RU2003117089A - Силовой полупроводниковый прибор - Google Patents

Силовой полупроводниковый прибор Download PDF

Info

Publication number
RU2003117089A
RU2003117089A RU2003117089/28A RU2003117089A RU2003117089A RU 2003117089 A RU2003117089 A RU 2003117089A RU 2003117089/28 A RU2003117089/28 A RU 2003117089/28A RU 2003117089 A RU2003117089 A RU 2003117089A RU 2003117089 A RU2003117089 A RU 2003117089A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
power
electrode
semiconductor device
power semiconductor
main surface
Prior art date
Application number
RU2003117089/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Петер ШТРАЙТ (CH)
Петер ШТРАЙТ
Оскар АПЕЛЬДОРН (CH)
Оскар АПЕЛЬДОРН
Петер ШТАЙМЕР (CH)
Петер ШТАЙМЕР
Original Assignee
Абб Швайц Аг (Ch)
Абб Швайц Аг
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Абб Швайц Аг (Ch), Абб Швайц Аг filed Critical Абб Швайц Аг (Ch)
Publication of RU2003117089A publication Critical patent/RU2003117089A/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • H01L29/72Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
    • H01L29/739Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals controlled by field-effect, e.g. bipolar static induction transistors [BSIT]
    • H01L29/7391Gated diode structures
    • H01L29/7392Gated diode structures with PN junction gate, e.g. field controlled thyristors (FCTh), static induction thyristors (SITh)
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/417Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/423Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Thyristors (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Claims (10)

1. Силовой полупроводниковый прибор, в частности, силовой диод, содержащий: полупроводниковое тело (1) с первой основной поверхностью и второй основной поверхностью расположенной противоположно первой основной поверхности, при этом полупроводниковое тело разделено на две зоны (6; 71, 72), с разными типами проводимости, образующих в плоскости пересечения pn-переход, при этом по меньшей мере одна из этих двух зон имеет граничащую с плоскостью пересечения внутреннюю область (71) с более низким легированием, чем остальная область (72) этой зоны; первый силовой электрод (2) на первой основной поверхности и второй силовой электрод (3) на второй основной поверхности, при этом силовые электроды покрывают по меньшей мере часть соответствующих основных поверхностей и соединены электрически с соответствующими зонами (6; 71, 72), отличающийся тем, что силовой полупроводниковый прибор содержит средства для динамического воздействия на полупроводниковые параметры, характеризующие отклонение от идеального диода, посредством подачи тока в управляющий электрод (4).
2. Силовой полупроводниковый прибор по п.1, отличающийся тем, что средства динамического воздействия на полупроводниковые параметры, характеризующие отклонение от идеального диода, содержат по меньшей мере один управляющий электрод (4), расположенный на управляющем слое (8), при этом на части второй основной поверхности в полупроводниковое тело внедрен по меньшей мере один управляющий слой (8), который полностью заделан в граничащую зону (72), при этом управляющий слой (8) и граничащая зона (72) имеют разный тип проводимости и образуют в плоскости пересечения pn-переход, и граничащая зона содержит внутреннюю область с низкой плотностью легирования, а управляющий слой (8) отделен от внутренней области (71) слоем не уменьшенной плотности легирования граничащей с управляющим слоем зоны (72), при этом непосредственно на управляющем слое (8) расположен управляющий электрод (4), электрически изолированный от второго силового электрода (3).
3. Силовой полупроводниковый прибор по п.2, отличающийся тем, что площадь, покрытая вторым силовым электродом (3) больше площади, покрытой управляющим электродом (4).
4. Силовой полупроводниковый прибор по п.2, отличающийся тем, что площадь, покрытая вторым силовым электродом (3) по меньшей мере на 50% больше площади, покрытой управляющим электродом (4).
5. Силовой полупроводниковый прибор по любому из п.п.2-4, отличающийся тем, что управляющий электрод (4) расположен утопленно относительно второго силового электрода (3) в углублении во второй основной поверхности.
6. Силовой полупроводниковый прибор по п.5, отличающийся тем, что второй силовой электрод (3) разделен на несколько электрически изолированных друг от друга частичных электродов, которые контактируют друг с другом с помощью электрически проводящей прижимной пластины (31), и за счет контактирования с прижимной пластины соединены в общий электрод.
7. Силовой полупроводниковый прибор по п.6, отличающийся тем, что углубленно расположенный управляющий электрод (4) окружает частичные электроды.
8. Силовой полупроводниковый модуль, содержащий силовой полупроводниковый прибор по любому из п.п.1-7, средства для контактного соединения силовых электродов (2, 3), а также средства для контактного соединения с управляющим электродом (4).
9. Силовой полупроводниковый модуль по п.8, отличающийся тем, что средства для контактного соединения силовых электродов (2, 3) содержат прижимные пластины (21, 31), которые прижимаются к силовым электродам и за счет этого соединяются с возможностью электрической и тепловой проводимости с силовыми электродами (2, 3).
10. Силовой полупроводниковый модуль по любому из п.п.8 или 9, отличающийся тем, что средства для контактного соединения с управляющим электродом содержат управляющий вывод, проходящий из модуля на боковой стороне.
RU2003117089/28A 2002-06-10 2003-06-09 Силовой полупроводниковый прибор RU2003117089A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP02405467.8 2002-06-10
EP02405467A EP1372197A1 (de) 2002-06-10 2002-06-10 Leistungshalbleiter mit variierbaren Parametern

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2003117089A true RU2003117089A (ru) 2004-12-20

Family

ID=29558466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2003117089/28A RU2003117089A (ru) 2002-06-10 2003-06-09 Силовой полупроводниковый прибор

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20030227069A1 (ru)
EP (1) EP1372197A1 (ru)
JP (1) JP2004031947A (ru)
CN (1) CN1467858A (ru)
RU (1) RU2003117089A (ru)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4762663B2 (ja) * 2005-10-14 2011-08-31 三菱電機株式会社 半導体装置
KR100833994B1 (ko) * 2006-11-29 2008-05-30 백승만 선체인양용 부력발생장치
CN103022099B (zh) * 2013-01-10 2016-05-04 江苏物联网研究发展中心 一种igbt集电极结构及其制备方法
GB2534818A (en) * 2014-11-18 2016-08-03 Ideal Power Inc Methods, systems, and devices for active charge control diodes

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4037245A (en) * 1975-11-28 1977-07-19 General Electric Company Electric field controlled diode with a current controlling surface grid
JPS6016753B2 (ja) * 1979-01-19 1985-04-27 株式会社日立製作所 半導体スイツチング素子およびその制御方法
CH670334A5 (ru) * 1986-09-16 1989-05-31 Bbc Brown Boveri & Cie
DE4227063A1 (de) * 1992-08-15 1994-02-17 Abb Research Ltd Abschaltbares Hochleistungs-Halbleiterbauelement
US5841155A (en) * 1995-02-08 1998-11-24 Ngk Insulators, Ltd. Semiconductor device containing two joined substrates
US5753938A (en) * 1996-08-08 1998-05-19 North Carolina State University Static-induction transistors having heterojunction gates and methods of forming same

Also Published As

Publication number Publication date
CN1467858A (zh) 2004-01-14
JP2004031947A (ja) 2004-01-29
EP1372197A1 (de) 2003-12-17
US20030227069A1 (en) 2003-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8143679B2 (en) Termination structure for power devices
TW200725952A (en) AC light emitting diode having improved transparent electrode structure
JP5070941B2 (ja) 半導体装置
AU9006801A (en) Semiconductor device and method of forming a semiconductor device
US9716052B2 (en) Semiconductor device comprising a conductive film joining a diode and switching element
US10256212B2 (en) Semiconductor chip having multiple pads and semiconductor module including the same
JPH06318708A (ja) 高出力mosfet
US20130043578A1 (en) Presspin, power semiconducter module and semiconducter module assembly with multiple power semiconducter modules
GB2496067A (en) Power semiconductor device
KR20120045919A (ko) 반도체 발광소자
US20210202725A1 (en) Semiconductor device
KR980006243A (ko) 반도체 장치 및 그 제조방법
RU2007147936A (ru) Конструкция катодной ячейки
US10193495B2 (en) Photovoltaic junction box and diode
CN1917203B (zh) 具有线路元件的功率半导体模块
RU2003117089A (ru) Силовой полупроводниковый прибор
EP0481094A4 (ru)
CN111162123B (zh) 沟槽式栅极结构igbt
JP3875460B2 (ja) 半導体装置
JP2009105177A (ja) 半導体装置
TW348322B (en) Power semiconductor device
CN102679295A (zh) 提升散热效率的光源模块及其组装方法
CN113130626B (zh) 一种大功率肖特基二极管
JPH06169090A (ja) パワーmosfet
JP7338242B2 (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20060610