RU2008131544A - Способ измерения дифракционных линз - Google Patents

Способ измерения дифракционных линз Download PDF

Info

Publication number
RU2008131544A
RU2008131544A RU2008131544/28A RU2008131544A RU2008131544A RU 2008131544 A RU2008131544 A RU 2008131544A RU 2008131544/28 A RU2008131544/28 A RU 2008131544/28A RU 2008131544 A RU2008131544 A RU 2008131544A RU 2008131544 A RU2008131544 A RU 2008131544A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
lens
properties
diffractive
elementary
diffractive lens
Prior art date
Application number
RU2008131544/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2468348C2 (ru
Inventor
Майкл Дж. СИМПСОН (US)
Майкл Дж. СИМПСОН
Original Assignee
Алькон Рисерч, Лтд. (Us)
Алькон Рисерч, Лтд.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Алькон Рисерч, Лтд. (Us), Алькон Рисерч, Лтд. filed Critical Алькон Рисерч, Лтд. (Us)
Publication of RU2008131544A publication Critical patent/RU2008131544A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2468348C2 publication Critical patent/RU2468348C2/ru

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0228Testing optical properties by measuring refractive power
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0242Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
    • G01M11/0257Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • G01M11/0292Testing optical properties of objectives by measuring the optical modulation transfer function

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Prostheses (AREA)
  • Eye Examination Apparatus (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

1. Способ измерения оптических свойств дифракционной линзы, содержащий этапы, на которых ! пропускают свет через дифракционную линзу и на массив элементарных линз, в котором каждая элементарная линза принимает часть света и в котором дифракционная линза имеет границу зоны, покрывающую, по меньшей мере, часть одной элементарной линзы, ! измеряют одно или несколько свойств дифракционной линзы на основании света, в общем случае, сфокусированного массивом элементарных линз и зарегистрированного датчиком, ! регулируют результат измерения для компенсации предполагаемых оптических свойств дифракционного компонента линзы в измерительной системе. ! 2. Способ по п.1, в котором влияние дифракционной структуры вычисляют с использованием преобразования Фурье волнового фронта через каждую элементарную линзу для фазовой задержки, вносимой дифракционной структурой. ! 3. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап, на котором сравнивают позицию светового пятна, сфокусированного каждой элементарной линзой, с позицией пятна для полностью коллимированного волнового фронта, для определения поперечного перемещения пятна. ! 4. Способ по п.3, в котором влияние дифракционной структуры определяют путем сравнения измеренных значений для дифракционной линзы и эквивалентной однофокусной линзы для определения коррекции. ! 5. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап, на котором ! идентифицируют размытые или двойные пятна, в котором наличие размытого или двойного пятна свидетельствует о наличии дифракционного участка поверхности линзы, и ! регулируют локальный наклон для элементарной линзы для представления эквивалентной однофок�

Claims (16)

1. Способ измерения оптических свойств дифракционной линзы, содержащий этапы, на которых
пропускают свет через дифракционную линзу и на массив элементарных линз, в котором каждая элементарная линза принимает часть света и в котором дифракционная линза имеет границу зоны, покрывающую, по меньшей мере, часть одной элементарной линзы,
измеряют одно или несколько свойств дифракционной линзы на основании света, в общем случае, сфокусированного массивом элементарных линз и зарегистрированного датчиком,
регулируют результат измерения для компенсации предполагаемых оптических свойств дифракционного компонента линзы в измерительной системе.
2. Способ по п.1, в котором влияние дифракционной структуры вычисляют с использованием преобразования Фурье волнового фронта через каждую элементарную линзу для фазовой задержки, вносимой дифракционной структурой.
3. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап, на котором сравнивают позицию светового пятна, сфокусированного каждой элементарной линзой, с позицией пятна для полностью коллимированного волнового фронта, для определения поперечного перемещения пятна.
4. Способ по п.3, в котором влияние дифракционной структуры определяют путем сравнения измеренных значений для дифракционной линзы и эквивалентной однофокусной линзы для определения коррекции.
5. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап, на котором
идентифицируют размытые или двойные пятна, в котором наличие размытого или двойного пятна свидетельствует о наличии дифракционного участка поверхности линзы, и
регулируют локальный наклон для элементарной линзы для представления эквивалентной однофокусной линзы.
6. Способ по п.1, в котором на этапе сравнения одного или нескольких определенных свойств дифракционной линзы с одним или нескольких предполагаемых свойств дифракционной линзы определяют эквивалентную однофокусную линзу.
7. Способ по п.6, в котором при определении эквивалентной однофокусной линзы сравнивают теоретические расчеты и лабораторные измерения.
8. Способ по п.6, в котором при определении эквивалентной однофокусной линзы сравнивают теоретические расчеты и клинические измерения.
9. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап, на котором определяют наилучшую регулировку путем сравнения двух или более из теоретических расчетов, лабораторных измерений и клинических измерений.
10. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап, на котором анализируют участок волнового фронта.
11. Способ по п.1, в котором на этапе сравнения одного или нескольких определенных свойств дифракционной линзы с одним или нескольких предполагаемых свойств дифракционной линзы
оценивают теоретическое искажение данных на основании конструкции линзы; и
компенсируют оценку теоретического искажения.
12. Способ по п.1, в котором на этапе сравнения одного или нескольких определенных свойств дифракционной линзы с одним или нескольких предполагаемых свойств дифракционной линзы вычисляют приблизительный участок линзы, который будет покрывать элементарную линзу для оценивания величины двойного пятна.
13. Способ по п.1, в котором диаметр элементарной линзы меньше, чем у измеряемой дифракционной зоны.
14. Способ по п.1, в котором диаметр элементарной линзы больше, чем у измеряемой дифракционной зоны.
15. Способ измерения оптических свойств дифракционной линзы, содержащий этапы, на которых
пропускают свет через дифракционную линзу, в котором дифракционная линза имеет границу зоны, покрывающую, по меньшей мере, часть одной элементарной линзы,
с использованием системы, предназначенной для измерения оптических свойств линзы, измеряют одно или несколько свойств дифракционной линзы на основании света, выходящего из линзы,
вычисляют одно или несколько свойств дифракционной линзы для определения одного или нескольких предполагаемых свойств дифракционной линзы,
сравнивают одно или несколько определенных свойств дифракционной линзы с одним или несколькими теоретическими расчетами дифракционной линзы,
вычисляют одно или несколько свойств системы, используемой для измерения свойств линзы,
измеряют одно или несколько свойств системы, используемой для измерения свойств дифракционной линзы, и
корректируют измерение одного или нескольких свойств дифракционной линзы на основании сравнения с одним или несколькими предполагаемыми свойствами дифракционной линзы и одним или несколькими свойствами системы для измерения свойств линзы.
16. Способ по п.15, в котором при измерении одного или нескольких свойств дифракционной линзы измеряют сферическую аберрацию дифракционной линзы.
RU2008131544/28A 2007-07-31 2008-07-30 Способ измерения дифракционных линз RU2468348C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US95291307P 2007-07-31 2007-07-31
US60/952,913 2007-07-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008131544A true RU2008131544A (ru) 2010-02-10
RU2468348C2 RU2468348C2 (ru) 2012-11-27

Family

ID=39947820

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008131544/28A RU2468348C2 (ru) 2007-07-31 2008-07-30 Способ измерения дифракционных линз

Country Status (13)

Country Link
US (1) US7777872B2 (ru)
EP (1) EP2023116A3 (ru)
JP (1) JP5547384B2 (ru)
KR (1) KR101441901B1 (ru)
CN (1) CN101393075B (ru)
AR (1) AR067761A1 (ru)
AU (1) AU2008203433B2 (ru)
BR (1) BRPI0805010A2 (ru)
CA (1) CA2638447C (ru)
IL (1) IL193193A (ru)
MX (1) MX2008009812A (ru)
RU (1) RU2468348C2 (ru)
TW (1) TWI404520B (ru)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8317505B2 (en) 2007-08-21 2012-11-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Apparatus for formation of an ophthalmic lens precursor and lens
US8313828B2 (en) * 2008-08-20 2012-11-20 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic lens precursor and lens
US8318055B2 (en) 2007-08-21 2012-11-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Methods for formation of an ophthalmic lens precursor and lens
US7905594B2 (en) * 2007-08-21 2011-03-15 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Free form ophthalmic lens
US9417464B2 (en) 2008-08-20 2016-08-16 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Method and apparatus of forming a translating multifocal contact lens having a lower-lid contact surface
FR2939199B1 (fr) * 2008-12-02 2011-02-11 C2 Diagnostics Procede et dispositif de cytometrie en flux sans fluide de gainage
US8240849B2 (en) * 2009-03-31 2012-08-14 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Free form lens with refractive index variations
US8807076B2 (en) 2010-03-12 2014-08-19 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Apparatus for vapor phase processing ophthalmic devices
JP5727188B2 (ja) * 2010-09-30 2015-06-03 株式会社ニデック 眼科測定装置
US8340456B1 (en) * 2011-10-13 2012-12-25 General Electric Company System and method for depth from defocus imaging
WO2013096003A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-27 3M Innovative Properties Company Sensor for measuring surface non-uniformity
DE102012010960A1 (de) * 2012-05-30 2013-12-05 Fresnel Optics Gmbh Anordnung zur optischen Charakterisierung vonFresnellinsen
JP6407576B2 (ja) * 2013-06-14 2018-10-17 興和株式会社 模型眼モジュール、これを用いた眼内レンズ検査装置及び眼内レンズ検査方法
US9645412B2 (en) 2014-11-05 2017-05-09 Johnson & Johnson Vision Care Inc. Customized lens device and method
US10359643B2 (en) 2015-12-18 2019-07-23 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Methods for incorporating lens features and lenses having such features
CN106225734B (zh) * 2016-06-30 2019-07-05 中国科学院光电技术研究所 一种大动态范围高精度光轴测量装置
WO2018138538A1 (en) 2017-01-30 2018-08-02 Universitat Politecnica De Catalunya System and method for characterizing, designing and/or modifying optical properties of a lens
CN112584133A (zh) * 2019-09-27 2021-03-30 苹果公司 对象定位系统
JP7356940B2 (ja) * 2020-03-23 2023-10-05 ホヤ レンズ タイランド リミテッド レンズ評価方法、レンズ設計方法、眼鏡レンズの製造方法およびレンズ評価プログラム
US11364696B2 (en) 2020-09-18 2022-06-21 Johnson & Johnson Vision Care, Inc Apparatus for forming an ophthalmic lens

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5050981A (en) * 1990-07-24 1991-09-24 Johnson & Johnson Vision Products, Inc. Lens design method and resulting aspheric lens
TW582549U (en) * 1997-09-24 2004-04-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Calculating apparatus of diffraction efficiency of diffraction lens, lens with optical grating device and reading optical system
US6406146B1 (en) 2000-09-21 2002-06-18 Carl Zeiss, Inc. Wavefront refractor simultaneously recording two hartmann-shack images
US6595642B2 (en) * 2001-08-31 2003-07-22 Adaptive Optics Associates, Inc. Ophthalmic instrument having Hartmann wavefront sensor with extended source
US6575572B2 (en) * 2001-09-21 2003-06-10 Carl Zeiss Ophthalmic Systems, Inc. Method and apparatus for measuring optical aberrations of an eye
US6637884B2 (en) * 2001-12-14 2003-10-28 Bausch & Lomb Incorporated Aberrometer calibration
JP2004077154A (ja) 2002-08-09 2004-03-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd レンズ性能評価装置
US20050122473A1 (en) * 2003-11-24 2005-06-09 Curatu Eugene O. Method and apparatus for aberroscope calibration and discrete compensation
DE10360570B4 (de) * 2003-12-22 2006-01-12 Carl Zeiss Optisches Meßsystem und optisches Meßverfahren
CN100517569C (zh) * 2004-08-09 2009-07-22 株式会社尼康 光学特性测量装置及方法、曝光装置及方法及组件制造方法
JP4926068B2 (ja) * 2004-10-25 2012-05-09 アボット・メディカル・オプティクス・インコーポレイテッド 複数の位相板を有する眼用レンズ

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090013142A (ko) 2009-02-04
TWI404520B (zh) 2013-08-11
JP2009037241A (ja) 2009-02-19
JP5547384B2 (ja) 2014-07-09
CA2638447C (en) 2015-04-21
CN101393075B (zh) 2013-03-27
US7777872B2 (en) 2010-08-17
CA2638447A1 (en) 2009-01-31
KR101441901B1 (ko) 2014-09-23
BRPI0805010A2 (pt) 2009-07-21
EP2023116A2 (en) 2009-02-11
US20090033920A1 (en) 2009-02-05
EP2023116A3 (en) 2010-04-21
MX2008009812A (es) 2009-03-05
RU2468348C2 (ru) 2012-11-27
AU2008203433A1 (en) 2009-02-19
AU2008203433B2 (en) 2014-04-17
TW200913956A (en) 2009-04-01
AR067761A1 (es) 2009-10-21
CN101393075A (zh) 2009-03-25
IL193193A (en) 2013-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008131544A (ru) Способ измерения дифракционных линз
KR101373659B1 (ko) 굴절률 분포 계측방법 및 굴절률 분포 계측장치
KR101393171B1 (ko) 비구면을 정밀 고해상도로 측정하는 방법
JP2008506505A5 (ru)
US9255879B2 (en) Method of measuring refractive index distribution, method of manufacturing optical element, and measurement apparatus of refractive index distribution
WO2005052538A3 (en) Lensometers and wavefront sensors and methods of measuring aberration
JP2006527353A (ja) 光学的結像系の結像品質を決定する方法
US20110315851A1 (en) Focus information generating device and focus information generating method
JP2013108932A (ja) 屈折率分布測定方法および屈折率分布測定装置
CN101986097B (zh) 在球面面形干涉检测中高精度消除离焦误差及倾斜误差的方法
JP2011124345A5 (ru)
JP2004528910A (ja) 波面収差の測定方法および測定装置
TWI638133B (zh) 非接觸式鏡片曲率半徑與厚度檢測裝置及其檢測方法
JP2012093348A5 (ru)
US8762099B2 (en) Measurement method and measurement apparatus
JP2021051038A (ja) 収差推定方法、収差推定装置、プログラムおよび記録媒体
JP2007298281A (ja) 被検体の面形状の測定方法及び測定装置
KR101002677B1 (ko) 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법
US9116044B2 (en) System and method for determining size and location of minimum beam spot
TWI550263B (zh) 光學元件之量測方法、電腦可執行記錄媒體、系統及設備
JP2016158855A5 (ru)
JPH0240177B2 (ja) Kogakuhikyumennokensaho
JP2021004794A5 (ru)
JP2011127980A5 (ru)

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20160731