RU2006121411A - Способ выращивания кристаллов и устройство для его осуществления - Google Patents
Способ выращивания кристаллов и устройство для его осуществления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2006121411A RU2006121411A RU2006121411/15A RU2006121411A RU2006121411A RU 2006121411 A RU2006121411 A RU 2006121411A RU 2006121411/15 A RU2006121411/15 A RU 2006121411/15A RU 2006121411 A RU2006121411 A RU 2006121411A RU 2006121411 A RU2006121411 A RU 2006121411A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- melt
- crystal
- crucible
- diameter
- coefficient
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Claims (5)
1. Способ выращивания кристаллов, включающий нагрев с контролем температуры, добавление гранулированной шихты в тигель посредством дозатора, подвод затравки к поверхности расплава, установка высоты мениска расплава h, вытягивание вверх вращающегося затравочного кристалла и автоматический контроль диаметра выращиваемого кристалла, диаметр выращиваемого кристалла регулируют за счет коррекции скорости подпитки уровня расплава и мощности подводимой к донному нагревателю, отличающийся тем, что уровень расплава поддерживают в течение всего процесса, равным или меньшим , где g=9,8 м/с2 - ускорение свободного падения, α - температурный коэффициент объемного расширения, h - высота столбика расплава оттянутого кристаллом, ΔT - разность температур на дне тигля и на фронте кристаллизации, k - температуропроводность расплава , λ - теплопроводность расплава, ρ - плотность расплава, C - теплоемкость расплава при постоянном давлении, v - кинематическая вязкость расплава.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в процессе выращивания контролируют одновременно диаметр кристалла по датчику изображения с обратной связью через температуру дна тигля и уровень расплава по датчику уровня расплава с обратной связью через скорость подпитки.
3. Устройство для выращивания кристаллов методом Чохральского, включающее двойной концентрический тигель с внешней и внутренней частью и устройством для регулируемой подпитки уровня расплава, затравкодержатель, отличающееся тем, что высота стенок частей тигля меньше , где R - радиус кристалла, μ - коэффициент теплоотвода с поверхности кристалла, λ - коэффициент теплопроводности кристалла, внутренняя стенка центрирована относительно наружной тремя плоскими выступами, максимальный диаметр выращиваемого кристалла на 4а меньше диаметра внутренней части тигля, где а - капиллярная постоянная расплава.
5. Устройство по п.3, отличающееся тем, что использованы средства для независимого нагрева тепловой трубы, расположенной над тиглем.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2006121411/15A RU2320791C1 (ru) | 2006-06-08 | 2006-06-08 | Способ выращивания кристаллов и устройство для его осуществления |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2006121411/15A RU2320791C1 (ru) | 2006-06-08 | 2006-06-08 | Способ выращивания кристаллов и устройство для его осуществления |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2006121411A true RU2006121411A (ru) | 2008-01-10 |
RU2320791C1 RU2320791C1 (ru) | 2008-03-27 |
Family
ID=39019568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2006121411/15A RU2320791C1 (ru) | 2006-06-08 | 2006-06-08 | Способ выращивания кристаллов и устройство для его осуществления |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2320791C1 (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112176395A (zh) * | 2020-10-13 | 2021-01-05 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种优质大尺寸BiBO晶体熔盐法生长的装置和方法 |
CN113106548A (zh) * | 2021-04-08 | 2021-07-13 | 东莞理工学院 | 一种pzn基大尺寸三元高性能单晶、生长方法及熔盐炉 |
-
2006
- 2006-06-08 RU RU2006121411/15A patent/RU2320791C1/ru not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112176395A (zh) * | 2020-10-13 | 2021-01-05 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种优质大尺寸BiBO晶体熔盐法生长的装置和方法 |
CN113106548A (zh) * | 2021-04-08 | 2021-07-13 | 东莞理工学院 | 一种pzn基大尺寸三元高性能单晶、生长方法及熔盐炉 |
CN113106548B (zh) * | 2021-04-08 | 2021-09-14 | 东莞理工学院 | 一种pzn基大尺寸三元高性能单晶、生长方法及熔盐炉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2320791C1 (ru) | 2008-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5909276B2 (ja) | 最初のチャージだけをドーピングすることによる、均一にドーピングされたシリコンインゴットの成長 | |
JP2008531444A5 (ru) | ||
JP2012508153A (ja) | 単結晶ゲルマニウムの結晶成長システム、方法および基板 | |
CN101311332B (zh) | 结晶区温度梯度调节器与坩埚下降法单晶生长装置 | |
CN215800034U (zh) | 一种单晶炉加料系统 | |
CN104862775A (zh) | 一种蓝宝石晶体半球罩的生长装置及其生长方法 | |
RU2006121411A (ru) | Способ выращивания кристаллов и устройство для его осуществления | |
RU2009136918A (ru) | СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МЕТОДОМ ОТФ Cd1-xZnxTe, ГДЕ 0≤x≤1, ДИАМЕТРОМ ДО 150 мм | |
RU2330126C2 (ru) | СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ Cd1-xZnxTe, где 0≤x≤1 | |
KR20120116091A (ko) | 피드유닛 및 이를 구비하는 잉곳 성장장치 | |
JP2005001977A (ja) | チョクラルスキー法による原料供給装置および原料供給方法 | |
JP2010222162A (ja) | ドープ剤供給装置及び半導体単結晶製造装置 | |
JPS58130195A (ja) | 単結晶シリコン引上装置 | |
RU2007112010A (ru) | Способ выращивания полых цилиндрических монокристаллов кремния на основе способа чохральского и устройство для его осуществления | |
JP4916425B2 (ja) | 結晶成長方法およびその装置 | |
TWI732376B (zh) | 連續直拉單晶生長設備 | |
CN109943883A (zh) | 柴可拉斯基生长装置转换配件 | |
RU2381305C1 (ru) | СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ ГЕРМАНИЯ ДИАМЕТРОМ ДО 150 мм МЕТОДОМ ОТФ | |
RU2009104734A (ru) | Способ выращивания кристаллов бестигельным методом и устройство для его реализации | |
RU2791643C1 (ru) | Способ выращивания монокристаллов германия или кремния и устройство для его реализации | |
JP2002060296A (ja) | 単結晶製造用るつぼおよび単結晶製造装置ならびにこれを用いた単結晶の製造方法 | |
JP3042097B2 (ja) | 単結晶の育成装置及び育成方法 | |
JPH11255577A (ja) | シリコン単結晶の引上げ装置及びその引上げ方法 | |
JPH02172885A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JPH11255576A (ja) | シリコン単結晶の引上げ装置及びその引上げ方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20130609 |