RU2009101197A - Деталь из искуственного кварца, способ ее изготовления и включающий ее оптический элемент - Google Patents

Деталь из искуственного кварца, способ ее изготовления и включающий ее оптический элемент Download PDF

Info

Publication number
RU2009101197A
RU2009101197A RU2009101197/05A RU2009101197A RU2009101197A RU 2009101197 A RU2009101197 A RU 2009101197A RU 2009101197/05 A RU2009101197/05 A RU 2009101197/05A RU 2009101197 A RU2009101197 A RU 2009101197A RU 2009101197 A RU2009101197 A RU 2009101197A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
artificial quartz
ppb
less
amount
optical element
Prior art date
Application number
RU2009101197/05A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2441840C2 (ru
Inventor
Нориюки АГАТА (JP)
Нориюки АГАТА
Синя КИКУГАВА (JP)
Синя КИКУГАВА
Ютака СИМИЗУ (JP)
Ютака СИМИЗУ
Казуми ЙОСИДА (JP)
Казуми ЙОСИДА
Масатоси НИСИМОТО (JP)
Масатоси НИСИМОТО
Original Assignee
Токио Денпа Ко., Лтд (Jp)
Токио Денпа Ко., Лтд
Асахи Гласс Ко.,Лтд. (Jp)
Асахи Гласс Ко.,Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Токио Денпа Ко., Лтд (Jp), Токио Денпа Ко., Лтд, Асахи Гласс Ко.,Лтд. (Jp), Асахи Гласс Ко.,Лтд. filed Critical Токио Денпа Ко., Лтд (Jp)
Publication of RU2009101197A publication Critical patent/RU2009101197A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2441840C2 publication Critical patent/RU2441840C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16—Oxides
    • C30B29/18—Quartz
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B7/00—Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
    • C30B7/10—Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions by application of pressure, e.g. hydrothermal processes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/32—Doped silica-based glasses containing metals containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/50—Doped silica-based glasses containing metals containing alkali metals
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10—Apparatus
    • Y10T117/1004—Apparatus with means for measuring, testing, or sensing
    • Y10T117/1008—Apparatus with means for measuring, testing, or sensing with responsive control means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

1. Деталь из искусственного кварца для применения в качестве оптического элемента, подлежащего облучению лазерным светом, имеющим длину волны 200 нм или короче, содержащая алюминий в количестве 200 ч. на миллион (ppb) или менее. ! 2. Деталь по п.1 из искусственного кварца, содержащая натрий в количестве 100 ppb или менее. ! 3. Деталь по п.1 из искусственного кварца, содержащая литий в количестве 150 ppb или менее. ! 4. Способ изготовления детали из искусственного кварца по п.1 или 2, включающий выращивание искусственного кварца из исходного искусственного кварца, который выращен гидротермальным синтезом и опционально повторением стадии выращивания, обеспечивая тем самым искусственный кварц, содержащий алюминий в количестве 200 ppb или менее. ! 5. Оптический элемент для ArF-литографии, включающий деталь из искусственного кварца по пп.1, 2 или 3.

Claims (5)

1. Деталь из искусственного кварца для применения в качестве оптического элемента, подлежащего облучению лазерным светом, имеющим длину волны 200 нм или короче, содержащая алюминий в количестве 200 ч. на миллион (ppb) или менее.
2. Деталь по п.1 из искусственного кварца, содержащая натрий в количестве 100 ppb или менее.
3. Деталь по п.1 из искусственного кварца, содержащая литий в количестве 150 ppb или менее.
4. Способ изготовления детали из искусственного кварца по п.1 или 2, включающий выращивание искусственного кварца из исходного искусственного кварца, который выращен гидротермальным синтезом и опционально повторением стадии выращивания, обеспечивая тем самым искусственный кварц, содержащий алюминий в количестве 200 ppb или менее.
5. Оптический элемент для ArF-литографии, включающий деталь из искусственного кварца по пп.1, 2 или 3.
RU2009101197/05A 2006-06-16 2007-06-13 Деталь из искусственного кварца, способ ее изготовления и включающий ее оптический элемент RU2441840C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006167890A JP4316589B2 (ja) 2006-06-16 2006-06-16 人工水晶部材およびその製造方法、ならびにそれを用いた光学素子
JP2006-167890 2006-06-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009101197A true RU2009101197A (ru) 2010-07-27
RU2441840C2 RU2441840C2 (ru) 2012-02-10

Family

ID=38476978

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009101197/05A RU2441840C2 (ru) 2006-06-16 2007-06-13 Деталь из искусственного кварца, способ ее изготовления и включающий ее оптический элемент

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8257675B2 (ru)
EP (1) EP2038229B1 (ru)
JP (1) JP4316589B2 (ru)
CN (1) CN101479206B (ru)
RU (1) RU2441840C2 (ru)
WO (1) WO2007145369A1 (ru)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5042907B2 (ja) * 2007-11-03 2012-10-03 日本電波工業株式会社 光学部材用人工水晶の製造方法、光学部材用人工水晶、耐放射線人工水晶の製造方法及び耐放射線人工水晶
JP2009137828A (ja) * 2007-11-15 2009-06-25 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 水晶デバイス
US10952942B2 (en) 2015-09-03 2021-03-23 International Business Machines Corporation Plasmonic enhancement of zinc oxide light absorption for sunscreen applications
WO2020012733A1 (ja) * 2018-07-09 2020-01-16 株式会社村田製作所 人工水晶部材及びそれを用いた光学素子

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4956047A (en) * 1988-08-08 1990-09-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Process of making high quality single quartz crystal using silica glass nutrient
JP3757476B2 (ja) * 1996-08-05 2006-03-22 株式会社ニコン 石英ガラス光学部材、その製造方法、及び投影露光装置
JP3393063B2 (ja) * 1998-04-21 2003-04-07 信越石英株式会社 不純物金属遮蔽用耐熱性合成シリカガラス及びその製造方法
TW581747B (en) * 1999-02-16 2004-04-01 Nikon Corp Synthetic quartz glass optical member for ultraviolet light
JP2001010897A (ja) 1999-06-28 2001-01-16 Meidensha Corp 人工水晶の製造方法
JP4323319B2 (ja) 2001-12-21 2009-09-02 コーニング インコーポレイテッド アルミニウムを含有する溶融シリカ
US6672111B2 (en) * 2001-12-21 2004-01-06 Corning Incorporated Method and apparatus for adding metals to fused silica
EP1498394B1 (en) * 2002-04-23 2009-10-14 Asahi Glass Company Ltd. Synthetic quartz glass for optical member, projection exposure device, and projection exposure method
WO2005005694A1 (ja) 2003-07-10 2005-01-20 Nikon Corporation 人工水晶部材、露光装置、及び露光装置の製造方法
JP4470479B2 (ja) 2003-12-17 2010-06-02 旭硝子株式会社 光学部材用合成石英ガラスおよびその製造方法
WO2007086617A1 (en) 2006-01-30 2007-08-02 Asahi Glass Co., Ltd. Synthetic quartz glass with fast axes of birefringence distributed in concentric-circle tangent directions and process for producing the same
WO2007086611A1 (en) 2006-01-30 2007-08-02 Asahi Glass Co., Ltd. Synthetic quartz glass with radial distribution of fast axes of birefringence and process for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
US8257675B2 (en) 2012-09-04
JP2007332000A (ja) 2007-12-27
WO2007145369A1 (en) 2007-12-21
CN101479206B (zh) 2012-12-19
RU2441840C2 (ru) 2012-02-10
EP2038229B1 (en) 2011-11-30
US20090104103A1 (en) 2009-04-23
JP4316589B2 (ja) 2009-08-19
EP2038229A1 (en) 2009-03-25
CN101479206A (zh) 2009-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kneissl et al. III-Nitride ultraviolet emitters
ATE354548T1 (de) Optischer werkstoff aus quarzglas für excimer laser und excimer lampe, und verfahren zu dessen herstellung
RU2009101197A (ru) Деталь из искуственного кварца, способ ее изготовления и включающий ее оптический элемент
TW200600482A (en) Synthetic silica glass optical material having high resistance to laser induced damage
WO2011029459A8 (en) Novel photoactivable fluorescent dyes for optical microscopy and imaging techniques
JP2013517631A5 (ru)
TW200942965A (en) Optical component for EUVL and smoothing method thereof
TW200703453A (en) Resist pattern thickening material and process for forming resist pattern, and semiconductor device and process for manufacturing the same
DE602006006928D1 (de) Optische vorrichtung zur erzeugung eines beleuchtungsfensters
WO2005059645A3 (en) Microlithography projection objective with crystal elements
ATE409889T1 (de) Wellenlängenkonversionsschichten mit eingebetteten kristalliten
BR0313516A (pt) Moldes para a produção de lente de contato
WO2008111636A1 (ja) シリカ多孔質体、光学用途積層体及び組成物、並びに、シリカ多孔質体の製造方法
TW200613246A (en) Highly purified liquid perfluoro-n-alkanes and method for preparing
TW200643637A (en) Mask blanks
ATE500956T1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer ophthalmischen linse mit fotoaktivem material
JP2007332000A5 (ru)
DE60329671D1 (de) Jektionsbelichtungsvorrichtung und projektionsbelichtungsverfahren
EA200801573A1 (ru) Способ получения кристаллических форм орлистата
EP1696267A3 (en) Positive resist composition and pattern forming method using the same
DE69915420D1 (de) Verfahren zur Herstellung synthetischen Kieselglases zur Anwendung für ArF-Excimer-Laserlithographie
TW200518412A (en) Laser module
EP1548014A4 (en) ULTRAVIOLET PERMEABLE FLUOROPOLYMERS AND FILM USING THE SAME
ATE438675T1 (de) Pellikel und neues fluoriertes polymer
TW200510921A (en) Method and device for the manufacture of a filter for retaining a substance originating from a radiation source

Legal Events

Date Code Title Description
PD4A Correction of name of patent owner
PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20150330

PC41 Official registration of the transfer of exclusive right

Effective date: 20150427