE102011117177A1 (de) 2011-10-28 2011-10-28 Verfahren zur Bereitstellung sequenzieller Leistungspulse
DE102011117177.4 2011-10-28
PCT/EP2012/001484 WO2012143091A1 (de) 2011-04-20 2012-04-04 Verfahren zur bereistellung sequenzieller leistungspulse

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013151453A true RU2013151453A (ru) 2015-05-27
RU2596818C2 RU2596818C2 (ru) 2016-09-10

Family

ID=46052693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013151453/07A RU2596818C2 (ru) 2011-04-20 2012-04-04 Способ обеспечения последовательных импульсов мощности

Country Status (18)

Country Link
US (1) US9267200B2 (ru)
EP (1) EP2700083B1 (ru)
JP (1) JP5713331B2 (ru)
KR (1) KR101537883B1 (ru)
CN (1) CN103608893B (ru)
AR (1) AR086194A1 (ru)
BR (1) BR112013026962B1 (ru)
CA (1) CA2833796C (ru)
ES (1) ES2543053T3 (ru)
HU (1) HUE025643T2 (ru)
MX (1) MX346377B (ru)
MY (1) MY183993A (ru)
PL (1) PL2700083T3 (ru)
PT (1) PT2700083E (ru)
RU (1) RU2596818C2 (ru)
SG (1) SG194568A1 (ru)
TW (1) TWI586825B (ru)
WO (1) WO2012143091A1 (ru)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2789006B1 (de) 2011-12-05 2018-10-31 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Reaktiver sputterprozess
DE102012021346A1 (de) * 2012-11-01 2014-08-28 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Leistungsverteiler zur definierten sequenziellen Leistungsverteilung
JP6463078B2 (ja) * 2014-10-24 2019-01-30 日立金属株式会社 被覆工具の製造方法
US9812305B2 (en) * 2015-04-27 2017-11-07 Advanced Energy Industries, Inc. Rate enhanced pulsed DC sputtering system
CA3004920C (en) 2015-11-12 2024-01-23 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfaffikon Sputtering arrangement and sputtering method for optimized distribution of the energy flow
US11482404B2 (en) 2015-12-21 2022-10-25 Ionquest Corp. Electrically and magnetically enhanced ionized physical vapor deposition unbalanced sputtering source
US11359274B2 (en) * 2015-12-21 2022-06-14 IonQuestCorp. Electrically and magnetically enhanced ionized physical vapor deposition unbalanced sputtering source
US9951414B2 (en) 2015-12-21 2018-04-24 IonQuest LLC Magnetically enhanced high density plasma-chemical vapor deposition plasma source for depositing diamond and diamond-like films
US11823859B2 (en) 2016-09-09 2023-11-21 Ionquest Corp. Sputtering a layer on a substrate using a high-energy density plasma magnetron
US11542587B2 (en) 2016-04-22 2023-01-03 Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon TiCN having reduced growth defects by means of HiPIMS

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141766A (ja) * 1984-08-06 1986-02-28 Hitachi Ltd スパツタリング方法およびスパツタ−装置
JPH07116596B2 (ja) * 1989-02-15 1995-12-13 株式会社日立製作所 薄膜形成方法、及びその装置
US5064520A (en) * 1989-02-15 1991-11-12 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for forming a film
DE19651615C1 (de) * 1996-12-12 1997-07-10 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Aufbringen von Kohlenstoffschichten durch reaktives Magnetron-Sputtern
US20050103620A1 (en) * 2003-11-19 2005-05-19 Zond, Inc. Plasma source with segmented magnetron cathode
EP1580298A1 (fr) * 2004-03-22 2005-09-28 Materia Nova A.S.B.L Dépôt par pulverisation cathodique magnétron en régime impulsionnel avec préionisation
US20060260938A1 (en) * 2005-05-20 2006-11-23 Petrach Philip M Module for Coating System and Associated Technology
DE102006017382A1 (de) * 2005-11-14 2007-05-16 Itg Induktionsanlagen Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten und/oder zur Behandlung von Oberflächen
US20080197015A1 (en) * 2007-02-16 2008-08-21 Terry Bluck Multiple-magnetron sputtering source with plasma confinement
WO2009132822A2 (de) * 2008-04-28 2009-11-05 Cemecon Ag Vorrichtung und verfahren zum vorbehandeln und beschichten von körpern
DE202010001497U1 (de) * 2010-01-29 2010-04-22 Hauzer Techno-Coating B.V. Beschichtungsvorrichtung mit einer HIPIMS-Leistungsquelle
DE102011018363A1 (de) 2011-04-20 2012-10-25 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Hochleistungszerstäubungsquelle
JP7116596B2 (ja) * 2018-05-31 2022-08-10 川崎重工業株式会社 リード線挿入装置およびリード線挿入方法

Also Published As

Publication number Publication date
PT2700083E (pt) 2015-08-24
RU2596818C2 (ru) 2016-09-10
EP2700083A1 (de) 2014-02-26
US20140190819A1 (en) 2014-07-10
JP2014514453A (ja) 2014-06-19
CA2833796C (en) 2018-07-31
JP5713331B2 (ja) 2015-05-07
ES2543053T3 (es) 2015-08-14
WO2012143091A8 (de) 2013-11-28
TWI586825B (zh) 2017-06-11
CN103608893B (zh) 2016-08-31
KR101537883B1 (ko) 2015-07-17
TW201243082A (en) 2012-11-01
MY183993A (en) 2021-03-17
US9267200B2 (en) 2016-02-23
PL2700083T3 (pl) 2015-10-30
AR086194A1 (es) 2013-11-27
CA2833796A1 (en) 2012-10-26
SG194568A1 (en) 2013-12-30
WO2012143091A1 (de) 2012-10-26
HUE025643T2 (en) 2016-04-28
MX346377B (es) 2017-03-16
BR112013026962B1 (pt) 2021-02-09
KR20140019806A (ko) 2014-02-17
CN103608893A (zh) 2014-02-26
EP2700083B1 (de) 2015-04-22
MX2013012198A (es) 2014-05-28
BR112013026962A2 (pt) 2017-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2013151453A (ru) Способ обеспечения последовательных импульсов мощности
JP2014514453A5 (ru)
US9906210B2 (en) Method for providing sequential power pulses
RU2007132912A (ru) Пленкообразующее устройство, согласующий блок и способ управления импедансом
CN110071707B (zh) 协同脉冲信号发生装置
US9416441B2 (en) HiPIMS layering
WO2006036750A3 (en) Systems and methods for signal generation using limited power
US20100230275A1 (en) Method and arrangement for redundant anode sputtering having a dual anode arrangement
WO2020068107A8 (en) Systems and methods for optimizing power delivery to an electrode of a plasma chamber
JP6467075B1 (ja) パルス電源装置
CN105027255B (zh) 用于定义的连续的功率分配的功率分配器和涂层设备
JP6180431B2 (ja) 均質なhipims被覆方法
RU2013150078A (ru) Искровое испарение углерода
CN206595882U (zh) 一种脉冲变压器的顶冲消除电路
WO2021008727A3 (de) Verfahren und system zum betreiben eines systems mit energiespeicher und widerstand
CN106364345B (zh) 电动汽车动力蓄电池无损害快速充电方法
RU2422983C2 (ru) Генератор импульсов напряжения
Ozimek et al. HIPIMS Power Supply Requirements: Parameters and Breakthrough Arc Management Solution
RU2011102151A (ru) Способ управления процессами преобразования энергии в асинхронном двигателе с фазным ротором

Legal Events

Date Code Title Description
HZ9A Changing address for correspondence with an applicant