RU2007110719A - Чувствительная к облучению масса - Google Patents
Чувствительная к облучению масса Download PDFInfo
- Publication number
- RU2007110719A RU2007110719A RU2007110719/04A RU2007110719A RU2007110719A RU 2007110719 A RU2007110719 A RU 2007110719A RU 2007110719/04 A RU2007110719/04 A RU 2007110719/04A RU 2007110719 A RU2007110719 A RU 2007110719A RU 2007110719 A RU2007110719 A RU 2007110719A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- radiation
- mass according
- sensitive mass
- alkyl
- sensitive
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G6/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones only
- C08G6/02—Condensation polymers of aldehydes or ketones only of aldehydes with ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
- Fats And Perfumes (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Claims (19)
1. Чувствительная к облучению масса, состоящая из пленкообразующего компонента и полимерных продуктов реакции со слабым запахом, которые состоят из продукта взаимодействия
А) альдегидов общей формулы I
где R означает водород, неразветвленный или разветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода, арильный остаток
и
Б) по крайней мере, одного кетона общей формулы II
где R1 означает неразветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода и
R2=
причем остатки R3 до R7 означают водород, алкил, ОСН3, ОС2Н5, CI, F, COO(C1-С3-алкил), R4 до R6 дополнительно означают ОН, SH
и
В) при необходимости, одного дополнительного СН-кислотного кетона.
2. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве альдегидного компонента А) используют формальдегид, бензальдегид, ацетальдегид, н-бутиральдегид и/или изо-бутиральдегид, валериановый альдегид, а также додеканаль, как таковые или в комбинации.
3. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве кетонного компонента Б) используют ацетофенон и замещенные в ядре производные ацетофенона, как таковые или в комбинации.
4. Чувствительная к облучению масса по п.3, отличающаяся тем, что в качестве замещенных в ядре производных ацетофенона используют гидрокси-, метил-, этил-, трет.-бутил- или циклогексилацетофеноны, как таковые или в комбинации.
5. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве дополнительного СН-кислотного кетонного компонента под обозначением В) используют ацетон, 4-трет.-бутилметил-, метилнафтил-, гидроксинафтил-, метилэтилкетоны, гептан он-2, пентанон-3, метилизобутил-кетон, пропиофенон, циклопентанон, циклододеканон, смеси из 2,2,4-триметилциклопентанона и 2,4,4-триметилциклопентанона, циклогептанон, циклооктанон, циклогексанон и все алкилзамещенные циклогексаноны с одним или несколькими алкильными остатками, которые в сумме содержат 1-8 атомов углерода, как таковые или в комбинации.
6. Чувствительная к облучению масса по п.5, отличающаяся тем, что в качестве алкилзамещенных циклогексанонов используют 4-трет.-амил-, 2-втор.-бутил-, 2-трет.-бутил-, 4-трет.-бутил-, 2-метил- и 3,3,5-триметил-циклогексаноны, как таковые или в комбинации.
7. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что максимум до 9,9 мол.% кетонного компонента В), считая на сумму из Б) и В), может быть заменено бензоином или алкиловым эфиром.
8. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что полимерные продукты реакции из компонентов А), Б) и, при необходимости, В) имеют области плавления между 30 и 160°С, средние молекулярные массы - от 300 до 2000, индексы цвета (по Гарднеру, 50% в этилацетате) меньше 5 и ОН-числа - между 0 и 250 мг КОН/г.
9. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что полимерные продукты реакции из компонентов А), Б) и, при необходимости, В) представлены в чувствительной к облучению массе в долях от 5 до 80 мас.%, считая на всю композицию.
10. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве связующего используют ненасыщенные связующие, способные подвергаться радикальной реакции сшивания.
11. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве пленкообразующего компонента используют ароматические и алифатические уретан-, эпоксиакрилаты, акрилаты сложных полиэфиров, акрилированные полиакрилаты, акрилаты простых полиэфиров, ненасыщенные сложные полиэфиры, алкидные смолы и акрилированные кетоно-формальдегидные смолы, как таковые или в комбинации.
12. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит реакционноспособные разбавители.
13. Чувствительная к облучению масса по п.12, отличающаяся тем, что в качестве реакционноспособных разбавителей используют акриловую, метакриловую кислоты, сложный алкиловый эфир с 1-40 атомами углерода, циклоалкиловый эфир метакриловой кислоты, акриловой кислоты, глицидилметакрилат, глицидил-, 1,2-эпоксибутилакрилаты, 1,2-эпоксибутил-метакрилат, 2,3-эпоксициклопентилакрилат, 2,3-эпоксициклопентил-метакрилат, а также аналоги амидов, стирол и его прозводные, ди-, три- и/или тетраакрилаты и их метакриловые аналоги, которые обычно получаются из продуктов взаимодействия акриловой или метакриловой кислоты и спиртового компонента с отщеплением воды, как таковые или в комбинации.
14. Чувствительная к облучению масса по п.13, отличающаяся тем, что в качестве спиртового компонента в случае реакционноспособных разбавителей используют этиленгликоль, 1,2-пропандиол, 1,3-пропандиол, диэтилен-, дипропилен- и трипропилен-, триэтилен-, тетраэтиленгликоли, 1,2-бутандиол, 1,4-бутандиол, 1,3-бутилэтил-, 1,3-метилпропандиолы, 1,5-пентандиол, бис-(1,4-гидрокси-метил)циклогексан (циклогександиметанол), глицерин, гександиол, неопентилгликоль, триметилолэтан, триметилол-пропан, пентаэритрит, бисфенол А, В, С, F, норборниленгликолъ, 1,4-бензилдиметанол, 1,4-бензилдиэтанол, 2,4-диметил-2-этилгексан-1,3-диол, 1,4-бутиленгликоль и 2,3-бутиленгликоль, ди-β-гидроксиэтилбутандиол, 1,5-пентандиол, 1,6-гександиол, 1,8-октандиол, декандиол, додекандиол, неопентилгликоль, циклогександиол, триметилолпропан, 3(4),8(9)-бис-(гидроксиметил)-трицикло[5.2.1.02,6]декан (дицидол), 2,2-бис-(4-гидрокси-циклогексил)пропан, 2,2-бис-[4-(β-гидроксиэтокси)фенил]пропан, 2-метил-пропандиол-1,3, 2-метилпентандиол-1,5, 2,2,4(2,4,4)-триметилгександиол-1,6, гексантриол-1,2,6, бутантриол-1,2,4, трис-(β-гидроксиэтил)изоцианурат, маннит, сорбит, полипропилен-, полибутиленгликоли, ксилиленгликоль или неопентилгликолевый эфир гидроксипивалиновой кислоты, как таковые или в смесях.
15. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит другие фотоинициаторы и/или фотосенсибилизаторы.
16. Чувствительная к облучению масса по п.15, отличающаяся тем, что в качестве фотоинициаторов и/или фотосенсибилизаторов применяют фенилглиоксилаты, бензофеноны, α-гидроксикетоны, α-аминокетоны, бензилдиметилкетали, моноацилфосфины, третичные амины, бисацил-фосфины, металлоцены и бисацилкетоны, как таковые или в комбинации.
17. Способ получения чувствительной к облучению массы, отличающийся тем, что используют пленкообразующий компонент и полимерные продукты реакции со слабым запахом, состоящие из продукта взаимодействия
А) альдегидов общей формулы I
где R означает водород, неразветвленный или разветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода, арильный остаток
и
Б) по крайней мере, одного кетона общей формулы II
где R1 означает неразветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода
и R2=
причем остатки R3 до R7 означают водород, алкил, ОСН3, OC2H5, CI, F, COO(C1-С3-алкил), R4 до R6 дополнительно означают ОН, SH
и
В) при необходимости, одного дополнительного СН-кислотного кетона.
18. Применение чувствительной к облучению массы по одному из пп.1-16 в материалах для покрытий, клеях, печатных красках и чернилах, поверхностных покрытиях, политурах, лазурях, пигментных пастах, шпатлевках, косметических товарах и/или герметиках и изоляционных материалах.
19. Применение чувствительной к облучению массы по п.18, причем масса дополнительно содержит вспомогательные вещества или добавки, ингибиторы, воду и/или органические растворители, нейтрализаторы, поверхностно-активные вещества, акцепторы кислорода и/или свободных радикалов, катализаторы, светостабилизаторы, осветлители цвета, тиксотропные средства, средства для предупреждения образования поверхностной пленки, пеногасители, антистатики, загустители, термопластичные добавки, красители, пигменты, средства, повышающие огнестойкость, внутренние смазки, наполнители и/или вспенивающие агенты, как таковые или в комбинации.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004041197A DE102004041197A1 (de) | 2004-08-26 | 2004-08-26 | Strahlungsempfindliche Masse |
DE102004041197.2 | 2004-08-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2007110719A true RU2007110719A (ru) | 2008-10-10 |
Family
ID=35262139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2007110719/04A RU2007110719A (ru) | 2004-08-26 | 2005-07-28 | Чувствительная к облучению масса |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090048363A1 (ru) |
EP (1) | EP1786871A1 (ru) |
JP (1) | JP2008510867A (ru) |
KR (1) | KR20070053297A (ru) |
CN (1) | CN1878842A (ru) |
AU (1) | AU2005276518A1 (ru) |
BR (1) | BRPI0514281A (ru) |
CA (1) | CA2578032A1 (ru) |
DE (1) | DE102004041197A1 (ru) |
MA (1) | MA28856B1 (ru) |
RU (1) | RU2007110719A (ru) |
TN (1) | TNSN07073A1 (ru) |
WO (1) | WO2006021479A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006045041A1 (de) * | 2006-09-25 | 2008-03-27 | Evonik Degussa Gmbh | Strahlenhärtbare Formulierung, die zu flexiblen Beschichtungen mit erhöhtem Korrosionsschutz auf Metalluntergründen führt |
DE102010025769A1 (de) * | 2010-07-01 | 2012-01-05 | Basf Coatings Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer farb- und/oder effektgebenden mehrschichtigen Lackierung |
CN105517990B (zh) | 2013-08-12 | 2018-10-02 | 太阳化学公司 | 低聚氨基酮及其作为光敏引发剂的用途 |
EP3243863A1 (de) | 2016-05-09 | 2017-11-15 | Evonik Degussa GmbH | Verwendung von block-copolymeren in klebstoffen |
US10287448B2 (en) | 2016-07-08 | 2019-05-14 | Evonik Degussa Gmbh | Universal pigment preparation |
CN110003411B (zh) * | 2019-04-03 | 2021-05-07 | 北京化工大学 | 缩聚大分子光引发剂的制备方法及制备得到的光引发剂 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4344125A1 (de) * | 1993-12-23 | 1995-06-29 | Basf Lacke & Farben | Strahlenhärtbare Schutzlackierung, insbesondere für metallisierte Oberflächen |
DE19944373A1 (de) * | 1999-09-16 | 2001-03-22 | Degussa | Katalysator und Verfahren zur Herstellung von farbreduzierten isocyanuratgruppenhaltigen Polyisocyananten |
DE10033099A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von geruchsarmen und lagerstabilen monomerhaltigen Polyisocyanuraten aus Isophorondiisocyanat |
DE10047762A1 (de) * | 2000-09-27 | 2002-04-11 | Degussa | Pulverförmige, wasserdispergierbare blockierte Polyisocyanataddukte, ein Verfahren zur Herstellung und ihre Verwendung |
DE10065176A1 (de) * | 2000-12-23 | 2002-06-27 | Degussa | Katalysator und Verfahren zur Herstellung von niedrigviskosen und farbreduzierten isocyanuratgruppenhaltigen Polyisocyanaten |
DE10163783A1 (de) * | 2001-12-22 | 2003-07-03 | Degussa | Verfahren zur Herstellung epoxidierter Polyalkenylene und Verwendung von Phosphonsäuren und deren Derivaten als Katalysator |
DE10212706A1 (de) * | 2002-03-21 | 2003-10-02 | Degussa | Ungesättigte, amorphe Polyester auf Basis bestimmter Dicidolisomerer |
US6974482B2 (en) * | 2002-11-22 | 2005-12-13 | Zimmer Austin, Inc. | Implantable orthopedic prosthesis with textured polymeric surfaces |
DE10258574A1 (de) * | 2002-12-14 | 2004-07-01 | Degussa Ag | Polymermodifizierte Harze |
DE10258573A1 (de) * | 2002-12-14 | 2004-07-01 | Degussa Ag | Polymermodifizierte Harze |
DE10261005A1 (de) * | 2002-12-24 | 2004-07-08 | Degussa Ag | Dispersionen amorpher, urethanisierter ungesättigter Polyesterharze auf Basis bestimmter Dicidolisomerer |
DE10261006A1 (de) * | 2002-12-24 | 2004-07-08 | Degussa Ag | Dispersionen amorpher, ungesättigter Polyesterharze auf Basis bestimmter Dicidolisomerer |
DE10322845A1 (de) * | 2003-05-19 | 2004-12-16 | Degussa Ag | Verzweigte,amorphe Makropolyole auf Polyesterbasis mit enger Molekulargewichtsverteilung |
DE10338562A1 (de) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Degussa Ag | Strahlenhärtbare Harze auf Basis von Keton- und/oder Harnstoff-Aldehydharzen und ein Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE102004005208A1 (de) * | 2004-02-03 | 2005-08-11 | Degussa Ag | Verwendung strahlenhärtbarer Harze auf Basis hydrierter Keton- und Phenol-Aldehydharze |
DE102004005207A1 (de) * | 2004-02-03 | 2005-08-11 | Degussa Ag | Verwendung strahlenhärtbarer Harze auf Basis von Keton- und/oder Harnstoff-Aldehydharzen |
-
2004
- 2004-08-26 DE DE102004041197A patent/DE102004041197A1/de not_active Withdrawn
-
2005
- 2005-07-28 WO PCT/EP2005/053678 patent/WO2006021479A1/de active Application Filing
- 2005-07-28 KR KR1020077006670A patent/KR20070053297A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-07-28 CA CA002578032A patent/CA2578032A1/en not_active Abandoned
- 2005-07-28 CN CNA2005800012313A patent/CN1878842A/zh active Pending
- 2005-07-28 US US11/574,197 patent/US20090048363A1/en not_active Abandoned
- 2005-07-28 JP JP2007528813A patent/JP2008510867A/ja not_active Withdrawn
- 2005-07-28 RU RU2007110719/04A patent/RU2007110719A/ru unknown
- 2005-07-28 AU AU2005276518A patent/AU2005276518A1/en not_active Abandoned
- 2005-07-28 EP EP05777830A patent/EP1786871A1/de not_active Withdrawn
- 2005-07-28 BR BRPI0514281-4A patent/BRPI0514281A/pt not_active Application Discontinuation
-
2007
- 2007-02-23 TN TNP2007000073A patent/TNSN07073A1/en unknown
- 2007-03-09 MA MA29746A patent/MA28856B1/fr unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2578032A1 (en) | 2006-03-02 |
AU2005276518A1 (en) | 2006-03-02 |
KR20070053297A (ko) | 2007-05-23 |
CN1878842A (zh) | 2006-12-13 |
DE102004041197A1 (de) | 2006-03-02 |
JP2008510867A (ja) | 2008-04-10 |
US20090048363A1 (en) | 2009-02-19 |
BRPI0514281A (pt) | 2008-06-10 |
MA28856B1 (fr) | 2007-09-03 |
WO2006021479A1 (de) | 2006-03-02 |
EP1786871A1 (de) | 2007-05-23 |
TNSN07073A1 (en) | 2008-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2007110719A (ru) | Чувствительная к облучению масса | |
AU2014288876B2 (en) | Liquid bisacylphosphine oxide photoinitiator | |
HUE035653T2 (en) | Inkjet printing ink containing N-vinyl oxazolidinone | |
JP6420403B2 (ja) | 光活性樹脂、放射線硬化性組成物および放射線硬化性インク | |
JP2023517196A (ja) | 光開始剤を含む硬化性組成物 | |
US20050287476A1 (en) | Photocurable ink-jet ink, ink-jet image forming method and ink-jet recording apparatus using the same | |
US7279200B2 (en) | Process for producing coatings using surface-active photoinitiators | |
US7868054B2 (en) | Phenylglyoxalic esters generated by photolysis of low migratable fragments | |
JP2020521837A (ja) | 硬化性組成物及びその使用 | |
SE539314C2 (en) | Radiation curing composition | |
KR101081758B1 (ko) | 신규한 표면 활성 폴리실록산 광개시제 | |
JP6672432B1 (ja) | インク組成物およびインク組成物による印刷物の金属調を予測する方法 | |
JP6720648B2 (ja) | 新規脂環式エポキシ化合物および硬化性組成物 | |
KR20230134536A (ko) | 중합성 티오크산톤 광개시제 | |
JP2007056186A (ja) | 硬化性組成物、それを使用した活性エネルギー線硬化性印刷インキ及びその印刷物 | |
WO2023126369A1 (en) | Polymeric cycloaliphatic epoxides | |
JPWO2018143299A1 (ja) | 光造形用インクセット、光造形品、及び、光造形品の製造方法 | |
AU2005276517A1 (en) | Products resulting from polymer-analogous reactions | |
EP4301742A1 (en) | Type-ii photoinitiators | |
JP2010163523A (ja) | 活性エネルギー線硬化型コーティングワニスおよびその印刷物 | |
WO2006134766A1 (ja) | 活性エネルギー線硬化型フレキソインキ及び活性エネルギー線硬化型グラビアインキ | |
JP2003261673A (ja) | 紫外線硬化型組成物 | |
JPH0446945B2 (ru) |