RU2008135359A - Миниатюризованный пружинный элемент и способ его изготовления - Google Patents

Миниатюризованный пружинный элемент и способ его изготовления Download PDF

Info

Publication number
RU2008135359A
RU2008135359A RU2008135359/28A RU2008135359A RU2008135359A RU 2008135359 A RU2008135359 A RU 2008135359A RU 2008135359/28 A RU2008135359/28 A RU 2008135359/28A RU 2008135359 A RU2008135359 A RU 2008135359A RU 2008135359 A RU2008135359 A RU 2008135359A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
spring element
deposition
zone
substrate
precursor materials
Prior art date
Application number
RU2008135359/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2420747C2 (ru
Inventor
Александер КАЯ (DE)
Александер КАЯ
Михель ХУТ (DE)
Михель ХУТ
Original Assignee
Наноскейл Системз, Наносс Гмбх (De)
Наноскейл Системз, Наносс Гмбх
Йоханн Вольфганг Анг Гете-Универзитет (De)
Йоханн Вольфганг Анг Гете-Универзитет
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Наноскейл Системз, Наносс Гмбх (De), Наноскейл Системз, Наносс Гмбх, Йоханн Вольфганг Анг Гете-Универзитет (De), Йоханн Вольфганг Анг Гете-Универзитет filed Critical Наноскейл Системз, Наносс Гмбх (De)
Publication of RU2008135359A publication Critical patent/RU2008135359A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2420747C2 publication Critical patent/RU2420747C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/24AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
    • G01Q60/38Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q20/00Monitoring the movement or position of the probe
    • G01Q20/04Self-detecting probes, i.e. wherein the probe itself generates a signal representative of its position, e.g. piezoelectric gauge
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/24AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/89Deposition of materials, e.g. coating, cvd, or ald
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/902Specified use of nanostructure
    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application
    • Y10S977/953Detector using nanostructure
    • Y10S977/956Of mechanical property

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Springs (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

1. Способ изготовления пружинного элемента (1, 1') с гибким основным телом (4), который имеет детекторную зону (10), электрическая проводимость (σ) которой определяется посредством электронных туннельных, ионизационных или прыжковых процессов, при котором детекторная зона (10) изготавливается посредством локального приложения энергии, причем некоторое число материалов-предшественников (50), подведенных в газообразной форме от зоны (54) осаждения вблизи подожки (52) энергетически возбуждаются для преобразования, причем продукты преобразования (56) в твердой и нелетучей форме осаждаются на подложке (52). ! 2. Способ по п.1, в котором основное тело (4) изготавливают посредством локального приложения энергии. ! 3. Способ по п.1, в котором детекторная зона (10) и/или основное тело (4) изготавливают посредством индуцированного электронным пучком осаждения. ! 4. Способ по любому из пп.1-3, при котором в качестве материалов-предшественников (50) применяют органические, неорганические, диэлектрические или металлорганические мономеры, олигомеры и/или полимеры. ! 5. Способ по любому из пп.1-3, при котором предусмотренный для энергетического возбуждения материалов-предшественников (50) пучок ионов, фотонов или электронов по отношению к подложке (52) направляют латерально или трехмерно, в зависимости от заданной номинальной геометрии отложения (56). ! 6. Способ по любому из пп.1-3, при котором температуру подложки (52) и/или температуру источника предшественника во время осаждения регулируют в зависимости от давления паров материалов-предшественников (50), определенного в зоне (54) осаждения. ! 7. Способ по любому из пп.1-3, при котором некоторое число параметров, �

Claims (15)

1. Способ изготовления пружинного элемента (1, 1') с гибким основным телом (4), который имеет детекторную зону (10), электрическая проводимость (σ) которой определяется посредством электронных туннельных, ионизационных или прыжковых процессов, при котором детекторная зона (10) изготавливается посредством локального приложения энергии, причем некоторое число материалов-предшественников (50), подведенных в газообразной форме от зоны (54) осаждения вблизи подожки (52) энергетически возбуждаются для преобразования, причем продукты преобразования (56) в твердой и нелетучей форме осаждаются на подложке (52).
2. Способ по п.1, в котором основное тело (4) изготавливают посредством локального приложения энергии.
3. Способ по п.1, в котором детекторная зона (10) и/или основное тело (4) изготавливают посредством индуцированного электронным пучком осаждения.
4. Способ по любому из пп.1-3, при котором в качестве материалов-предшественников (50) применяют органические, неорганические, диэлектрические или металлорганические мономеры, олигомеры и/или полимеры.
5. Способ по любому из пп.1-3, при котором предусмотренный для энергетического возбуждения материалов-предшественников (50) пучок ионов, фотонов или электронов по отношению к подложке (52) направляют латерально или трехмерно, в зависимости от заданной номинальной геометрии отложения (56).
6. Способ по любому из пп.1-3, при котором температуру подложки (52) и/или температуру источника предшественника во время осаждения регулируют в зависимости от давления паров материалов-предшественников (50), определенного в зоне (54) осаждения.
7. Способ по любому из пп.1-3, при котором некоторое число параметров, тип, количество и/или состав веществ-предшественников (50), давление газа в зоне (54) осаждения, интенсивность локального приложения энергии, длительность облучения пучком электронов, степень фокусировки пучка электронов, материал подложки и/или температура подложки устанавливают таким образом, что пружинный элемент (1, 1') имеет заданный коэффициент жесткости пружины и/или заданное качество, и/или детекторная зона (10) имеет заданную электрическую проводимость.
8. Мини а тюри зеванный пружинный элемент (1, 1'), изготовленный способом по любому из пп.1-7 для использования в качестве сенсорного элемента, в частности для определения изменений длины или сил отклонения.
9. Пружинный элемент (1, 1') по п.8, в котором температурная зависимость электрической проводимости (σ) детекторной зоны определяется приближенно соотношением ln σ~t, причем характеристическая экспонента y имеет значение между 0 и 1, предпочтительно значение равное примерно 0,25, примерно 0,5 или примерно 1.
10. Пружинный элемент (1, 1') по п.8, в котором детекторная зона (10) образована из внедренных в матрицу (12) наночастиц с электрической проводимостью, более высокой по сравнению с материалом матрицы.
11. Пружинный элемент (1, 1') по п.10, в котором наночастицы (14) являются металлическими.
12. Пружинный элемент (1, 1') по п.10, в котором матрица (12) образована из полимерного материала, предпочтительно из органических или неорганических структурных элементов, из соединений на углеродной основе, из углеродно-кислородных соединений, из водородных соединений, из соединений фтора и/или из содержащих металл структурных элементов.
13. Пружинный элемент (1, 1') по любому из пп.10-12, в котором наночастицы (14) имеют среднюю величину частиц до 100 нм, предпочтительно до 10 нм.
14. Балочный зонд для растрового микроскопа атомарных сил со снабженной щупом (20) зонда консолью (2), причем консоль (2) выполнена как пружинный элемент (1, 1'), изготовленный способом по одному из пп.1-7.
15. Растровый микроскоп (22) атомарных сил с балочным зондом по п.14, имеющий блок оценки, который с помощью данных управления или измерения балочного зонда формирует блок данных, характерный для топографии объекта (24) измерения, причем блок оценки при выработке блока данных принимает во внимание параметры, характерные для проводимости (σ) консоли (2).
RU2008135359/28A 2006-02-01 2007-01-29 Миниатюризованный пружинный элемент и способ его изготовления RU2420747C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006004922.5 2006-02-01
DE102006004922A DE102006004922B4 (de) 2006-02-01 2006-02-01 Miniaturisiertes Federelement und Verfahren zu dessen Herstellung, Balkensonde, Rasterkraftmikroskop sowie Verfahren zu dessen Betrieb

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008135359A true RU2008135359A (ru) 2010-03-10
RU2420747C2 RU2420747C2 (ru) 2011-06-10

Family

ID=37987742

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008135359/28A RU2420747C2 (ru) 2006-02-01 2007-01-29 Миниатюризованный пружинный элемент и способ его изготовления

Country Status (10)

Country Link
US (1) US7997125B2 (ru)
EP (1) EP2179266B1 (ru)
JP (1) JP5137852B2 (ru)
KR (1) KR101328064B1 (ru)
CN (1) CN101379383B (ru)
AU (1) AU2007211688A1 (ru)
CA (1) CA2640702A1 (ru)
DE (1) DE102006004922B4 (ru)
RU (1) RU2420747C2 (ru)
WO (1) WO2007088018A1 (ru)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10330581B2 (en) 2007-09-17 2019-06-25 Rave Llc Debris removal from high aspect structures
US10384238B2 (en) 2007-09-17 2019-08-20 Rave Llc Debris removal in high aspect structures
KR100958070B1 (ko) * 2008-06-26 2010-05-13 주식회사 코리아 인스트루먼트 탐침 및 탐침 제조 방법
DE102008052645A1 (de) * 2008-10-22 2010-05-06 Nanoscale Systems Nanoss Gmbh Elektrochemischer Sensor und Verfahren zu dessen Herstellung
US10260968B2 (en) 2013-03-15 2019-04-16 Nano Composite Products, Inc. Polymeric foam deformation gauge
CA2901848C (en) 2013-03-15 2018-09-18 Brigham Young University Composite material used as a strain gauge
RU2579805C2 (ru) * 2014-08-12 2016-04-10 Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) Способ повышения чувствительности электромагнитных датчиков пульсаций скорости преобразователей гидрофизических полей
US9857246B2 (en) 2014-09-17 2018-01-02 Sensable Technologies, Llc Sensing system including a sensing membrane
US10405779B2 (en) 2015-01-07 2019-09-10 Nano Composite Products, Inc. Shoe-based analysis system
JP6757748B2 (ja) 2015-02-26 2020-09-23 クサレント リミテッド ライアビリティー カンパニー ナノ電気機械システム探針を製造するシステム及び方法
EP3262426A1 (en) * 2015-02-26 2018-01-03 Xallent, LLC Multiple integrated tips scanning probe microscope
DE102018206278A1 (de) * 2018-04-24 2019-10-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen eines Partikels von einer photolithographischen Maske
DE102020107918B4 (de) 2020-03-23 2021-11-18 Digital Diagnostics AG Detektion von viren
DE102021107254B4 (de) 2021-03-23 2024-06-27 digid GmbH Digitale Sensorvorrichtung zur Detektion eines Analyten in einer Probe
DE102021107255B4 (de) 2021-03-23 2024-06-27 digid GmbH Digitaler Sensor mit Referenzkantilever zur Umwandlung chemischer und/oder biochemischer Information
DE102022005110B4 (de) 2022-08-22 2024-06-27 digid GmbH Digitale Sensorvorrichtung zur Detektion von Analyten in einer Probe
DE102022121188B3 (de) 2022-08-22 2024-01-18 digid GmbH Sensor zur Umwandlung chemischer und/oder biochemischer Information eines Analyten
DE102022121187B3 (de) 2022-08-22 2024-01-18 digid GmbH Digitale Sensorvorrichtung zur Detektion von Analyten in einer Probe

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU907885A1 (ru) 1980-06-27 1982-02-23 Пензенский Филиал Всесоюзного Научно-Исследовательского Технологического Института Приборостроения Зондова головка
DE3603449A1 (de) 1986-02-05 1987-08-06 Basf Ag Dehnungsmessstreifen mit einer duennen diskontinuierlichen metallschicht
JP3248606B2 (ja) * 1994-10-05 2002-01-21 松下電器産業株式会社 力学量センサーおよび歪抵抗素子及びそれらの製造方法
US5679888A (en) * 1994-10-05 1997-10-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Dynamic quantity sensor and method for producing the same, distortion resistance element and method for producing the same, and angular velocity sensor
US5540958A (en) 1994-12-14 1996-07-30 Vlsi Technology, Inc. Method of making microscope probe tips
JPH08327636A (ja) * 1995-05-31 1996-12-13 Olympus Optical Co Ltd Afmカンチレバー及びその製造方法
DE19713719C2 (de) * 1997-04-03 2002-11-14 Kuehn Hans R Sensor zur Messung physikalischer und / oder chemischer Größen und Verfahren zur Herstellung eines Sensors
JP4089082B2 (ja) * 1998-07-28 2008-05-21 株式会社デンソー 感圧変換装置
KR20010073134A (ko) * 1998-09-07 2001-07-31 추후제출 연장 콘덕터간의 터널링 전류를 이용하는 측정
KR20090038040A (ko) * 1998-12-02 2009-04-17 폼팩터, 인크. 전기 접촉 구조체의 제조 방법
AU7549700A (en) 1999-11-03 2001-05-14 International Business Machines Corporation Cantilever sensors and transducers
RU2220429C2 (ru) 2000-05-22 2003-12-27 Закрытое акционерное общество "НТ-МДТ" Способ формирования сенсорного элемента сканирующего зондового микроскопа
AT410032B (de) 2000-06-09 2003-01-27 Lugstein Alois Dr Verfahren zur herstellung einer vorrichtung für die gleichzeitige durchführung einer elektrochemischen und einer topographischen nahfeldmikroskopie
CN1599939B (zh) * 2002-01-15 2010-08-11 国际商业机器公司 形成微观结构的方法
JP2004134370A (ja) * 2002-07-26 2004-04-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd スイッチ
KR100597067B1 (ko) 2003-11-20 2006-07-07 한국기계연구원 탐침 팁에의 나노물질 조립장치 및 이 장치가 적용된주사탐침 현미경
KR100736358B1 (ko) 2004-11-12 2007-07-06 재단법인서울대학교산학협력재단 탐침 현미경의 탐침 끝 부분에 나노구조가 선택적으로흡착되는 방법 및 그 탐침이 장착된 탐침 현미경
JP4150013B2 (ja) * 2005-03-31 2008-09-17 Tdk株式会社 トンネル効果素子
JP4200147B2 (ja) * 2005-06-09 2008-12-24 Tdk株式会社 微細構造体、カンチレバー、走査型プローブ顕微鏡及び微細構造体の変形量測定方法
US7974871B2 (en) 2006-12-29 2011-07-05 International Business Machines Corporation System and method for reordering meeting agenda items prior to the occurrence of the meeting based upon partial participation by the meeting participants

Also Published As

Publication number Publication date
CN101379383B (zh) 2012-11-14
CA2640702A1 (en) 2007-08-09
JP5137852B2 (ja) 2013-02-06
KR101328064B1 (ko) 2013-11-13
DE102006004922B4 (de) 2008-04-30
JP2009525473A (ja) 2009-07-09
US7997125B2 (en) 2011-08-16
EP2179266A1 (de) 2010-04-28
US20090025465A1 (en) 2009-01-29
DE102006004922A1 (de) 2007-08-09
EP2179266B1 (de) 2012-10-17
RU2420747C2 (ru) 2011-06-10
AU2007211688A1 (en) 2007-08-09
WO2007088018A1 (de) 2007-08-09
KR20090027186A (ko) 2009-03-16
CN101379383A (zh) 2009-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008135359A (ru) Миниатюризованный пружинный элемент и способ его изготовления
JP2009525473A5 (ru)
Chen et al. Field emission from vertically aligned conductive IrO 2 nanorods
Hou et al. Synthesis, optical and electrochemical properties of ZnO nanorod hybrids loaded with high-density gold nanoparticles
Kunuku et al. Development of long lifetime cathode materials for microplasma application
Tripathi et al. Structural, nanomechanical, field emission and ammonia gas sensing properties of nitrogenated amorphous carbon films deposited by filtered anodic jet carbon arc technique
TWI734605B (zh) 高熵奈米材料及其製備方法
Pomogailo et al. Polymer-matrix nanocomposite gas-sensing materials
Jang et al. Polypyrrole film synthesis via solution plasma polymerization of liquid pyrrole
Choi et al. Generation of carbon nanowhiskers, nanotips, and nanodots by controlling plasma environment: Ion energy and radical effects
Hosseinnejad et al. Characterization and hydrogen gas sensing performance of Al-doped ZnO thin films synthesized by low energy plasma focus device
Marton et al. Study of self-masking nanostructuring of boron doped diamond films by RF plasma etching
Huang et al. Construction of WO3 coatings with micro-nano hybrid structures by liquid precursor flame spray for enhanced sensing performances to sub-ppm ozone
Panahi et al. Fabrication, characterization and hydrogen gas sensing performance of nanostructured V 2 O 5 thin films prepared by plasma focus method
RU2011120331A (ru) Электрохимический сенсор и способ его получения
JP2012506543A5 (ru)
Chen et al. Characterization and enhanced field emission properties of carbon nanotube bundle arrays coated with N-doped nanocrystalline anatase TiO2
Wang et al. Structure and surface effect of field emission from gallium nitride nanowires
Park et al. X-ray images obtained from cold cathodes using carbon nanotubes coated with gallium-doped zinc oxide thin films
Zheng et al. Vertically aligned boron-doped diamond hollow nanoneedle arrays for enhanced field emission
JP2007179867A (ja) 繊維状炭素物質を用いた電子源
Late et al. Synthesis of LaB 6 micro/nano structures using picosecond (Nd: YAG) laser and its field emission investigations
Sulania et al. Low energy bombardment induced formation of Ge nanoparticles
Marciano et al. Oxygen plasma etching of silver-incorporated diamond-like carbon films
Di Mundo et al. On the “G rowth” of Nano‐S tructures on c‐S ilicon via Self‐M asked Plasma Etching Processes