RU2008121922A - Способ получения поликристаллического кремния - Google Patents

Способ получения поликристаллического кремния Download PDF

Info

Publication number
RU2008121922A
RU2008121922A RU2008121922/15A RU2008121922A RU2008121922A RU 2008121922 A RU2008121922 A RU 2008121922A RU 2008121922/15 A RU2008121922/15 A RU 2008121922/15A RU 2008121922 A RU2008121922 A RU 2008121922A RU 2008121922 A RU2008121922 A RU 2008121922A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
reactors
gas mixture
series
silicon
reactor
Prior art date
Application number
RU2008121922/15A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2388690C2 (ru
Inventor
Андрей Альгердович Ловцюс (RU)
Андрей Альгердович Ловцюс
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Группа СТР" (RU)
Общество с ограниченной ответственностью "Группа СТР"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to RU2008121922A priority Critical patent/RU2388690C2/ru
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Группа СТР" (RU), Общество с ограниченной ответственностью "Группа СТР" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Группа СТР" (RU)
Priority to JP2011510452A priority patent/JP5668193B2/ja
Priority to PCT/RU2009/000185 priority patent/WO2009142538A1/ru
Priority to US12/993,534 priority patent/US9102538B2/en
Priority to EP09750847.7A priority patent/EP2298701B1/en
Priority to KR1020107026102A priority patent/KR101395249B1/ko
Priority to CA 2722068 priority patent/CA2722068C/en
Priority to CN200980117592.2A priority patent/CN102026919B/zh
Priority to UAA201011068A priority patent/UA102244C2/ru
Publication of RU2008121922A publication Critical patent/RU2008121922A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2388690C2 publication Critical patent/RU2388690C2/ru
Priority to HK11109035.5A priority patent/HK1154841A1/xx

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/027Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • C01B33/03Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition of silicon halides or halosilanes or reduction thereof with hydrogen as the only reducing agent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/027Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/027Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • C01B33/035Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds in the presence of heated filaments of silicon, carbon or a refractory metal, e.g. tantalum or tungsten, or in the presence of heated silicon rods on which the formed silicon is deposited, a silicon rod being obtained, e.g. Siemens process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/08Compounds containing halogen
    • C01B33/107Halogenated silanes
    • C01B33/10773Halogenated silanes obtained by disproportionation and molecular rearrangement of halogenated silanes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00002Chemical plants
    • B01J2219/00027Process aspects
    • B01J2219/0004Processes in series

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

1. Способ получения поликристаллического кремния осаждением из газовой фазы, включающий подачу в реактор восстановления через систему патрубков газовой смеси на основе кремнийсодержащего газа и осаждение кремния на нагретых поверхностях с образованием отходящей газовой смеси, отличающийся тем, что процесс осаждения кремния осуществляют одновременно в, по крайней мере, двух реакторах, которые соединяют между собой последовательно системой патрубков для транспортирования газовой смеси, подают на вход первого реактора газовую смесь, предназначенную для работы всех реакторов, и осуществляют непрерывное прохождение газовой смеси через все последовательно соединенные реакторы. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что, по крайней мере, один раз в течение проведения процесса осаждения направление прохождения газовой смеси через последовательно соединенные реакторы изменяют на противоположное. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакторы различной конструкции соединяют между собой последовательно в порядке убывания значений времени, необходимого для проведения процесса осаждения в реакторах в автономном режиме. ! 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакторы соединяют между собой последовательно в порядке возрастания значений их рабочих температур. ! 5. Способ по п.1, отличающийся тем, что расход газовой смеси на входе в первый реактор удовлетворяет соотношению ! ! где Q - расход газовой смеси на входе в первый реактор; ! Qi - расход газовой смеси, необходимый для работы одного из последовательно соединенный реакторов в автономном режиме; ! n - количество последовательно соединенных реакторов. ! 6. Способ по п.1, о�

Claims (10)

1. Способ получения поликристаллического кремния осаждением из газовой фазы, включающий подачу в реактор восстановления через систему патрубков газовой смеси на основе кремнийсодержащего газа и осаждение кремния на нагретых поверхностях с образованием отходящей газовой смеси, отличающийся тем, что процесс осаждения кремния осуществляют одновременно в, по крайней мере, двух реакторах, которые соединяют между собой последовательно системой патрубков для транспортирования газовой смеси, подают на вход первого реактора газовую смесь, предназначенную для работы всех реакторов, и осуществляют непрерывное прохождение газовой смеси через все последовательно соединенные реакторы.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что, по крайней мере, один раз в течение проведения процесса осаждения направление прохождения газовой смеси через последовательно соединенные реакторы изменяют на противоположное.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакторы различной конструкции соединяют между собой последовательно в порядке убывания значений времени, необходимого для проведения процесса осаждения в реакторах в автономном режиме.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакторы соединяют между собой последовательно в порядке возрастания значений их рабочих температур.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что расход газовой смеси на входе в первый реактор удовлетворяет соотношению
Figure 00000001
где Q - расход газовой смеси на входе в первый реактор;
Qi - расход газовой смеси, необходимый для работы одного из последовательно соединенный реакторов в автономном режиме;
n - количество последовательно соединенных реакторов.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве кремнийсодержащего газа используют хлорсиланы или их смесь.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что газовую смесь, необходимую для работы всех реакторов, готовят в одном общем для всех реакторов блоке.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что патрубки для транспортирования газовой смеси между реакторами снабжают теплоизоляцией.
9. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве начальных нагретых поверхностей для осаждения кремния используют поверхности полых тел.
10. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве начальных нагретых поверхностей для осаждения кремния используют поверхности пластин.
RU2008121922A 2008-05-22 2008-05-22 Способ получения поликристаллического кремния RU2388690C2 (ru)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008121922A RU2388690C2 (ru) 2008-05-22 2008-05-22 Способ получения поликристаллического кремния
PCT/RU2009/000185 WO2009142538A1 (ru) 2008-05-22 2009-04-20 Способ получения поликристаллического кремния
US12/993,534 US9102538B2 (en) 2008-05-22 2009-04-20 Method for producing polycrystalline silicon
EP09750847.7A EP2298701B1 (en) 2008-05-22 2009-04-20 Method for producing polycrystalline silicon
JP2011510452A JP5668193B2 (ja) 2008-05-22 2009-04-20 多結晶シリコンの製造方法
KR1020107026102A KR101395249B1 (ko) 2008-05-22 2009-04-20 다결정 실리콘 생성 방법
CA 2722068 CA2722068C (en) 2008-05-22 2009-04-20 Method for production of polycrystalline silicon
CN200980117592.2A CN102026919B (zh) 2008-05-22 2009-04-20 制造多晶硅的方法
UAA201011068A UA102244C2 (ru) 2008-05-22 2009-04-20 Способ получения поликристаллического кремния
HK11109035.5A HK1154841A1 (en) 2008-05-22 2011-08-26 Method for producing polycrystalline silicon

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008121922A RU2388690C2 (ru) 2008-05-22 2008-05-22 Способ получения поликристаллического кремния

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008121922A true RU2008121922A (ru) 2009-11-27
RU2388690C2 RU2388690C2 (ru) 2010-05-10

Family

ID=41340327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008121922A RU2388690C2 (ru) 2008-05-22 2008-05-22 Способ получения поликристаллического кремния

Country Status (10)

Country Link
US (1) US9102538B2 (ru)
EP (1) EP2298701B1 (ru)
JP (1) JP5668193B2 (ru)
KR (1) KR101395249B1 (ru)
CN (1) CN102026919B (ru)
CA (1) CA2722068C (ru)
HK (1) HK1154841A1 (ru)
RU (1) RU2388690C2 (ru)
UA (1) UA102244C2 (ru)
WO (1) WO2009142538A1 (ru)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010040293A1 (de) 2010-09-06 2012-03-08 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von polykristallinem Silicium
JP2014040330A (ja) * 2010-12-22 2014-03-06 Asahi Glass Co Ltd シリコン製造装置及びシリコン製造方法
DE102011078676A1 (de) * 2011-07-05 2013-01-10 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Produktion von Polysilicium
DE102011120210A1 (de) 2011-12-05 2013-06-06 Centrotherm Sitec Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Silicium
KR101281102B1 (ko) 2011-12-19 2013-07-02 한화케미칼 주식회사 폴리실리콘의 제조 방법

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4048955A (en) * 1975-09-02 1977-09-20 Texas Instruments Incorporated Continuous chemical vapor deposition reactor
DE2541215C3 (de) * 1975-09-16 1978-08-03 Wacker-Chemitronic Gesellschaft Fuer Elektronik-Grundstoffe Mbh, 8263 Burghausen Verfahren zur Herstellung von Siliciumhohlkörpern
DE2918066A1 (de) * 1979-05-04 1980-11-13 Siemens Ag Verfahren zur siliciumherstellung durch gasphasenabscheidung unter wiederverwendung der restgase
US5382419A (en) * 1992-09-28 1995-01-17 Advanced Silicon Materials, Inc. Production of high-purity polycrystalline silicon rod for semiconductor applications
JPH06127928A (ja) * 1992-10-20 1994-05-10 Tonen Chem Corp 多結晶シリコンの製造方法
KR100210261B1 (ko) * 1997-03-13 1999-07-15 이서봉 발열반응을 이용한 다결정 실리콘의 제조 방법
DE19882883B4 (de) * 1997-12-15 2009-02-26 Advanced Silicon Materials LLC, (n.d.Ges.d.Staates Delaware), Moses Lake System für die chemische Abscheidung aus der Gasphase zum Herstellen polykristalliner Siliziumstangen
US6544333B2 (en) 1997-12-15 2003-04-08 Advanced Silicon Materials Llc Chemical vapor deposition system for polycrystalline silicon rod production
KR100411180B1 (ko) * 2001-01-03 2003-12-18 한국화학연구원 다결정실리콘의 제조방법과 그 장치
GB0113078D0 (en) * 2001-05-30 2001-07-18 Kvaerner Process Tech Ltd Process and plant
AU2004266934B2 (en) * 2003-08-22 2010-03-11 Tokuyama Corporation Silicon manufacturing apparatus
JP4780271B2 (ja) * 2004-04-30 2011-09-28 三菱マテリアル株式会社 多結晶シリコンの製造方法
DE102004038718A1 (de) * 2004-08-10 2006-02-23 Joint Solar Silicon Gmbh & Co. Kg Reaktor sowie Verfahren zur Herstellung von Silizium
DE502006008382D1 (de) * 2005-03-05 2011-01-05 Jssi Gmbh Reaktor und verfahren zur herstellung von silizium
US20080206970A1 (en) * 2005-04-10 2008-08-28 Franz Hugo Production Of Polycrystalline Silicon
EP1847523A1 (en) * 2006-04-18 2007-10-24 INEOS Phenol GmbH & Co. KG Method for treating phenol
US7820126B2 (en) * 2006-08-18 2010-10-26 Iosil Energy Corporation Method and apparatus for improving the efficiency of purification and deposition of polycrystalline silicon

Also Published As

Publication number Publication date
US20110104035A1 (en) 2011-05-05
CA2722068C (en) 2014-09-23
EP2298701A4 (en) 2013-05-15
JP2011520757A (ja) 2011-07-21
HK1154841A1 (en) 2012-05-04
US9102538B2 (en) 2015-08-11
KR20110020778A (ko) 2011-03-03
JP5668193B2 (ja) 2015-02-12
RU2388690C2 (ru) 2010-05-10
WO2009142538A1 (ru) 2009-11-26
EP2298701B1 (en) 2017-06-28
CN102026919B (zh) 2014-05-28
CA2722068A1 (en) 2009-11-26
UA102244C2 (ru) 2013-06-25
CN102026919A (zh) 2011-04-20
KR101395249B1 (ko) 2014-05-15
EP2298701A1 (en) 2011-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008121922A (ru) Способ получения поликристаллического кремния
JP5406384B2 (ja) 熱化学プロセス用の誘導機構、ならびにそれに関するシステムおよび方法
JP2015071616A (ja) 水素燃料および構造的物質を効率的に生成する化学プロセスおよび反応器、ならびに関連するシステムおよび方法
WO2007018992A3 (en) Recuperative reforming reactor
MX2011006717A (es) Metodo para una operacion ciclica de grupos e hornos de coque compuestos de camaras de horno de coque de "recuperacion de calor".
MY161052A (en) Gas cleaning unit and method for cleaning gas
RU2016135766A (ru) Компактная система селективного каталитического восстановления для восстановления оксида азота в обогащенных кислородом выхлопных газах двигателей внутреннего сгорания мощностью 500-4500 квт
CN207891422U (zh) 一种SiC纤维表面沉积BN界面层的设备
MY180614A (en) Apparatus and method for conversion of silicon tetrachloride to trichlorosilane
MX2014002631A (es) Sistema de generacion de energia electrica a partir de energia termica solar.
WO2012012268A3 (en) Systems and methods for high efficiency regenerative selective cayalytic reduction
CN103835747A (zh) 一种低浓瓦斯综合利用的系统及方法
CN202705048U (zh) 一种石墨烯的连续生产装置
CN102425511B (zh) 碳氢燃料的加热方法
CN205331613U (zh) 用于燃气轮机排气的管道
CN204220028U (zh) 一种高效处理废气的蓄热式催化净化设备
JP2011204722A5 (ru)
CN202881181U (zh) 用于焦炉上升管荒煤气余热回收系统
CN105525996B (zh) 基于降低热应力的排气管道
CN202717584U (zh) 一种石墨烯的生产装置
CN203214199U (zh) 节油器
RU140760U1 (ru) Устройство для утилизации тепловых отходов процесса конверсии природного газа
CN211476792U (zh) 一种简便快捷气体急冷装置
CN203785471U (zh) 一种推板窑炉余热回收利用装置
RU2016142530A (ru) Способ подготовки попутных нефтяных и природных газов для использования в энергоустановках

Legal Events

Date Code Title Description
PC43 Official registration of the transfer of the exclusive right without contract for inventions

Effective date: 20120802

PD4A Correction of name of patent owner