RU2002128750A - Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью - Google Patents

Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью

Info

Publication number
RU2002128750A
RU2002128750A RU2002128750/04A RU2002128750A RU2002128750A RU 2002128750 A RU2002128750 A RU 2002128750A RU 2002128750/04 A RU2002128750/04 A RU 2002128750/04A RU 2002128750 A RU2002128750 A RU 2002128750A RU 2002128750 A RU2002128750 A RU 2002128750A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
alkyl
coating composition
composition according
hydrogen
phenyl
Prior art date
Application number
RU2002128750/04A
Other languages
English (en)
Inventor
Хёйг КЛИНКЕНБЕРГ (NL)
Хёйг КЛИНКЕНБЕРГ
Ари НОМЕН (NL)
Ари Номен
Original Assignee
Акцо Нобель Н.В. (NL)
Акцо Нобель Н.В.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Акцо Нобель Н.В. (NL), Акцо Нобель Н.В. filed Critical Акцо Нобель Н.В. (NL)
Publication of RU2002128750A publication Critical patent/RU2002128750A/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/12Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06Polymers provided for in subclass C08G
    • C08F290/067Polyurethanes; Polyureas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes
    • C09D175/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D175/16Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)

Claims (15)

1. Фотоактивируемая композиция для покрытий, включающая (А) активированное, содержащее ненасыщенную группу соединение, (В) активированное, содержащее СН-группу соединение, (С) катализатор в форме одного или нескольких оснований Льюиса или Бренстеда с сопряженными кислотами, где кислоты имеют рКа, по меньшей мере, 10, и (D) фотоинициатор, отличающийся тем, что фотоинициатором является фотолатентное основание.
2. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что фотолатентное основание выбирают из 1) соли α-аммония, α-иминия или α-амидиния формулы (I) или (II)
Figure 00000001
Figure 00000002
где m=1 или 2 и соответствует числу положительных зарядов катиона;
R1 представляет собой фенил, нафтил, фенантрил, антрацил, пиренил, тиенил, тиантренил, тиоксантил, флуоренил или феноксазинил, указанные радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, С318-алкенилом, NR6R7, ОН, CN, OR8, SR8, C(O)R9, C(O)OR10 или галогеном, или R1 означает радикал формулы А
Figure 00000003
каждый из R2, R3 и R4 независимо представляет собой водород, C1-C18-алкил, С318-алкенил или фенил, или каждый из R2 и R3 и/или R4 и R3 независимо образует С212-алкиленовый мостик; или R2, R3 и R4, вместе с химически связанным атомом азота, означают группу структурной формулы (а), (b), (с) или (d)
Figure 00000004
Figure 00000005
Figure 00000006
Figure 00000007
каждый из k и 1 независимо является числом от 2 до 4;
R5, R6, R7, R8, R9 и R10 представляют собой водород или C1-C18-алкил;
R11 означает C1-C18-алкил, С218-алкенил, NR6R7, OR8 или SR8 и
n равно 0 или 1, 2 или 3;
R12, R13 и R14 представляют собой фенил или другой ароматический углеводород, указанные радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, OR8 или галогеном;
R15 означает С118-алкил, фенил или другой ароматический углеводород, фенильный и ароматический углеводородный радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, OR8 или галогеном;
или
2) соединения формулы (III) или (IV)
Figure 00000008
Figure 00000009
где R16 представляет собой фенил, нафтил, фенантрил, антрацил, пиренил, тиенил, тиантренил, тиоксантил, флуоренил или феноксазинил, указанные радикалы являются незамещенными или моно- или полизамещенными C1-C18-алкилом, С318-алкенилом, NR23R24, ОН, CN, OR25, SR25, C(O)R25, C(O)OR27 или галогеном, или R16 означает радикал формулы А
Figure 00000010
каждый из R17 и R18 независимо является водородом, C1-C18-алкилом, С318-алкенилом, С318-алкинилом или фенилом;
R20 представляет собой C1-C18-алкил или NR29R30;
R19, R21, R22, R23, R24, R25, R26 и R27 являются водородом или С118-алкилом;
R28 означает C1-C18-алкил, С218-алкенил, NR23R24, OR25 или SR25; и каждый из R29 и R30 независимо означает водород или C1-C18-алкил; или
R19 и R21 вместе образуют С212-алкиленовый мостик, или
R20 и R22 вместе, независимо от R19 и R21, образуют C2-C12-алкиленовый мостик, или, если R20 означает NR29R30, R30 и R22 вместе образуют С212-алкиленовый мостик.
R31 является водородом или C1-C18-алкилом;
R32 представляет собой водород, С118-алкил или фенил, замещенный C1-C18-алкилом.
3. Композиция для покрытий по п.2, отличающаяся тем, что фотолатентное основание представляет собой α-аминоалкен структуры (IV),
Figure 00000011
где R16 является фенилом;
R17 и R18 представляют собой водород или метил;
R19 и R21 вместе образуют С3-алкиленовый мостик;
R20 и R22 вместе образуют С3-алкиленовый мостик;
R31 и R32 являются водородом.
4. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-3, отличающаяся тем, что компонент (D) присутствует в количестве от 0,01 до 10 мас.% в расчете на массу компонентов (А)+(В).
5. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-4, отличающаяся тем, что компонент (С) присутствует в количестве от 0,01 до 10 мас.% в расчете на массу компонентов (А)+(В).
6. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-5, отличающаяся тем, что композиция дополнительно содержит сенсибилизатор, выбранный из группы, включающей: тиоксантоны, оксазины, кетокумарины, родамины, бензофенон и их производные.
7. Композиция для покрытий по п.6, отличающаяся тем, что сенсибилизатор выбирают из группы, включающей бензофенон и его производные.
8. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-7, отличающаяся тем, что (С) представляет собой 1,8-диазабицикло-[5,4,0]-ундец-7-ен.
9. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-8, отличающаяся тем, что соединение с активированной СН группой представляет собой олигомерное или полимерное малонатное соединение и/или соединение, содержащее ацетоацетатную группу.
10. Композиция для покрытий по п.9, отличающаяся тем, что малонатное соединение представляет собой полиуретан, сложный полиэфир, полиакрилат, эпоксидную смолу, полиамид или поливиниловую смолу с малонатными группами в основной и/или боковой цепи.
11. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-10, отличающаяся тем, что (А) и (В) присутствуют в таком количестве, что соотношение числа активированных СН групп к числу активированных ненасыщенных групп находится приблизительно в пределах от 0,25 до 4,0.
12. Композиция для покрытий по п.11, отличающаяся тем, что (А) и (В) присутствуют в таком количестве, что соотношение числа активированных СН групп к числу активированных ненасыщенных групп находится приблизительно в пределах от 0,5 до 2,0.
13. Композиция для покрытий по любому из предшествующих пп.1-12, отличающаяся тем, что (С) и (D) присутствуют в таком количестве, что массовое соотношение (С) и (D) находится в пределах приблизительно от 0,1 до 2,5.
14. Способ покрытия субстрата, в котором композицию для покрытия по любому из предшествующих пп.1-13 наносят на субстрат и впоследствии субстрат облучают УФ светом.
15. Применение композиции для покрытия по любому из предшествующих пп.1-13 при ремонте автомобилей.
RU2002128750/04A 2000-03-28 2001-03-27 Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью RU2002128750A (ru)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP00201102 2000-03-28
EP00201102.1 2000-03-28
EP00201968.5 2000-06-06
EP00201968 2000-06-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2002128750A true RU2002128750A (ru) 2004-02-27

Family

ID=26072044

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2002128750/04A RU2002128750A (ru) 2000-03-28 2001-03-27 Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20020076504A1 (ru)
EP (1) EP1278804A1 (ru)
JP (1) JP2003528966A (ru)
KR (1) KR20020084256A (ru)
CN (1) CN1420914A (ru)
AU (1) AU2001258304A1 (ru)
BR (1) BR0109538A (ru)
RU (1) RU2002128750A (ru)
WO (1) WO2001072910A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2625122C2 (ru) * 2011-10-07 2017-07-11 Оллнекс Незерландс Б.В. Сшиваемая композиция, способная к сшиванию по реакции присоединения михаэля (rma)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002523393A (ja) * 1998-08-21 2002-07-30 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 光活性化が可能な窒素含有塩基
AU2001244706A1 (en) * 2000-04-03 2001-10-15 Mitsubishi Chemical Corporation Layered product, bonding method, and composition curable with actinic energy ray
JP5073155B2 (ja) * 2002-04-19 2012-11-14 チバ ホールディング インコーポレーテッド プラズマにより誘導される被覆の硬化
US7411033B2 (en) * 2006-06-16 2008-08-12 Ppg Industries Ohio, Inc. Vinyl ethers and compositions containing them
US8568831B2 (en) 2009-02-17 2013-10-29 Valspar Sourcing, Inc. Solvent-borne coating composition containing acetoacyl-functional polymers
KR20210122265A (ko) * 2019-02-01 2021-10-08 알넥스 오스트리아 게엠베하 수성 코팅 조성물에 대한 결합제

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2759913A (en) * 1952-05-20 1956-08-21 Hercules Powder Co Ltd Copolymers of compounds containing activated ethylene double bonds with active hydrogen compounds
US4217396A (en) * 1979-05-10 1980-08-12 Armstrong Cork Company Acrylate-acetoacetate polymers useful as protective agents for floor coverings
US4408018A (en) * 1982-10-29 1983-10-04 Rohm And Haas Company Acetoacetate functionalized polymers and monomers useful for crosslinking formulations
ZA852044B (en) * 1984-03-29 1985-11-27 Akzo Nv Liquid coating composition curable at ambient temperature
DE3572829D1 (en) * 1984-04-04 1989-10-12 Hoechst Ag Reaction product of olefinically unsaturated compounds with active hydrogen compounds, process for their preparation and 2-component coating systems based thereon
DE3932517A1 (de) * 1989-09-29 1991-04-11 Herberts Gmbh Bindemittelzusammensetzung und deren verwendung in ueberzugsmitteln
DE4225104C1 (de) * 1992-07-30 1993-12-09 Herberts Gmbh Überzugsmittel und dessen Verwendung bei der Herstellung von Überzügen mit rasch bearbeitbarer Oberfläche
EP0970085B1 (en) * 1997-03-18 2002-07-24 Ciba SC Holding AG Photoactivatable nitrogen-containing bases based on alpha-amino alkenes

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2625122C2 (ru) * 2011-10-07 2017-07-11 Оллнекс Незерландс Б.В. Сшиваемая композиция, способная к сшиванию по реакции присоединения михаэля (rma)

Also Published As

Publication number Publication date
CN1420914A (zh) 2003-05-28
US20020076504A1 (en) 2002-06-20
WO2001072910A1 (en) 2001-10-04
JP2003528966A (ja) 2003-09-30
AU2001258304A1 (en) 2001-10-08
BR0109538A (pt) 2003-06-10
EP1278804A1 (en) 2003-01-29
KR20020084256A (ko) 2002-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2332419C2 (ru) Фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение
CN108350314B (zh) 可固化聚合物
FI73841B (fi) Genom bestraolning polymeriserbar blandning och daerur framstaellt fotopolymeriserbart kopieringsmaterial.
WO2012003152A1 (en) Curable-on-demand composition comprising dual reactive silane functionality
US4440850A (en) Photopolymerisation process with two exposures of a single layer
RU2008128873A (ru) Многослойная покрывная система
WO2006095670A1 (ja) 塩基増殖剤及び塩基反応性硬化性組成物
WO2015111640A1 (ja) ボレート系塩基発生剤および該塩基発生剤を含有する塩基反応性組成物
KR970066717A (ko) 폴리이미드 하도제를 기본으로 하는 네가티브 작용성 감광성 내식막 조성물
TWI266147B (en) Novel photosensitive resin compositions
RU2002128750A (ru) Фотоактивируемая композиция для покрытия и ее применение для получения покрытий с быстро обрабатываемой при температуре окружающей среды поверхностью
CN102224140B (zh) 包含热潜性碱的可固化组合物
WO1998038195B1 (en) PHOTOACTIVATABLE NITROGEN-CONTAINING BASES BASED ON α-AMMONIUM KETONES, IMINIUM KETONES OR AMIDINIUM KETONES AND ARYL BORATES
ES2075863T3 (es) Composicion de aglutinante y su utilizacion en agentes de revestimiento.
JP2015212363A (ja) 接着促進剤
RU2003112460A (ru) Способ получения циклических полиаминов, содержащих в кольце n атомов азота, защищенных по принципу "все, кроме одного" (n-1), и продукты
JP4659614B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法
WO2013101535A1 (en) Curable polysiloxane compositions and pressure sensitive adhesives made therefrom
EP3729196A1 (en) An ethynyl derived composite, a composition comprising thereof, a method for manufacturing a coating by it, and a method for manufacturing a device comprising the coating
JP2000147761A (ja) 感光性ポリイミド組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
KR20220107008A (ko) 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스
KR20210022735A (ko) 포토레지스트 조성물, 및 포토레지스트 코팅, 에칭된 포토레지스트 코팅 및 에칭된 Si 함유 층(들)의 제조방법, 및 이들을 사용하는 디바이스의 제조방법
JP2003121999A5 (ru)
CA2033035A1 (en) Photo-curable amine-containing compositions
KR950003263A (ko) 광개시제 조성물 및 그를 사용한 감광성 물질

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20050411