RU2012118570A - Растворитель для вымывания полимера и его применение для обработки флексографической печатной формы - Google Patents

Растворитель для вымывания полимера и его применение для обработки флексографической печатной формы Download PDF

Info

Publication number
RU2012118570A
RU2012118570A RU2012118570/05A RU2012118570A RU2012118570A RU 2012118570 A RU2012118570 A RU 2012118570A RU 2012118570/05 A RU2012118570/05 A RU 2012118570/05A RU 2012118570 A RU2012118570 A RU 2012118570A RU 2012118570 A RU2012118570 A RU 2012118570A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
hydrocarbon component
solvent
ether
alcohol
group
Prior art date
Application number
RU2012118570/05A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2523810C2 (ru
Inventor
Фиген АИДОГАН
Original Assignee
Флексоклин Энджиниринг Б.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Флексоклин Энджиниринг Б.В. filed Critical Флексоклин Энджиниринг Б.В.
Publication of RU2012118570A publication Critical patent/RU2012118570A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2523810C2 publication Critical patent/RU2523810C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325Non-aqueous compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Printing Methods (AREA)

Abstract

1. Растворитель для вымывания полимера для обработки флексографической печатной формы, включающий:- 10-25 мас.% сложноэфирного углеводородного компонента- 50-75 мас.% простоэфирного углеводородного компонента, и- 10-25 мас.% спиртового углеводородного компонента.2. Растворитель для вымывания полимера по п.1, в котором сложноэфирный углеводородный компонент включает соединения, выбранные из группы сложных эфиров C1-C5 алкила, бензила или производного бензила и C1-C5 алканоатов, а также смесей таких сложных эфиров.3. Растворитель для вымывания полимера по п.1, в котором сложноэфирный углеводородный компонент включает ацетат в качестве алканоата и предпочтительно бензил или производное бензила.4. Растворитель для вымывания полимера по п.2, в котором сложноэфирный углеводородный компонент включает ацетат в качестве алканоата и предпочтительно бензил или производное бензила.5. Растворитель для вымывания полимера по п.1, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.6. Растворитель для вымывания полимера по п.2, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.7. Растворитель для вымывания полимера по п.3, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.8. Растворитель для вымывания полимера по п.4, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.9. Растворитель для вымывания полимера по любому из пп.1-8, в котором просто-эфирный углеводородный �

Claims (19)

1. Растворитель для вымывания полимера для обработки флексографической печатной формы, включающий:
- 10-25 мас.% сложноэфирного углеводородного компонента
- 50-75 мас.% простоэфирного углеводородного компонента, и
- 10-25 мас.% спиртового углеводородного компонента.
2. Растворитель для вымывания полимера по п.1, в котором сложноэфирный углеводородный компонент включает соединения, выбранные из группы сложных эфиров C1-C5 алкила, бензила или производного бензила и C1-C5 алканоатов, а также смесей таких сложных эфиров.
3. Растворитель для вымывания полимера по п.1, в котором сложноэфирный углеводородный компонент включает ацетат в качестве алканоата и предпочтительно бензил или производное бензила.
4. Растворитель для вымывания полимера по п.2, в котором сложноэфирный углеводородный компонент включает ацетат в качестве алканоата и предпочтительно бензил или производное бензила.
5. Растворитель для вымывания полимера по п.1, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.
6. Растворитель для вымывания полимера по п.2, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.
7. Растворитель для вымывания полимера по п.3, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.
8. Растворитель для вымывания полимера по п.4, в котором простоэфирный углеводородный компонент включает ди-эфир C1-C8 алкана (производное диола) и двух C1-C3 алкокси групп.
9. Растворитель для вымывания полимера по любому из пп.1-8, в котором просто-эфирный углеводородный компонент включает простой диэфир алкана с внутренней эфирной группой и предпочтительно с двумя метокси группами.
10. Растворитель для вымывания полимера по любому из пп.1-8, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, выбранное из группы C3-C6 спиртов или их смеси, которое содержит первичную спиртовую группу, и в котором предпочтительно углеводородная цепь является прямой.
11. Растворитель для вымывания полимера по п.9, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, выбранное из группы C3-C6 спиртов или их смеси, которое содержит первичную спиртовую группу, и в котором предпочтительно углеводородная цепь является прямой.
12. Растворитель для вымывания полимера по любому из пп.1-8 или 11, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, выбранное из группы n-бутанол и n-пентанол или их комбинации.
13. Растворитель для вымывания полимера по п.9, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, выбранное из группы n-бутанол и n-пентанол или их комбинации.
14. Растворитель для вымывания полимера по п.10, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, выбранное из группы n-бутанол и n-пентанол или их комбинации.
15. Растворитель для вымывания полимера по любому из пп.1-8, 11, 13 или 14, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, в котором спиртовая часть спиртового углеводородного компонента является вторичной спиртовой группой, возможно содержащее, кроме того, группу простого эфира.
16. Растворитель для вымывания полимера по п.9, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, в котором спиртовая часть спиртового углеводородного компонента является вторичной спиртовой группой, возможно содержащее, кроме того, группу простого эфира.
17. Растворитель для вымывания полимера по п.10, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, в котором спиртовая часть спиртового углеводородного компонента является вторичной спиртовой группой, возможно содержащее, кроме того, группу простого эфира.
18. Растворитель для вымывания полимера по п.12, в котором спиртовой углеводородный компонент включает соединение, в котором спиртовая часть спиртового углеводородного компонента является вторичной спиртовой группой, возможно содержащее, кроме того, группу простого эфира.
19. Применение растворителя для вымывания полимера по любому из пп.1-18 для обработки флексографической печатной формы на стадии промывки.
RU2012118570/05A 2009-10-09 2010-06-08 Растворитель для вымывания полимера и его применение для обработки флексографической печатной формы RU2523810C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP09172718.0 2009-10-09
EP09172718A EP2309331B1 (en) 2009-10-09 2009-10-09 A polymer washout solvent and the use thereof for developing a flexographic printing plate
PCT/EP2010/058008 WO2011042225A1 (en) 2009-10-09 2010-06-08 A polymer washout solvent, and the use thereof for developing a flexographic printing plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2012118570A true RU2012118570A (ru) 2013-11-20
RU2523810C2 RU2523810C2 (ru) 2014-07-27

Family

ID=41508761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012118570/05A RU2523810C2 (ru) 2009-10-09 2010-06-08 Растворитель для вымывания полимера и его применение для обработки флексографической печатной формы

Country Status (16)

Country Link
US (1) US8921035B2 (ru)
EP (1) EP2309331B1 (ru)
JP (1) JP5739893B2 (ru)
CN (1) CN102472983B (ru)
AT (1) ATE543124T1 (ru)
CA (1) CA2763951C (ru)
CY (1) CY1112700T1 (ru)
DK (1) DK2309331T3 (ru)
HR (1) HRP20120094T1 (ru)
PL (1) PL2309331T3 (ru)
PT (1) PT2309331E (ru)
RS (1) RS52204B (ru)
RU (1) RU2523810C2 (ru)
SI (1) SI2309331T1 (ru)
WO (1) WO2011042225A1 (ru)
ZA (1) ZA201205692B (ru)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8632961B2 (en) * 2010-01-28 2014-01-21 Eastman Kodak Company Flexographic processing solution and use
US8349185B2 (en) * 2010-10-20 2013-01-08 E I Du Pont De Nemours And Company Method for rebalancing a multicomponent solvent solution
EP3008519B1 (de) * 2013-06-14 2017-08-09 Flint Group Germany GmbH Digital bebilderbares flexodruckelement mit polarer, ultradünner barriereschicht
WO2019224032A1 (en) * 2018-05-25 2019-11-28 Basf Se Use of compositions comprising a solvent mixture for avoiding pattern collapse when treating patterned materials with line-space dimensions of 50 nm or below
CN109706007A (zh) * 2018-12-18 2019-05-03 珠海顺泽科技股份有限公司 一种印刷网板清洗液组合物

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57108851A (en) * 1980-12-25 1982-07-07 Nec Corp Formation of resist image
JPH0625865B2 (ja) * 1985-09-27 1994-04-06 三菱製紙株式会社 カラー画像記録材料
DE3807929A1 (de) * 1988-03-10 1989-09-28 Basf Ag Verfahren zur herstellung von reliefformen
DE68926242T2 (de) * 1988-08-23 1996-09-19 Du Pont Verfahren zur herstellung von flexographischen druckreliefs
US5354645A (en) * 1988-08-23 1994-10-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the production of flexographic printing reliefs
DE4020373A1 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten
DE4020372A1 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten
JPH05249695A (ja) * 1991-11-15 1993-09-28 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性エラストマー組成物の現像剤及びそれを用いた製版方法
JP3233708B2 (ja) * 1992-12-10 2001-11-26 日本電子精機株式会社 感光性フレキソ版溶出剤及び印刷用洗浄剤
AU2102499A (en) * 1998-01-09 1999-07-26 Nupro Technologies, Inc. Developer solvent for photopolymer printing plates and method
JP4570786B2 (ja) * 1999-03-31 2010-10-27 ダイセル化学工業株式会社 高純度1,3−プロパンジオール誘導体系溶媒、その製造方法、及び用途
DE10103823A1 (de) * 2001-01-29 2002-08-08 Basf Drucksysteme Gmbh Entwicklerflüssigkeit enthaltend Dipropylenglycoldialkylether
AU2002333253B2 (en) 2001-08-03 2007-03-01 Xsys Print Solutions Deutschland Gmbh Photosensitive, flexo printing element and method for the production of newspaper flexo printing plates
US6582886B1 (en) * 2001-11-27 2003-06-24 Nupro Technologies, Inc. Developing solvent for photopolymerizable printing plates
UA62051A (en) * 2002-04-16 2003-12-15 Ukrainian Academy Of Book Prin Solution for hollowing out relief patterns of photopolymer printing plates
ITMI20031131A1 (it) * 2003-06-05 2004-12-06 Omet Srl Metodo e dispositivo per la pulizia di un cilindro di
US20060040218A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Wyatt Marion F Terpene ether solvents
US20100068651A1 (en) * 2008-09-16 2010-03-18 Bradford David C Developing solution for flexographic printing plates
US8632961B2 (en) * 2010-01-28 2014-01-21 Eastman Kodak Company Flexographic processing solution and use

Also Published As

Publication number Publication date
DK2309331T3 (da) 2012-05-21
ZA201205692B (en) 2013-04-24
CY1112700T1 (el) 2016-02-10
US20120196231A1 (en) 2012-08-02
JP5739893B2 (ja) 2015-06-24
WO2011042225A1 (en) 2011-04-14
HRP20120094T1 (hr) 2012-02-29
CA2763951C (en) 2014-08-05
PT2309331E (pt) 2012-02-23
RU2523810C2 (ru) 2014-07-27
CN102472983B (zh) 2017-07-21
SI2309331T1 (sl) 2012-04-30
EP2309331A1 (en) 2011-04-13
CN102472983A (zh) 2012-05-23
US8921035B2 (en) 2014-12-30
RS52204B (en) 2012-10-31
EP2309331B1 (en) 2012-01-25
ATE543124T1 (de) 2012-02-15
PL2309331T3 (pl) 2012-07-31
JP2013507644A (ja) 2013-03-04
CA2763951A1 (en) 2011-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012118570A (ru) Растворитель для вымывания полимера и его применение для обработки флексографической печатной формы
JP5601198B2 (ja) 重合体並びに感放射線性組成物
WO2007116664A1 (ja) フッ素含有重合体及び精製方法並びに感放射線性樹脂組成物
AR073369A1 (es) Derivados de 2-carboxamida-cicloamino-urea como inhibidores de pi-3
KR20100071088A (ko) 감방사선성 수지 조성물 및 중합체
KR20110007061A (ko) 감방사선성 수지 조성물 및 그것에 이용되는 중합체
RU2008146382A (ru) Промежуточная пленка для многослойного стекла и многослойное стекло
CN102037030A (zh) 液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法
KR101760141B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법
JP2011095623A (ja) 液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法
JP5758301B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法
TW201437303A (zh) 紅外線吸收性組成物、紅外線截止濾波器與其製造方法、照相機模組及照相機模組的製造方法
JP2013507644A5 (ru)
JP2016212380A (ja) 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネル
JP5515584B2 (ja) レジストパターンコーティング剤及びレジストパターン形成方法
JP2010230891A (ja) 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、及びブロック共重合体
CN105917274A (zh) 感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置及有机el显示装置
KR101766491B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물, 중합체 및 레지스트 패턴 형성 방법
CN102333797B (zh) 化合物、含氟原子聚合物和放射线敏感性树脂组合物
JP2017048285A (ja) 硬化性組成物、硬化膜、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびタッチパネル
KR101798651B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물
JP6069691B2 (ja) 酸拡散制御剤、感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
JP5387014B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
CN1842551A (zh) 丙烯酸系聚合物和放射线敏感性树脂组合物
JP5605463B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、及びレジストパターン形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20170808

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190609