RU2006117450A - Способы создания бетатронной вакуумной камеры и инжектора - Google Patents
Способы создания бетатронной вакуумной камеры и инжектораInfo
- Publication number
- RU2006117450A RU2006117450A RU2006117450/06A RU2006117450A RU2006117450A RU 2006117450 A RU2006117450 A RU 2006117450A RU 2006117450/06 A RU2006117450/06 A RU 2006117450/06A RU 2006117450 A RU2006117450 A RU 2006117450A RU 2006117450 A RU2006117450 A RU 2006117450A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- parts
- injector
- emitter
- item
- combination
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 23
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 3
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005219 brazing Methods 0.000 claims 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 claims 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 claims 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/14—Vacuum chambers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H11/00—Magnetic induction accelerators, e.g. betatrons
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Claims (40)
1. Устройство структуры бетатрона, содержащее тороидальную вакуумную камеру, причем вакуумная камера составлена из двух или более частей, соединенных вместе; инжектор, размещенный внутри вакуумной камеры, и два или более магнитов, размещенных снаружи вакуумной камеры.
2. Устройство по п.1, в котором мишень расположена внутри упомянутой вакуумной камеры.
3. Устройство по п.1, в котором упомянутые две или более части составлены из стекла, пирекса, силиконовых материалов, керамики, композитов или их сочетания.
4. Устройство по п.1, в котором, по меньшей мере, одна из упомянутых двух или более частей покрыта подходящим покрытием с активным сопротивлением.
5. Устройство по п.1, в котором, по меньшей мере, одна из упомянутых двух или более частей легирована до надлежащей удельной проводимости.
6. Устройство по п.1, в котором, по меньшей мере, одна из упомянутых двух или более частей покрыта и легирована до надлежащей удельной проводимости.
7. Устройство по п.1, в котором форма упомянутым двум или более частям придается с помощью ультразвуковой и гидромониторной обработки, механической обработки, шлифования, формовки, струйного или фототравления, методик изготовления MEMS или их сочетания.
8. Устройство по п.1, в котором упомянутый инжектор выполнен заодно с одной из упомянутых двух или более частей.
9. Устройство по п.1, в котором упомянутый инжектор установлен на одной из упомянутых двух или более частей.
10. Устройство по п.1, в котором упомянутый инжектор прикреплен к одной из упомянутых двух или более частей.
11. Устройство по п.1, в котором упомянутые две или более части соединены с помощью пайки твердым припоем, анодного соединения, уплотнения стеклоприпоем, ультразвуковой сварки или плавки или их сочетания.
12. Устройство по п.11, в котором упомянутое крепление представляет собой металлический припой, который выступает в качестве электрического соединения.
13. Устройство по п.1, дополнительно содержащее один или несколько электрических выводов, проходящих через, по меньшей мере, одну из упомянутых двух или более частей.
14. Устройство по п.13, в котором упомянутые один или более выводов запаяны.
15. Устройство по п.14, в котором упомянутое запаивание выполняют с помощью анодного соединения, уплотнения стеклоприпоем, ультразвуковой сварки или плавки или их сочетания.
16. Устройство по п.1, в котором упомянутый инжектор включает в себя эмиттер.
17. Устройство по п.16, в котором упомянутым эмиттером является автоэлектронный эмиттер.
18. Устройство по п.17, в котором упомянутый автоэлектронный эмиттер выбирается из группы, состоящей из матрицы с полевой эмиссией и эмиттера на углеродных нанотрубках.
19. Устройство по п.16, в котором упомянутым эмиттером является термоионный эмиттер.
20. Устройство по п.19, в котором упомянутый термоионный эмиттер выбирается из группы, состоящей из диспенсерного катода, катода LaB6 или вольфрамового катода.
21. Способ производства структуры бетатрона, при этом способ содержит этапы, на которых a) изготовливают две или более части; b) размещают инжектор на одной из упомянутых двух или более частей; c) соединяют упомянутые две или более части, так чтобы при соединении формировалась полая тороидальная камера.
22. Способ по п.21, дополнительно содержащий этап, на котором размещают мишень в упомянутой камере.
23. Способ по п.21, дополнительно содержащий этап, на котором прикрепляют упомянутый инжектор к, по меньшей мере, одной из упомянутых двух или более частей.
24. Способ по п.21, в котором упомянутые две или более части составлены из стекла, пирекса, материалов на основе кремния, керамики, композитов или их сочетания.
25. Способ по п.24, в котором, по меньшей мере, одна из двух или более частей легирована до надлежащей удельной проводимости.
26. Способ по п.24, дополнительно содержащий этап, на котором перед соединением покрывают, по меньшей мере, одну из двух или более частей подходящим покрытием с активным сопротивлением.
27. Способ по п.25, дополнительно содержащий этап, на котором перед соединением покрывают, по меньшей мере, одну из двух или более частей подходящим покрытием с активным сопротивлением.
28. Способ по п.21, дополнительно содержащий этап, на котором придают форму упомянутым двум или более частям с помощью ультразвуковой и гидромониторной обработки, механической обработки, шлифования, формовки, струйного или фототравления, методик изготовления MEMS или их сочетания.
29. Способ по п.21, дополнительно содержащий этап, на котором формируют упомянутый инжектор заодно с одной из упомянутых двух или более частей.
30. Способ по п.21, дополнительно содержащий этап, на котором устанавливают упомянутый инжектор на одной из упомянутых двух или более частей.
31. Способ по п.21, дополнительно содержащий этап, на котором прикрепляют упомянутый инжектор к одной из упомянутых двух или более частей.
32. Способ по п.21, в котором соединение упомянутых двух или более частей включает в себя этап, на котором используют методики пайки твердым припоем, анодного соединения, уплотнения стеклоприпоем, ультразвуковой сварки или плавки или их сочетание.
33. Способ по п.21, дополнительно содержащий этап, на котором формируют один или несколько электрических выводов, проходящих через, по меньшей мере, одну из упомянутых двух или более частей.
34. Способ по п.33, дополнительно содержащий этап, на котором запаивают упомянутый один или несколько выводов.
35. Способ по п.34, в котором запаивание включает в себя этап, на котором используют методики анодного соединения, уплотнения стеклоприпоем, ультразвуковой сварки или плавки или их сочетание.
36. Способ по п.21, в котором упомянутый инжектор включает в себя эмиттер.
37. Способ по п.36, дополнительно содержащий этап, на котором формируют автоэлектронный эмиттер на упомянутом инжекторе.
38. Способ по п.37, дополнительно содержащий этап, на котором формируют автоэлектронный эмиттер, выбираемый из группы, состоящей из матрицы с полевой эмиссией и эмиттера на углеродных нанотрубках.
39. Способ по п.36, дополнительно содержащий этап, на котором формируют термоионный эмиттер на упомянутом инжекторе.
40. Способ по п.39, дополнительно содержащий этап, на котором формируют термоионный эмиттер, выбираемый из группы, состоящей из диспенсерного катода, катода LaB6 или вольфрамового катода.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US68383305P | 2005-05-23 | 2005-05-23 | |
| US60/683,833 | 2005-05-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2006117450A true RU2006117450A (ru) | 2007-11-27 |
| RU2434369C2 RU2434369C2 (ru) | 2011-11-20 |
Family
ID=36660274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2006117450/06A RU2434369C2 (ru) | 2005-05-23 | 2006-05-22 | Структура бетатрона и способ производства структуры бетатрона |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7675252B2 (ru) |
| CA (1) | CA2547222A1 (ru) |
| GB (1) | GB2426626B (ru) |
| RU (1) | RU2434369C2 (ru) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7336764B2 (en) * | 2005-10-20 | 2008-02-26 | Agilent Technologies, Inc. | Electron beam accelerator and ceramic stage with electrically-conductive layer or coating therefor |
| US7928672B2 (en) * | 2007-09-19 | 2011-04-19 | Schlumberger Technology Corporation | Modulator for circular induction accelerator |
| US8063356B1 (en) | 2007-12-21 | 2011-11-22 | Schlumberger Technology Corporation | Method of extracting formation density and Pe using a pulsed accelerator based litho-density tool |
| US8321131B2 (en) * | 2007-12-14 | 2012-11-27 | Schlumberger Technology Corporation | Radial density information from a Betatron density sonde |
| US7638957B2 (en) * | 2007-12-14 | 2009-12-29 | Schlumberger Technology Corporation | Single drive betatron |
| US8035321B2 (en) * | 2007-12-14 | 2011-10-11 | Schlumberger Technology Corporation | Injector for betatron |
| US7916838B2 (en) * | 2007-12-14 | 2011-03-29 | Schlumberger Technology Corporation | Betatron bi-directional electron injector |
| US8311186B2 (en) * | 2007-12-14 | 2012-11-13 | Schlumberger Technology Corporation | Bi-directional dispenser cathode |
| US8362717B2 (en) * | 2008-12-14 | 2013-01-29 | Schlumberger Technology Corporation | Method of driving an injector in an internal injection betatron |
| US9638681B2 (en) | 2011-09-30 | 2017-05-02 | Schlumberger Technology Corporation | Real-time compositional analysis of hydrocarbon based fluid samples |
| US10590919B2 (en) * | 2013-11-04 | 2020-03-17 | Aerojet Rocketdyne, Inc. | Ground based systems and methods for testing reaction thrusters |
| GB2585647A (en) * | 2019-07-08 | 2021-01-20 | Univ Strathclyde | Vapour cell |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2697167A (en) * | 1945-11-08 | 1954-12-14 | Univ Illinois | Induction accelerator |
| US2545958A (en) * | 1946-03-22 | 1951-03-20 | Univ Illinois | Induction accelerator |
| GB632139A (en) | 1948-01-30 | 1949-11-16 | British Thomson Houston Co Ltd | Improvements relating to the production of hollow annular glass bodies |
| US2822490A (en) * | 1955-01-14 | 1958-02-04 | Allis Chalmers Mfg Co | Combination electron x-ray beam tube for a betatron |
| GB1150337A (en) | 1967-01-28 | 1969-04-30 | Ferranti Ltd | Improvements relating to Particle Accelerators |
| GB1268868A (en) | 1969-08-08 | 1972-03-29 | Tom Politekhn I Im S M Kirova | Betatron |
| FR2184514B1 (ru) * | 1972-05-19 | 1974-07-26 | Thomson Csf | |
| US4739214A (en) * | 1986-11-13 | 1988-04-19 | Anatech Ltd. | Dynamic electron emitter |
| US5122662A (en) * | 1990-10-16 | 1992-06-16 | Schlumberger Technology Corporation | Circular induction accelerator for borehole logging |
| WO1998057335A1 (en) * | 1997-06-10 | 1998-12-17 | Adelphi Technology, Inc. | Thin radiators in a recycled electron beam |
-
2006
- 2006-05-10 US US11/431,317 patent/US7675252B2/en active Active
- 2006-05-17 GB GB0609720A patent/GB2426626B/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-17 CA CA002547222A patent/CA2547222A1/en not_active Abandoned
- 2006-05-22 RU RU2006117450/06A patent/RU2434369C2/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2426626B (en) | 2009-12-30 |
| RU2434369C2 (ru) | 2011-11-20 |
| US20060261759A1 (en) | 2006-11-23 |
| GB2426626A (en) | 2006-11-29 |
| CA2547222A1 (en) | 2006-11-23 |
| GB0609720D0 (en) | 2006-06-28 |
| US7675252B2 (en) | 2010-03-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2006117450A (ru) | Способы создания бетатронной вакуумной камеры и инжектора | |
| JP5128752B2 (ja) | 透過型ｘ線管及びその製造方法 | |
| US8952772B2 (en) | Electromagnetic contactor and electromagnetic contactor gas encapsulating method | |
| JP4843012B2 (ja) | 圧電デバイスとその製造方法 | |
| EP1953818B1 (en) | Electronic component mounting board | |
| JPH11167887A (ja) | Ｘ線管 | |
| KR20100102039A (ko) | 세라믹제 방전 램프 및 세라믹제 방전 램프의 제조 방법 | |
| JP4920214B2 (ja) | 電子部品用パッケージとその製造方法 | |
| JPH09181207A (ja) | 金属製の容器体およびパッケージ | |
| KR102340337B1 (ko) | 초소형 원통형 엑스선 튜브 제조 방법 | |
| JP4012764B2 (ja) | 貫通端子およびｘ線管 | |
| CN105731357B (zh) | 一体化吸气型陶瓷封装管壳 | |
| JP6372822B2 (ja) | 放電管の製造方法及び放電管 | |
| JP5342127B2 (ja) | 発光装置 | |
| CN111128643B (zh) | 整体瓷式小型化行波管电子枪 | |
| JP2006522454A (ja) | マイクロチャネルプレートの拡散接合方法 | |
| JP2009267867A (ja) | 圧電デバイスの製造方法 | |
| JP2006060256A (ja) | セラミックス製電極部材 | |
| JP3493293B2 (ja) | 気密セラミック端子 | |
| JPH07138785A (ja) | 光モジュールパッケージ | |
| JP2007335269A (ja) | 真空蛍光管 | |
| JP4359625B2 (ja) | 発光装置 | |
| KR20200064481A (ko) | 세라믹 히터의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 세라믹 히터 | |
| JPH0675376B2 (ja) | マグネトロンの製造方法 | |
| JP2004079525A5 (ru) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20130523 |