RU2012120083A - Фоточувствительный слой и сборка слоев - Google Patents
Фоточувствительный слой и сборка слоев Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012120083A RU2012120083A RU2012120083/05A RU2012120083A RU2012120083A RU 2012120083 A RU2012120083 A RU 2012120083A RU 2012120083/05 A RU2012120083/05 A RU 2012120083/05A RU 2012120083 A RU2012120083 A RU 2012120083A RU 2012120083 A RU2012120083 A RU 2012120083A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- photosensitive
- fluid
- domain
- layer
- photosensitive layer
- Prior art date
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract 30
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract 15
- 239000012634 fragment Substances 0.000 claims abstract 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 6
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims abstract 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 4
- 238000007699 photoisomerization reaction Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 230000002186 photoactivation Effects 0.000 claims 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/10—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings
- C09K19/20—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers
- C09K19/2007—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers the chain containing -COO- or -OCO- groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/10—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings
- C09K19/24—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing nitrogen-to-nitrogen bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
- C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
- C09K19/58—Dopants or charge transfer agents
- C09K19/586—Optically active dopants; chiral dopants
- C09K19/588—Heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/326—Lamp control systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/40—Liquid flow rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
- C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2219/00—Aspects relating to the form of the liquid crystal [LC] material, or by the technical area in which LC material are used
- C09K2219/03—Aspects relating to the form of the liquid crystal [LC] material, or by the technical area in which LC material are used in the form of films, e.g. films after polymerisation of LC precursor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
1. Устройство (10) очистки текучей среды, содержащее:камеру (11) УФ-излучения, имеющую вход (12) текучей среды и выход (13) текучей среды, иустройство (14) управления течением, скомпонованное в упомянутом входе (12) текучей среды или выходе (13) текучей среды, в котором упомянутое устройство (14) управления течением включает в себя фоточувствительный слой (20), который содержит первый домен (21), содержащий первый материал, содержащий молекулы, имеющие фоточувствительный фрагмент, в котором упомянутый первый домен (21) упомянутого фоточувствительного слоя (20) способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент подвергается фотоактивирующему освещению.2. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый первый материал содержит первую молекулярно-упорядоченную фазу.3. Устройство очистки текучей среды по п.1 или 2, в котором упомянутое геометрическое изменение обеспечивает топографическое изменение упомянутого фоточувствительного слоя (20).4. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый первый домен (21) способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент не находится под действием фотоактивирующего освещения.5. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутая первая молекулярно-упорядоченная фаза представляет собой нематическую фазу.6. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый фоточувствительный фрагмент представляет собой фрагмент, способный к фотоизомеризации.7. Устройство очистки текучей среды по п.1, дополнительно содержащее второй домен (22), содержащий второй
Claims (12)
1. Устройство (10) очистки текучей среды, содержащее:
камеру (11) УФ-излучения, имеющую вход (12) текучей среды и выход (13) текучей среды, и
устройство (14) управления течением, скомпонованное в упомянутом входе (12) текучей среды или выходе (13) текучей среды, в котором упомянутое устройство (14) управления течением включает в себя фоточувствительный слой (20), который содержит первый домен (21), содержащий первый материал, содержащий молекулы, имеющие фоточувствительный фрагмент, в котором упомянутый первый домен (21) упомянутого фоточувствительного слоя (20) способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент подвергается фотоактивирующему освещению.
2. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый первый материал содержит первую молекулярно-упорядоченную фазу.
3. Устройство очистки текучей среды по п.1 или 2, в котором упомянутое геометрическое изменение обеспечивает топографическое изменение упомянутого фоточувствительного слоя (20).
4. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый первый домен (21) способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент не находится под действием фотоактивирующего освещения.
5. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутая первая молекулярно-упорядоченная фаза представляет собой нематическую фазу.
6. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый фоточувствительный фрагмент представляет собой фрагмент, способный к фотоизомеризации.
7. Устройство очистки текучей среды по п.1, дополнительно содержащее второй домен (22), содержащий второй материал, который способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда подвергается фотоактивирующему освещению.
8. Устройство очистки текучей среды по п.7, в котором упомянутый второй домен (22) содержит второй материал, который имеет вторую молекулярно-упорядоченную фазу, отличную от упомянутой первой молекулярно-упорядоченной фазы, содержащий молекулы, имеющие фоточувствительный фрагмент, в котором упомянутый второй домен (22) способен претерпевать геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент упомянутого второго домена (22) подвергается фотоактивирующему освещению, в котором геометрическое изменение отличается от геометрического изменения упомянутого первого домена (21).
9. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором устройство (14) управления течением включает в себя фоточувствительную сборку (40) слоев, содержащую фоточувствительный слой и слой, пропускающий текучую среду, в котором фоточувствительный слой скомпонован в контакте с упомянутым пропускающим слоем, в котором под фотоактивирующим освещением упомянутый фоточувствительный слой способен к топографическому изменению, допускающему открытие по меньшей мере одного пути текучей среды, проходящего в обход упомянутого фоточувствительного слоя и упомянутого пропускающего слоя, допускающего течение, или увеличенное течение, текучей среды через упомянутую фоточувствительную сборку слоев.
10. Фоточувствительная сборка (40) слоев, содержащая
- слой (42), пропускающий текучую среду, и
- фоточувствительный слой (41) по любому из пп.1-9, скомпонованный в контакте с упомянутым пропускающим слоем (42),
в которой под фотоактивирующим освещением упомянутый фоточувствительный слой (41) способен к топографическому изменению, допускающему открытие по меньшей мере одного пути (45) текучей среды, проходящего в обход упомянутого фоточувствительного слоя (41) и упомянутого пропускающего слоя (42), допускающего течение, или увеличенное течение, текучей среды через упомянутую фоточувствительную сборку (40) слоев.
11. Способ для получения фоточувствительного слоя (41) по любому из пп.1-9, содержащий этапы, на которых:
- обеспечивают подложку (51),
- наносят композицию на упомянутую подложку, формируя слой (52) на подложке, при этом упомянутая композиция содержит мономеры, являющиеся и чувствительными к УФ-излучению, и способными к формированию молекулярно-упорядоченной фазы, и/или мономеры, являющиеся чувствительными к УФ-излучению, и мономеры, способные к формированию молекулярно-упорядоченной фазы, и фотоинициатор,
- избирательно полимеризуют первый домен (21) упомянутого слоя посредством фотополимеризации;
- перекомпоновывают упомянутые мономеры во втором домене (22) фоточувствительного слоя посредством нагрева, приложения электрического поля или внешнего магнитного поля; и
- допускают упомянутый второй домен (22) к полимеризации посредством фотополимеризации.
12. Способ для получения фоточувствительного слоя по любому из пп.1-10, содержащий этапы, на которых:
- обеспечивают прерывистый слой (61) на подложке (62),
- наносят композицию (63), содержащую мономер, являющийся фоточувствительным, и необязательно фотоинициатор, на по меньшей мере одну область упомянутой подложки, не покрытую упомянутым прерывистым слоем, формируя таким образом, упомянутый первый домен (21), и
- полимеризуют/допускают мономеры первого домена (21) к полимеризации, необязательно посредством фотополимеризации.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP09173308.9 | 2009-10-16 | ||
| EP09173308 | 2009-10-16 | ||
| PCT/IB2010/054519 WO2011045712A1 (en) | 2009-10-16 | 2010-10-06 | Photo-responsive layer and layer assembly |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012120083A true RU2012120083A (ru) | 2013-11-27 |
Family
ID=43430676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012120083/05A RU2012120083A (ru) | 2009-10-16 | 2010-10-06 | Фоточувствительный слой и сборка слоев |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8921806B2 (ru) |
| EP (1) | EP2488455A1 (ru) |
| CN (1) | CN102574704A (ru) |
| BR (1) | BR112012008602A2 (ru) |
| RU (1) | RU2012120083A (ru) |
| WO (1) | WO2011045712A1 (ru) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105979983A (zh) | 2014-02-11 | 2016-09-28 | 史密斯医疗Asd公司 | 泵启动算法及相关系统和方法 |
| US11433154B2 (en) | 2020-05-18 | 2022-09-06 | Wangs Alliance Corporation | Germicidal lighting |
| US11027038B1 (en) | 2020-05-22 | 2021-06-08 | Delta T, Llc | Fan for improving air quality |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3413465A (en) | 1963-05-10 | 1968-11-26 | James William Harrison | Ultraviolet sterilization apparatus for drinking water having automatic shutoff means |
| NO147551C (no) | 1980-11-10 | 1983-05-04 | Int Farvefabrik As | Apparat til desinfeksjon av vaesker. |
| US20030166840A1 (en) * | 1994-01-24 | 2003-09-04 | Urry Dan W. | Photoresponsive polymers |
| CN100437055C (zh) * | 2004-07-20 | 2008-11-26 | 中国科学院物理研究所 | 利用氧化物异质结材料制作的快响应宽频段激光探测器 |
| CN100412518C (zh) * | 2004-07-30 | 2008-08-20 | 中国科学院物理研究所 | 利用氧化物多层膜材料制作的激光探测器 |
| CN2769256Y (zh) * | 2004-08-18 | 2006-04-05 | 张洪生 | 立式、双过流辐射腔体串联结构紫外线水消毒器 |
| CN100573060C (zh) * | 2005-05-24 | 2009-12-23 | 中国科学院物理研究所 | 一种快响应宽频段光探测器 |
| JP5026706B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | 光駆動型アクチュエータ及びその製造方法 |
| CN101261157B (zh) * | 2008-04-21 | 2010-07-21 | 中国石油大学(北京) | 一种快速响应红外光探测器及其制备方法 |
-
2010
- 2010-10-06 WO PCT/IB2010/054519 patent/WO2011045712A1/en active Application Filing
- 2010-10-06 CN CN2010800465070A patent/CN102574704A/zh active Pending
- 2010-10-06 EP EP10771528A patent/EP2488455A1/en not_active Withdrawn
- 2010-10-06 US US13/497,568 patent/US8921806B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-06 BR BR112012008602A patent/BR112012008602A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-10-06 RU RU2012120083/05A patent/RU2012120083A/ru not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102574704A (zh) | 2012-07-11 |
| EP2488455A1 (en) | 2012-08-22 |
| WO2011045712A1 (en) | 2011-04-21 |
| BR112012008602A2 (pt) | 2019-09-24 |
| US8921806B2 (en) | 2014-12-30 |
| US20120223248A1 (en) | 2012-09-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4553769B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
| TWI617585B (zh) | 液晶配向膜之製造方法、液晶配向膜、液晶顯示元件、聚合物及液晶配向劑 | |
| JP6279471B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| JP2023002797A (ja) | 液晶ポリマー材料上で配向を生じさせる方法 | |
| TWI678391B (zh) | 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件 | |
| TWI626266B (zh) | 具有橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜之基板的製造方法 | |
| JP2007304215A (ja) | 光配向材および光学素子、液晶配向膜の製造方法 | |
| RU2012120083A (ru) | Фоточувствительный слой и сборка слоев | |
| RU2011133671A (ru) | Жидкокристаллическое дисплейное устройство | |
| TWI456316B (zh) | 藍相液晶顯示裝置及其製作方法 | |
| JP2016121339A (ja) | 組成物、及び光学フィルム、並びに組成物、及び光学フィルムの製造方法 | |
| US10996532B2 (en) | Liquid crystal diffraction grating, liquid crystal composition, method for producing liquid crystal diffraction grating, and wire grid polarizer | |
| Gomy et al. | Synthesis and photoresponsive properties of a molecularly imprinted polymer | |
| TW201535027A (zh) | 液晶配向膜之製造方法及使用其之液晶顯示元件 | |
| JP2014206715A (ja) | 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法 | |
| TW201113477A (en) | Light irradiation device | |
| KR101809987B1 (ko) | 액정 표시 소자 및 그의 제조 방법 | |
| JP2006202628A (ja) | 偏光光照射装置、偏光光照射方法、光配向膜、及び位相差フィルム | |
| WO2015010429A1 (zh) | 一种液晶显示面板的制备方法 | |
| Senyurt et al. | Matrix physical structure effect on the electro-optic characteristics of thiol–ene based H-PDLC films | |
| JP2011178997A (ja) | 液晶混合物、液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JP5331306B2 (ja) | 多重潜像素子およびその製造方法 | |
| Kakiuchida et al. | Thermoresponsive reflective scattering of meso-scale phase separation structures of uniaxially orientation-ordered liquid crystals and reactive mesogens | |
| JP2008019744A (ja) | 光駆動型アクチュエータ、受光素子、光ゲート素子、光反射素子、および光駆動型アクチュエータの使用方法 | |
| Carroll et al. | Optical control of alignment and patterning in an azobenzene liquid crystal photoresist |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20150731 |