RU2004138096A - Способ нанесения гальванического покрытия на кристаллизатор установки непрерывной разливки - Google Patents

Способ нанесения гальванического покрытия на кристаллизатор установки непрерывной разливки Download PDF

Info

Publication number
RU2004138096A
RU2004138096A RU2004138096/02A RU2004138096A RU2004138096A RU 2004138096 A RU2004138096 A RU 2004138096A RU 2004138096/02 A RU2004138096/02 A RU 2004138096/02A RU 2004138096 A RU2004138096 A RU 2004138096A RU 2004138096 A RU2004138096 A RU 2004138096A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
mold
coating
electrolyte
anode
copper
Prior art date
Application number
RU2004138096/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2318631C2 (ru
Inventor
Адриан ШТИЛЛИ (CH)
Адриан ШТИЛЛИ
Original Assignee
Конкаст Аг (Ch)
Конкаст Аг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Конкаст Аг (Ch), Конкаст Аг filed Critical Конкаст Аг (Ch)
Publication of RU2004138096A publication Critical patent/RU2004138096A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2318631C2 publication Critical patent/RU2318631C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22DCASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D11/00Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
    • B22D11/04Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths into open-ended moulds
    • B22D11/059Mould materials or platings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/10Agitating of electrolytes; Moving of racks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/04Electroplating with moving electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/04Tubes; Rings; Hollow bodies
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Continuous Casting (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Mold Materials And Core Materials (AREA)

Claims (13)

1. Способ нанесения гальванического покрытия на кристаллизатор (2) установки непрерывной разливки, при котором ограничивающие формовочную полость (3) внутренние поверхности (4) кристаллизатора (2) покрывают материалом покрытия для получения или восстановления заданного размера формовочной полости, при этом кристаллизатор (2) используют в качестве катода и применяют расположенный в формовочной полости (3) анод (7) и содержащий материал покрытия электролит (25), отличающийся тем, что через формовочную полость (3) кристаллизатора (2) пропускают управляемый поток электролита (25), при этом электролит служит носителем материала покрытия, причем посредством устройства выпрямителя, выполненного с возможностью смены полюсов, периодически изменяют направление тока, и при этом, посредством соответствующего выбора этого периодического изменения, добиваются равномерного нанесения слоя покрытия.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве материала покрытия используют медь, никель или хром, которые добавляют в электролит (25) порциями в виде оксида.
3. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что используют метансульфокислотный, цианидный или сернокислотный электролит (25).
4. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что используют нерастворимый анод (7), который может быть выполнен как многоразовый анод из покрытого платиной или смешанной керамикой титанового материала, или из свинца.
5. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что электролит (25) с помощью насоса (16) закачивают в ограниченный внутренними поверхностями (4) формовочной полости (3), закрытый с торцевых сторон донной и головной деталями (6, 5), реакторный объем и отводят из него обратно к насосу (16).
6. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что анод (7) и/или кристаллизатор (2) выполнены с возможностью вращения вокруг их продольной оси во время нанесения покрытия.
7. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что кристаллизатор (2) перед нанесением покрытия очищают посредством процесса промывания, в частности, каскадной промывкой.
8. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что кристаллизатор (2) для нанесения покрытия и, преимущественно, для промывания герметизируют.
9. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что кристаллизатор (2) выполнен из одного металлического материала или соединения таких материалов, как медь, алюминий или никель, из одного синтетического материала или соединения синтетических материалов, или из керамического материала.
10. Способ по п.1, отличающийся тем, что при применении меди для реакции используют покупной оксид меди с высоким содержанием хлора, которое понижают с помощью процесса промывки/растворения.
11. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что покрытие на кристаллизатор (2) наносят только или усиленно в определенных областях, в которых при эксплуатации происходит повышенный износ.
12. Способ по п.1, отличающийся тем, что материал покрытия, как, например, медь, никель или хром используют как анод.
13. Способ по одному из п.1 или 2, отличающийся тем, что во время процесса нанесения покрытия частицы материала покрытия проводят посредством электромагнитных полей таким образом, что в определенных областях, в особенности, в краевых областях кристаллизатора осаждаются слои одинаковой толщины, как и в остальных областях.
RU2004138096/02A 2002-05-27 2003-05-19 Способ нанесения гальванического покрытия на кристаллизатор установки непрерывной разливки RU2318631C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH8762002 2002-05-27
CH20020876/02 2002-05-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2004138096A true RU2004138096A (ru) 2005-06-10
RU2318631C2 RU2318631C2 (ru) 2008-03-10

Family

ID=29555531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2004138096/02A RU2318631C2 (ru) 2002-05-27 2003-05-19 Способ нанесения гальванического покрытия на кристаллизатор установки непрерывной разливки

Country Status (13)

Country Link
EP (1) EP1507612B1 (ru)
JP (1) JP5008111B2 (ru)
KR (1) KR101082896B1 (ru)
CN (1) CN100335200C (ru)
AU (1) AU2003236679B2 (ru)
BR (1) BR0311374B1 (ru)
CA (1) CA2504369C (ru)
ES (1) ES2452727T3 (ru)
MX (1) MXPA04011734A (ru)
PL (1) PL206254B1 (ru)
RU (1) RU2318631C2 (ru)
WO (1) WO2003099490A1 (ru)
ZA (1) ZA200408991B (ru)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9039401B2 (en) 2006-02-27 2015-05-26 Microcontinuum, Inc. Formation of pattern replicating tools
US9307648B2 (en) 2004-01-21 2016-04-05 Microcontinuum, Inc. Roll-to-roll patterning of transparent and metallic layers
US7329334B2 (en) * 2004-09-16 2008-02-12 Herdman Roderick D Controlling the hardness of electrodeposited copper coatings by variation of current profile
CA2595713A1 (en) * 2005-01-21 2006-07-27 Microcontinuum, Inc. Replication tools and related fabrication methods and apparatus
EA008676B1 (ru) * 2005-08-22 2007-06-29 Республиканское Унитарное Предприятие "Белорусский Металлургический Завод" Способ нанесения двухслойного гальванического покрытия на медные гильзы и плиты кристаллизаторов
DE102006037728A1 (de) * 2006-08-11 2008-02-14 Sms Demag Ag Kokille zum Stranggießen von flüssigem Metall, insbesondere von Stahlwerkstoffen
DE202009013126U1 (de) 2009-09-29 2009-12-10 Egon Evertz Kg (Gmbh & Co.) Kokille zum Stranggießen
US9589797B2 (en) 2013-05-17 2017-03-07 Microcontinuum, Inc. Tools and methods for producing nanoantenna electronic devices
CN107034497A (zh) * 2017-04-28 2017-08-11 长安大学 一种用于油井管接箍内表面的电镀装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51116123A (en) * 1975-04-04 1976-10-13 Pioneer Electronic Corp Electrocasting mold drawing method
DE2936177A1 (de) * 1979-09-07 1981-05-21 Evertz, Egon, 5650 Solingen Verfahren und vorrichtung zur behandlung von kokillenwaenden
JPS5647592A (en) * 1979-09-25 1981-04-30 Satoosen:Kk Plating method of inner surface of casting mold for continuous casting
JPS5937704B2 (ja) * 1980-06-02 1984-09-11 川崎製鉄株式会社 連続鋳造用鋳型の製造法
JPS60145247A (ja) * 1983-12-29 1985-07-31 Kawasaki Steel Corp 連続鋳造用鋳型とその製造方法
JPS63104752A (ja) * 1986-10-22 1988-05-10 Sumitomo Metal Ind Ltd 連続鋳造用鋳型の表面処理方法
JPH0222495A (ja) * 1988-07-11 1990-01-25 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 連続鋳造用モールドのメッキ方法
JPH02149696A (ja) * 1988-11-30 1990-06-08 Kawasaki Steel Corp 電気めっきにおける板エッジ部でのめっき付着量の制御方法
JPH071086A (ja) * 1993-06-15 1995-01-06 Daido Steel Co Ltd 銅製鋳造モールドの補修方法
JPH07118889A (ja) * 1993-09-02 1995-05-09 Yamaha Motor Co Ltd めっき液、めっき方法及び内面めっきエンジンシリンダ
US5516415A (en) * 1993-11-16 1996-05-14 Ontario Hydro Process and apparatus for in situ electroforming a structural layer of metal bonded to an internal wall of a metal tube
JP3333025B2 (ja) * 1993-12-08 2002-10-07 日本パーカライジング株式会社 金属材料の電気複合めっき方法および装置
JPH07169714A (ja) * 1993-12-15 1995-07-04 Casio Comput Co Ltd メッキ方法およびその装置
TW318320B (ru) * 1995-08-07 1997-10-21 Eltech Systems Corp
FR2750438B1 (fr) * 1996-06-27 1998-08-07 Usinor Sacilor Procede et installation de revetement electrolytique par une couche metallique de la surface d'un cylindre pour coulee continue de bandes metalliques minces
US6071398A (en) * 1997-10-06 2000-06-06 Learonal, Inc. Programmed pulse electroplating process
JP3375549B2 (ja) * 1998-09-29 2003-02-10 本田技研工業株式会社 筒状部材の複合メッキ方法
FR2806098B1 (fr) * 2000-03-09 2002-08-16 Usinor Dispositif d'electrodeposition d'une piece metallique annulaire de forme complexe

Also Published As

Publication number Publication date
AU2003236679A1 (en) 2003-12-12
AU2003236679B2 (en) 2008-08-28
EP1507612B1 (de) 2013-12-11
KR101082896B1 (ko) 2011-11-11
KR20050004877A (ko) 2005-01-12
JP5008111B2 (ja) 2012-08-22
BR0311374B1 (pt) 2011-08-23
ES2452727T3 (es) 2014-04-02
WO2003099490A1 (de) 2003-12-04
PL371684A1 (en) 2005-06-27
EP1507612A1 (de) 2005-02-23
JP2005527705A (ja) 2005-09-15
CA2504369A1 (en) 2003-12-04
CN1655893A (zh) 2005-08-17
RU2318631C2 (ru) 2008-03-10
BR0311374A (pt) 2005-03-15
CN100335200C (zh) 2007-09-05
ZA200408991B (en) 2007-08-29
PL206254B1 (pl) 2010-07-30
MXPA04011734A (es) 2005-11-04
CA2504369C (en) 2008-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bernasconi et al. Electrodeposition from deep eutectic solvents
RU2004138096A (ru) Способ нанесения гальванического покрытия на кристаллизатор установки непрерывной разливки
CN107604388A (zh) 复合阳极材料及其制备方法、阳极板及其制备方法
US10240244B2 (en) Portable, liquid free, electroless, electrochemical deposition of metal on conductive and nonconductive surfaces
US3554881A (en) Electrochemical process for the surface treatment of titanium,alloys thereof and other analogous metals
JP2005527705A5 (ru)
CN207276744U (zh) 复合阳极材料与阳极板
Choi et al. Production of ultrahigh purity copper using waste copper nitrate solution
JPS60211097A (ja) ニオブの電気化学的、化学的被覆法
US2424173A (en) Electrolytic production of alloy coatings
CN110192268A (zh) 电镀金属衬底以获得所需表面粗糙度的方法
US4483752A (en) Valve metal electrodeposition onto graphite
KR102330025B1 (ko) 전주 마스터 및 이의 제조방법
JP2938164B2 (ja) 電解用電極及びその製造方法
JP3379482B2 (ja) アルミニウム材の電解着色法
SU796250A1 (ru) Способ электролитического осаждени СЕРЕбРА HA МЕТАлличЕСКиЕ издЕли
SU593874A1 (ru) Способ изготовлени электродов
SU1663057A1 (ru) Способ нанесени композиционных покрытий
KR960012296B1 (ko) 탄탈 전해 콘덴서의 이형제 도포장치
JP3406403B2 (ja) 強酸性水用電極
JPS6152388A (ja) 鍍金装置
JPH04218691A (ja) 超硬質クロムめっき皮膜の樹脂封孔処理方法
RU56400U1 (ru) Составной анод с продленным сроком эксплуатации
Popov et al. Electroplating and Surface Finishing
Socha Chromium electroplating mechanics in chromium (VI) compound contained baths. III. Influence of type and concentration of foreign acid anions on gradual chromium acid (VI) reduction process

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20160520