RU2012148715A - Мишень для искрового испарения с пространственным ограничением распространения искры - Google Patents
Мишень для искрового испарения с пространственным ограничением распространения искры Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012148715A RU2012148715A RU2012148715/07A RU2012148715A RU2012148715A RU 2012148715 A RU2012148715 A RU 2012148715A RU 2012148715/07 A RU2012148715/07 A RU 2012148715/07A RU 2012148715 A RU2012148715 A RU 2012148715A RU 2012148715 A RU2012148715 A RU 2012148715A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- target
- target according
- recess
- spark
- lying
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32614—Consumable cathodes for arc discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3444—Associated circuits
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
1. Мишень для электродугового источника (ARC) с первым телом (3) из подлежащего испарению материала, которое, по существу, в одной плоскости содержит предусмотренную для испарения поверхность, при этом поверхность в этой плоскости окружает центральную зону, отличающаяся тем, что в центральной зоне предусмотрено предпочтительно выполненное в виде пластины второе тело (7), электрически изолированное от первого тела (3) таким образом, что второе тело (7), по существу, не может предоставлять электроны для сохранения искры.2. Мишень по п. 1, отличающаяся тем, что первое тело (3) содержит в центральной зоне углубление (5), в котором расположено второе тело (7) и закреплено с помощью изоляционного штифта (9), при этом расстояние между первым телом (3) и вторым телом (7) принимает одно или несколько значений от 1,5 мм до 3,5 мм включительно.3. Мишень по п. 2, отличающаяся тем, что тело (7) по меньшей мере на поверхности, которая выступает из углубления (5), имеет материал, который соответствует материалу тела (3).4. Мишень по п. 2, отличающаяся тем, что второе тело (7) содержит по меньшей мере одно углубление (13) так, что лежащий на оси центр тяжести второго тела (7) лежит на высоте боковой поверхности отверстия.5. Мишень по п. 3, отличающаяся тем, что второе тело (7) содержит по меньшей мере одно углубление (13) так, что лежащий на оси центр тяжести второго тела (7) лежит на высоте боковой поверхности отверстия.6. Мишень по любому из пп. 1-5, отличающаяся тем, что второе тело (7) выполнено из магнитомягкого материала.
Claims (6)
1. Мишень для электродугового источника (ARC) с первым телом (3) из подлежащего испарению материала, которое, по существу, в одной плоскости содержит предусмотренную для испарения поверхность, при этом поверхность в этой плоскости окружает центральную зону, отличающаяся тем, что в центральной зоне предусмотрено предпочтительно выполненное в виде пластины второе тело (7), электрически изолированное от первого тела (3) таким образом, что второе тело (7), по существу, не может предоставлять электроны для сохранения искры.
2. Мишень по п. 1, отличающаяся тем, что первое тело (3) содержит в центральной зоне углубление (5), в котором расположено второе тело (7) и закреплено с помощью изоляционного штифта (9), при этом расстояние между первым телом (3) и вторым телом (7) принимает одно или несколько значений от 1,5 мм до 3,5 мм включительно.
3. Мишень по п. 2, отличающаяся тем, что тело (7) по меньшей мере на поверхности, которая выступает из углубления (5), имеет материал, который соответствует материалу тела (3).
4. Мишень по п. 2, отличающаяся тем, что второе тело (7) содержит по меньшей мере одно углубление (13) так, что лежащий на оси центр тяжести второго тела (7) лежит на высоте боковой поверхности отверстия.
5. Мишень по п. 3, отличающаяся тем, что второе тело (7) содержит по меньшей мере одно углубление (13) так, что лежащий на оси центр тяжести второго тела (7) лежит на высоте боковой поверхности отверстия.
6. Мишень по любому из пп. 1-5, отличающаяся тем, что второе тело (7) выполнено из магнитомягкого материала.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US32492910P | 2010-04-16 | 2010-04-16 | |
| US61/324,929 | 2010-04-16 | ||
| DE102010020737.3 | 2010-05-17 | ||
| DE102010020737A DE102010020737A1 (de) | 2010-05-17 | 2010-05-17 | Target für Funkenverdampfung mit räumlicher Begrenzung der Ausbreitung des Funkens |
| PCT/EP2011/000057 WO2011128004A1 (de) | 2010-04-16 | 2011-01-10 | Target für funkenverdampfung mit räumlicher begrenzung der ausbreitung des funkens |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012148715A true RU2012148715A (ru) | 2014-05-27 |
| RU2562909C2 RU2562909C2 (ru) | 2015-09-10 |
Family
ID=43735926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012148715/07A RU2562909C2 (ru) | 2010-04-16 | 2011-01-10 | Мишень для искрового испарения с пространственным ограничением распространения искры |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9657389B2 (ru) |
| EP (1) | EP2559050B1 (ru) |
| JP (1) | JP5757991B2 (ru) |
| KR (1) | KR101784540B1 (ru) |
| CN (1) | CN102822938B (ru) |
| BR (1) | BR112012026552B1 (ru) |
| CA (1) | CA2796394C (ru) |
| DE (1) | DE102010020737A1 (ru) |
| MX (1) | MX338452B (ru) |
| RU (1) | RU2562909C2 (ru) |
| TW (1) | TWI544101B (ru) |
| WO (1) | WO2011128004A1 (ru) |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62218562A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-25 | Fujitsu Ltd | スパツタリング装置 |
| US5298136A (en) | 1987-08-18 | 1994-03-29 | Regents Of The University Of Minnesota | Steered arc coating with thick targets |
| DE4401986A1 (de) | 1994-01-25 | 1995-07-27 | Dresden Vakuumtech Gmbh | Verfahren zum Betreiben eines Vakuumlichtbogenverdampfers und Stromversorgungseinrichtung dafür |
| CH689558A5 (de) * | 1995-07-11 | 1999-06-15 | Erich Bergmann | Bedampfungsanlage und Verdampfereinheit. |
| US6338781B1 (en) | 1996-12-21 | 2002-01-15 | Singulus Technologies Ag | Magnetron sputtering cathode with magnet disposed between two yoke plates |
| WO2000016373A1 (de) | 1998-09-14 | 2000-03-23 | Unaxis Trading Ag | Targetanordnung für eine arc-verdampfungs-kammer |
| CA2268659C (en) * | 1999-04-12 | 2008-12-30 | Vladimir I. Gorokhovsky | Rectangular cathodic arc source and method of steering an arc spot |
| US6783638B2 (en) * | 2001-09-07 | 2004-08-31 | Sputtered Films, Inc. | Flat magnetron |
| ATE367232T1 (de) * | 2002-03-23 | 2007-08-15 | Metal Nanopowders Ltd | Verfahren zur erzeugung von pulver |
| JP2005126737A (ja) * | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Riken Corp | アーク式蒸発源 |
| US20060049041A1 (en) * | 2004-08-20 | 2006-03-09 | Jds Uniphase Corporation | Anode for sputter coating |
| EP2466614A3 (de) * | 2006-05-16 | 2013-05-22 | Oerlikon Trading AG, Trübbach | Arcquelle und Magnetanordnung |
| US20100018857A1 (en) * | 2008-07-23 | 2010-01-28 | Seagate Technology Llc | Sputter cathode apparatus allowing thick magnetic targets |
-
2010
- 2010-05-17 DE DE102010020737A patent/DE102010020737A1/de not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-01-10 WO PCT/EP2011/000057 patent/WO2011128004A1/de active Application Filing
- 2011-01-10 CN CN201180019323.XA patent/CN102822938B/zh active Active
- 2011-01-10 JP JP2013504138A patent/JP5757991B2/ja active Active
- 2011-01-10 EP EP11701194.0A patent/EP2559050B1/de active Active
- 2011-01-10 BR BR112012026552-0A patent/BR112012026552B1/pt active IP Right Grant
- 2011-01-10 CA CA2796394A patent/CA2796394C/en active Active
- 2011-01-10 KR KR1020127026973A patent/KR101784540B1/ko active IP Right Grant
- 2011-01-10 US US13/641,499 patent/US9657389B2/en active Active
- 2011-01-10 MX MX2012012055A patent/MX338452B/es active IP Right Grant
- 2011-01-10 RU RU2012148715/07A patent/RU2562909C2/ru active
- 2011-04-14 TW TW100112896A patent/TWI544101B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2562909C2 (ru) | 2015-09-10 |
| TW201207141A (en) | 2012-02-16 |
| JP2013525600A (ja) | 2013-06-20 |
| TWI544101B (zh) | 2016-08-01 |
| MX2012012055A (es) | 2012-12-17 |
| CN102822938A (zh) | 2012-12-12 |
| EP2559050B1 (de) | 2017-06-07 |
| JP5757991B2 (ja) | 2015-08-05 |
| EP2559050A1 (de) | 2013-02-20 |
| US20130126348A1 (en) | 2013-05-23 |
| BR112012026552B1 (pt) | 2022-01-11 |
| KR20130064045A (ko) | 2013-06-17 |
| CA2796394C (en) | 2019-07-09 |
| BR112012026552A2 (pt) | 2016-07-12 |
| DE102010020737A1 (de) | 2011-11-17 |
| US9657389B2 (en) | 2017-05-23 |
| MX338452B (es) | 2016-04-18 |
| CN102822938B (zh) | 2016-05-04 |
| CA2796394A1 (en) | 2011-10-20 |
| KR101784540B1 (ko) | 2017-10-11 |
| WO2011128004A1 (de) | 2011-10-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9997937B2 (en) | Electronic cigarette charging apparatus | |
| TW200731314A (en) | X-ray tube | |
| CA2585176A1 (en) | Ion source with substantially planar design | |
| DE602006013707D1 (de) | Teilchenoptische komponente | |
| WO2014160385A3 (en) | Energy storage devices based on hybrid carbon electrode systems | |
| TW200733158A (en) | Laminated ceramic capacitor | |
| EP2362410A3 (en) | Plasma igniter for an inductively coupled plasma ion source | |
| EP2579293A4 (en) | ION MOBILITY TUBE | |
| EA201792153A1 (ru) | Антенная панель | |
| CN105561590B (zh) | 静电闪灯手摇铃 | |
| WO2012079553A3 (de) | Stromversorgungssystem für beleuchtung von möbeln | |
| WO2018062836A3 (ko) | 천연 흑연 및 인조 흑연을 포함하는 다층 음극 및 이를 포함하는 리튬 이차전지 | |
| JP2019507467A5 (ja) | 間接加熱陰極イオン源および間接加熱陰極イオン源と共に使用するための装置 | |
| EP2755245A3 (en) | Light emitting device | |
| RU2012148715A (ru) | Мишень для искрового испарения с пространственным ограничением распространения искры | |
| US8436521B2 (en) | Lamp device with magnetic socket | |
| TW200943375A (en) | An excimer lamp and a lighting unit equipped therewith | |
| JP3208470U (ja) | 直管形ｌｅｄランプ | |
| TW200746222A (en) | Discharge lamp | |
| JP2016517143A5 (ru) | ||
| BR112015016488A2 (pt) | antena de placa | |
| JP2014190756A (ja) | グロー放電質量分析装置及びそれを用いたグロー放電質量分析法 | |
| JP2013525611A5 (ru) | ||
| RU2011124107A (ru) | Высоковольтный изолятор | |
| MX2021005037A (es) | Cubierta de crisol para recubrimiento con una fuente de haz de electrones. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HZ9A | Changing address for correspondence with an applicant |