RU2013117842A - Способ локальной обработки материала с эффектом полого катода при ионном азотировании - Google Patents
Способ локальной обработки материала с эффектом полого катода при ионном азотировании Download PDFInfo
- Publication number
- RU2013117842A RU2013117842A RU2013117842/02A RU2013117842A RU2013117842A RU 2013117842 A RU2013117842 A RU 2013117842A RU 2013117842/02 A RU2013117842/02 A RU 2013117842/02A RU 2013117842 A RU2013117842 A RU 2013117842A RU 2013117842 A RU2013117842 A RU 2013117842A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- inhomogeneous
- hollow cathode
- nitrided
- nitriding
- glow discharge
- Prior art date
Links
Abstract
Способ создания неоднородной структуры материала при азотировании в плазме тлеющего разряда, состоящей из смеси азотсодержащего и инертного газов, включающий катодное распыление, вакуумный нагрев и азотирование, по которому создают в материале участки с разнородной структурой, при этом переходный участок между участками с разнородной структурой имеет микронеоднородную структуру с постепенным изменением от одного вида в другой, отличающийся тем, что создают макронеоднородную структуру материала посредством перфорированного экрана, плотно прилегающего к обрабатываемой детали, с возможностью получения на поверхности чередующихся участков, азотированных в тлеющем разряде с эффектом полого катода, с неазотированными.
Claims (1)
- Способ создания неоднородной структуры материала при азотировании в плазме тлеющего разряда, состоящей из смеси азотсодержащего и инертного газов, включающий катодное распыление, вакуумный нагрев и азотирование, по которому создают в материале участки с разнородной структурой, при этом переходный участок между участками с разнородной структурой имеет микронеоднородную структуру с постепенным изменением от одного вида в другой, отличающийся тем, что создают макронеоднородную структуру материала посредством перфорированного экрана, плотно прилегающего к обрабатываемой детали, с возможностью получения на поверхности чередующихся участков, азотированных в тлеющем разряде с эффектом полого катода, с неазотированными.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2013117842/02A RU2534906C1 (ru) | 2013-04-17 | 2013-04-17 | Способ локальной обработки материала с эффектом полого катода при ионном азотировании |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2013117842/02A RU2534906C1 (ru) | 2013-04-17 | 2013-04-17 | Способ локальной обработки материала с эффектом полого катода при ионном азотировании |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2013117842A true RU2013117842A (ru) | 2014-10-27 |
| RU2534906C1 RU2534906C1 (ru) | 2014-12-10 |
Family
ID=53285707
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2013117842/02A RU2534906C1 (ru) | 2013-04-17 | 2013-04-17 | Способ локальной обработки материала с эффектом полого катода при ионном азотировании |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2534906C1 (ru) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2611248C2 (ru) * | 2015-06-25 | 2017-02-21 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" | Способ азотирования деталей в тлеющем разряде на различную глубину азотированного слоя |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19526387C2 (de) * | 1994-07-19 | 1998-12-10 | Sumitomo Metal Mining Co | Doppelt beschichteter Stahlverbundgegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung |
| RU2101383C1 (ru) * | 1995-02-21 | 1998-01-10 | Уфимский государственный авиационный технический университет | Способ катодного распыления |
| US6258287B1 (en) * | 1996-08-28 | 2001-07-10 | Georgia Tech Research Corporation | Method and apparatus for low energy electron enhanced etching of substrates in an AC or DC plasma environment |
| RU2409699C1 (ru) * | 2009-06-29 | 2011-01-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" | Способ создания неоднородной структуры материала при азотировании в тлеющем разряде |
| RU2418096C2 (ru) * | 2009-06-29 | 2011-05-10 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" | Способ создания макронеоднородной структуры материала при азотировании |
-
2013
- 2013-04-17 RU RU2013117842/02A patent/RU2534906C1/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2534906C1 (ru) | 2014-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EA201791234A1 (ru) | Плазменный источник с полым катодом | |
| MX2015014659A (es) | Proceso y aparato para endurecer termoquimicamente piezas a trabajar. | |
| MX2019012614A (es) | Sistema de generacion de gas reactivo y metodo de tratamiento mediante el uso de gas reactivo. | |
| WO2012073142A3 (de) | Verfahren und vorrichtung zur ionenimplantation | |
| SG10201901906YA (en) | Atmospheric epitaxial deposition chamber | |
| MX2015008261A (es) | Dispositivo de bombardeo de iones y metodo para usar el mismo para limpiar una superficie de sustrato. | |
| WO2016072850A3 (en) | Atomic layer deposition apparatus and method for processing substrates using an apparatus | |
| EA201491038A1 (ru) | Нетепловая плазменная ячейка | |
| EP4234755A4 (en) | SEMICONDUCTOR PROCESSING EQUIPMENT AND ASSOCIATED PROCESSING CHAMBER | |
| RU2013115736A (ru) | Способ локальной обработки материала при азотировании в тлеющем разряде | |
| EP3918632A4 (en) | MULTI-LOCATION GAS INJECTION TO IMPROVE UNIFORMITY IN FAST ALTERNATIVE PROCESSES | |
| RU2008101310A (ru) | Способ комбинированной вакуумной ионно-плазменной обработки изделий | |
| RU2013117842A (ru) | Способ локальной обработки материала с эффектом полого катода при ионном азотировании | |
| RU2013116338A (ru) | Способ локальной обработки материала с эффектом полого катода при инном азотировании | |
| MX352535B (es) | Aparato para el tratamiento por plasma de superficies y metodo para el tratamiento de superficies con plasma. | |
| RU2009124870A (ru) | Способ вакуумного ионно-плазменного азотирования изделий из стали | |
| RU2008151794A (ru) | Способ модификации поверхности материала | |
| RU2017100450A (ru) | Способ низкотемпературного ионного азотирования стальных деталей | |
| SG10201907760VA (en) | A process for etching, and chamber cleaning and a gas therefor | |
| EA201791385A1 (ru) | Способ изготовления пластинчатого материала для электрохимического процесса | |
| MX361559B (es) | Metodo para tratar limo de anodo de plomo. | |
| RU2015123448A (ru) | Способ азотирования в плазме повышенной плотности | |
| PL407170A1 (pl) | Sposób modyfikacji powierzchni adsorbentów węglowych przy zastosowaniu oddziaływania zimnej plazmy niskociśnieniowej | |
| RU2012131801A (ru) | Способ обработки поверхности изделий дуговым разрядом в вакууме | |
| GB201906897D0 (en) | High density plasma source |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20190418 |