JP2002523393A - 光活性化が可能な窒素含有塩基 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、光学的にアミン類、イミン類またはアミジン類に変換できる、テトラアリール−またはトリアリールアルキルボラート塩の形態におけるα−アンモニウム−、イミニウム−またはアミジニウムアルケン類、さらにその製造方法に関する。本発明はまた、上記α−アンモニウム−、イミジウム−またはアミジニウムアルケン類をそのテトラアリール−またはトリアリールアルキルボラート塩の形で含有する、塩基触媒によって重合可能または架橋可能な組成物、光学的に誘起される塩基性触媒反応、および塩基触媒反応のための光開始剤としてのその使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、テトラアリール−またはトリアリールアルキルボラート塩の形態に
おけるα−アンモニウム−、イミニウム−またはアミジニウムアルケン類、それ
らの製造、ならびにアミン、イミンまたはアミジンを生成させるそれらの光化学
的開裂の方法、および塩基触媒による架橋可能な系または混成系（ラジカル性お
よび塩基触媒性の両方で重合可能または架橋可能な組成物）におけるそれらの使
用に関する。

【０００２】 α−アンモニウムアルケン塩、特に２−アリールアリルアンモニウム塩は、す
でに、たとえばＵＳ３，５３９，６３２、J. Org. Chem. 52(16)(1987), 3683ま
たは J. Am. Chem. Soc. 101(11)(1979), 3097に記載されている。

【０００３】 ラジカル重合性のオリゴマーまたはモノマーに加えて、なかでも光リトグラフ
法のための塩基触媒系が知られている。この系は、露光の際に塩基を開裂放出す
る光開始剤を必要とする。R. MacKeanほか、Polym. Mater. Sci. Eng.(1992),66
,237〜238は、例として特定のカルバマートを光開始剤として使用する、ポリイ
ミドの光形成について報告している。

【０００４】 塩基の光分解的発生、およびこの塩基による光重合反応についても記述されて
おり、その反応には、各種の光活性化合物、たとえばカルバマート（Cameronら
、ＵＳ特許５，５４５，５０９、およびその中の引用文献：Cameron および Fre
chet, J. Am. Chem. Soc. (1991)113, 4303）、α−ケトカルバマート（Cameron
ら、J. Am. Chem. Soc. (1996)118, 12925）、Ｏ−アシルオキシム（Tsunookaら
、J. Polymer Sci.: Part A: Polymer Chem. (1994), 32, 2177）、ホルムアミ
ド（Nishikuboら、Polym. J.(1993)25,421; 同, J. Polymer Sci.: Part A: Pol
ymer Chem. (1993), 31, 3013）およびＣｏ−アミン錯体（C. Kutalら、J. Elec
trochem. Soc.(1987), 134, 2280）が使用される。

【０００５】 今や、予期しなかったことに、テトラアリール−またはトリアリールアルキル
ボラート塩の形態における、ある種のα−アンモニウム−、イミニウム−または
アミジニウムアルケン類が、可視光またはＵＶ光の露光により、アミン−、イミ
ン−またはアミジン基を開裂放出することを見出した。これらの基は、多数の塩
基触媒反応、特に重合反応を誘起させるのに十分に塩基性である。これらの化合
物は、高い感度を示し、そして置換基の型の選択しだいで、その吸収スペクトル
を広範囲に変化させ得る。

【０００６】 これらの化合物は、塩基触媒性オリゴマー類またはモノマー類と一緒になって
、極めて高い貯蔵安定性を有する、いわゆる１包装系（Eintopfsysteme）を製造
することを可能にする。露光によってはじめて、たとえば重合が誘起される。こ
れらの化合物は、モノマーまたはオリゴマー中で影響を受けることなく溶解され
得るので、この系は、完全に、またはかなりな程度に溶媒なしで調合できる。活
性な触媒は、露光によってはじめて生成する。この系は、多くの目的、たとえば
塗装、被覆、成形または光リトグラフ描画のために使用することができる。

【０００７】 本発明の目的は、式（Ｉ）：

【０００８】

【化９】

【０００９】 （式中、 ｍは、１または２であって、カチオンの正電荷数に相当し； Ｒ₁は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、５
，６，７，８−テエトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テトラヒドロ
−１−ナフチル、チエニル、ベンゾ〔ｂ〕チエニル、ナフト〔２，３−ｂ〕チエ
ニル、チアントレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサ
ンチル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニ
ル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリ
ル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラ
ジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテ
リジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニ
ル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェ
ノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フ
ルオレニルまたはフェノキサジニルを意味し、ここでこれらの残基が、非置換か
、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、
Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、Ｎ₃、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ ₈ 、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンの１個もしくは複数個により置
換されており、あるいはＲ₁は、式ＡまたはＢ：

【００１０】

【化１０】

【００１１】 の残基を意味し； Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈
アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニルもしくはフェニルであるか、または互いに独
立に、Ｒ₂とＲ₃、および／もしくはＲ₄とＲ₃が、Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキレン橋を形成
しており；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、それらが結合している窒素原子と一緒に
なって、Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₄型のホスファゼン塩基、または構造式（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）もしくは（ｇ）：

【００１２】

【化１１】

【００１３】 （式中、ｋおよびｌは、互いに独立に、数２〜１２を意味する） の基を形成しており； Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀は、互いに独立に、水素またはＣ₁〜Ｃ₁₈ アルキルであり； Ｒ₁₁は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニル、
Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ
（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンであり；そして ｎは、０または数１、２もしくは３であり； Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、ここ
でこれらの残基は、非置換か、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、
ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンの１個もしくは複
数個により置換されており； Ｒ₁₅は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、
ここで、フェニルおよび芳香族炭化水素残基は、非置換か、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈
アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンア
ルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀また
はハロゲンの１個もしくは複数個により置換されており、あるいはＲ₁₅は、残基
：

【００１４】

【化１２】

【００１５】 であり；そして Ｘは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキレンであるか、またはＣ₂〜Ｃ₂₀アルキレンであって、
−Ｏ−、−Ｓ−もしくはＮＲ₈により中断されているものを意味し、あるいはＸ
は、

【００１６】

【化１３】

【００１７】 である） の化合物である。

【００１８】 芳香族またはヘテロ芳香族残基Ｒ₁、およびそれぞれのボラートアニオンを選
択することにより、吸収極大は広範囲に変化し、そしてそれとともに化合物の感
光性は、ＵＶから昼光領域へと移動する。

【００１９】 種々の残基中の、炭素原子１８個までを有するアルキルは、分枝状または非分
枝状の残基、たとえばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、
ｓ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルブチル、ｎ−ペンチル、イソ
ペンチル、１−メチルペンチル、１，３−ジメチルブチル、ｎ−ヘキシル、１−
メチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、１，１，３，３−テトラメチル
ブチル、１−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチル
ヘキシル、１，１，３−トリメチルヘキシル、１，１，３，３−テトラメチルペ
ンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、１−メチルウンデシル、ドデシル、１，
１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデシル、ペン
タデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルを意味する。好ましいの
は、炭素原子１〜１２個または１〜８個、特に１〜６個または１〜４個を有する
アルキルである。

【００２０】 炭素原子３〜１８個を有するアルケニルは、分枝状または非分枝状の残基、た
とえばプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、イソブテニル、ｎ−２，４−
ペンタジエニル、３−メチル−２−ブテニル、ｎ−２−オクテニル、ｎ−２−ド
デセニル、イソドデセニル、オレイル、ｎ−２−オクタデセニルまたはｎ−４−
オクタデセニルを意味する。好ましいのは、炭素原子３〜１２個、特に３〜６個
を有するアルケニルである。

【００２１】 炭素原子３〜１８個を有するアルキニルは、分枝状または非分枝状の残基、た
とえばプロピニル（ＣＨ₂−Ｃ≡ＣＨ）、２−ブチニル、３−ブチニル、ｎ−２
−オクチニルまたはｎ−２−オクタデシニルを意味する。好ましいのは、炭素原
子３〜１２個、特に３〜６個を有するアルキニルである。

【００２２】 Ｃ₂〜Ｃ₁₂アルキレン橋は、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、
ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレンまた
はドデシレンを意味する。

【００２３】 ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。

【００２４】 Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキルの例は、完全または部分ハロゲン化Ｃ₁〜Ｃ₁₈アル
キルである。これらの例は、モノ−〜デカフルオロペンチル、モノ〜−オクタフ
ルオロブチル、モノ−〜ヘキサフルオロプロピル、モノ−〜テトラフルオロエチ
ル、およびモノ−およびジフルオロメチル、ならびに対応する塩素、臭素および
ヨウ素化合物の位置異性体類である。好ましいのはペルフルオロ化アルキル残基
である。その例は、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロブチル、ペルフルオロ
プロピル、ペルフルオロエチルおよび特にトリフルオロメチルである。

【００２５】 ＮＲ₆Ｒ₇アミノ基の例は、それぞれモノアルキル−またはジアルキルアミノ基
、たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ペン
チルアミノ、ヘキシルアミノ、オクタデシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミノ、ジ
イソブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシルアミノまたはジオクタデシル
アミノである。さらなるジアルキルアミノ基は、両残基が互いに独立に、分枝状
または非分枝状のものであって、たとえばメチルエチルアミノ、メチル−ｎ−プ
ロピルアミノ、メチルイソプロピルアミノ、メチル−ｎ−ブチルアミノ、メチル
イソブチルアミノ、エチルイソプロピルアミノ、エチル−ｎ−ブチルアミノ、エ
チルイソブチルアミノ、エチル−ｔ−ブチルアミノ、イソプロピル−ｎ−ブチル
アミノまたはイソプロピルイソブチルアミノである。

【００２６】 炭素原子１８個までを有するアルコキシ基ＯＲ₈は、分枝状または非分枝状の
残基であって、たとえばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキソキシ、ヘプト
キシ、オクトキシ、デシルオキシ、テトラデシルオキシ、ヘキサデシルオキシま
たはオクタデシルオキシである。好ましいのは、炭素原子１〜１２個、特に１〜
８個、たとえば１〜６個または１〜４個を有するアルコキシである。

【００２７】 チオアルキル基ＳＲ₈の例は、チオメチル、チオエチル、チオプロピル、チオ
ブチル、チオペンチル、チオヘキシル、チオヘプチル、チオオクチルまたはチオ
オクタデシルであって、このアルキル残基は、直鎖状または分枝状であってよい
。

【００２８】 芳香族炭化水素基で、たとえば本発明の化合物が包含し得るもの（Ｒ₁₂、Ｒ₁₃ 、Ｒ₁₄またはＲ₁₅）は、たとえばヘテロ原子を１個または複数個、特に１個また
は２個含有してよい。ヘテロ原子としては、たとえばＮ、Ｏ、ＰまたはＳ、好ま
しくはＮまたはＯが考慮の対象になる。芳香族炭化水素基の例は、次のとおりで
ある：フェニル、α−およびβ−ナフチル、スチルベニル、ビフェニル、ｏ−、
ｍ−、ｐ−テルフェニル、トリフェニルフェニル、ビナフチル、アントラシル、
フェナントリル、ピレニル、フラン−２−イルまたはフラン−３−イル、チオフ
ェン−２−イルまたはチオフェン−３−イル、ピリジン−２−イル、ピリジン−
３−イルまたはピリジン−４−イル、キノリルまたはイソキノリル。

【００２９】 残基Ｒ₁の例は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピ
レニル、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テト
ラヒドロ−１−ナフチル、チエニル、ベンゾ〔ｂ〕チエニル、ナフト〔２，３−
ｂ〕チエニル、チアントレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、
フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル、ピリ
ミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、イン
ダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、
ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル
、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル、ペリ
ミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジ
ニル、イソキサゾリル、フラザニル、ビフェニル、スチルベニル、テルフェニル
、フルオレニル、フェノキサジニル、メトキシフェニル、２，４−ジメトキシフ
ェニル、２，４，６−トリメトキシフェニル、ブロモフェニル、トルイル、キシ
リル、メシチル、ニトロフェニル、ジメチルアミノフェニル、ジエチルアミノフ
ェニル、アミノフェニル、ジアミノフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１
−フェニルアミノ−４−ナフチル、１−メチルナフチル、２−メチルナフチル、
１−メトキシ−２−ナフチル、２−メトキシ−１−ナフチル、１−ジメチルアミ
ノ−２−ナフチル、１，２−ジメチル−４−ナフチル、１，２−ジメチル−６−
ナフチル、１，２−ジメチル−７−ナフチル、１，３−ジメチル−６−ナフチル
、１，４−ジメチル−６−ナフチル、１，５−ジメチル−２−ナフチル、１，６
−ジメチル−２−ナフチル、１−ヒドロキシ−２−ナフチル、２−ヒドロキシ−
１−ナフチル、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフチル、７−フェナントリル、１
−アントリル、９−アントリル、３−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、５−ベンゾ〔ｂ〕
チエニル、２−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、４−ジベンゾフリル、４，７−ジベンゾ
フリル、４−メチル−７−ジベンゾフリル、２−キサンテニル、８−メチル−２
−キサンテニル、３−キサンテニル、２−フェノキサチイニル、２，７−フェノ
キサチイニル、２−ピロリル、３−ピロリル、５−メチルー３−ピロリル、２−
イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、２−メチル−４−イミダ
ゾリル、２−エチル−４−イミダゾリル、２−エチル−５−イミダゾリル、３−
ピラゾリル、１−メチル−３−ピラゾリル、１−プロピル−４−ピラゾリル、２
−ピラジニル、５，６−ジメチル−２−ピラジニル、２−インドリジニル、２−
メチル−３−イソインドリル、２−メチル−１−イソインドリル、１−メチル−
２−インドリル、１−メチル−３−インドリル、１，５−ジメチル−２−インド
リル、１−メチル−３−インダゾリル、２，７−ジメチル−８−プリニル、２−
メトキシ−７−メチル−８−プリニル、２−キノリジニル、３−イソキノリル、
６−イソキノリル、７−イソキノリル、イソキノリル、３−メトキシ−６−イソ
キノリル、２−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、２−メトキシ−３−キ
ノリル、２−メトキシ−６−キノリル、６−フタラジニル、７−フタラジニル、
１−メトキシ−６−フタラジニル、１，４−ジメトキシ−６−フタラジニル、１
，８−ナフチリジン−２−イル、２−キノキサリニル、６−キノキサリニル、２
，３−ジメチル−６−キノキサリニル、２，３−ジメトキシ−６−キノキサリニ
ル、２−キナゾリニル、７−キナゾリニル、２−ジメチルアミノ−６−キナゾリ
ニル、３−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、３−メトキシ
−７−シンノリニル、２−プテリジニル、６−プテリジニル、７−プテリジニル
、６，７−ジメトキシ−２−プテリジニル、２−カルバゾリル、３−カルバゾリ
ル、９−メチル−２−カルバゾリル、９−メチル−３−カルバゾリル、β−カル
ボリン−３−イル、１−メチル−β−カルボリン−３−イル、１−メチル−β−
カルボリン−６−イル、３−フェナントリジニル、２−アクリジニル、３−アク
リジニル、２−ペリミジニル、１−メチル−５−ペリミジニル、５−フェナント
ロリニル、６−フェナントロリニル、１−フェナジニル、２−フェナジニル、３
−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、２−フェノチア
ジニル、３−フェノチアジニル、１０−メチル−３−フェノチアジニル、３−イ
ソキサゾリル、４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル、４−メチル−３−フ
ラザニル、２−フェノキサジニルまたは１０−メチル−２−フェノキサジニルで
ある。

【００３０】 Ｐ₁、Ｐ₂またはＰ₄型のホスファゼン塩基の例は、

【００３１】

【化１４】

【００３２】 であり、このホスファゼン塩基は、イミン窒素上および第三級窒素原子上のいず
れからでもアルケンのＣＨ₂基に結合できる。好ましいのは、このホスファゼン
塩基が、第三級窒素原子上でケトンのＣＨ₂基に結合しているものである。Ｐ₁、
Ｐ₂またはＰ₄型のホスファゼン塩基は、当業者にとって既知であり、また、たと
えば化学薬品カタログの中に記載されている。この化合物名の例は、さらに Ang
ew. Chem. 1993, 105, 1420 に記述されている。

【００３３】 好ましくは、Ｒ₁は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、
ピレニル、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テ
トラヒドロ−１−ナフチル、チエニル、ベンゾ〔ｂ〕チエニル、ナフト〔２，３
−ｂ〕チエニル、チアントレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル
、チオキサンチル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル
、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル
、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリ
ル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリ
ニル、プテリジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、
アクリジニル、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾ
リル、フェノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、スチル
ベニル、フルオレニルまたはフェノキサジニルを意味し、ここでこれらの残基は
、非置換か、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈ア
ルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、Ｎ₃、ＯＨ、ＣＮ、
ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンの１個もしくは複
数個で置換されており、あるいはＲ₁は、式ＡまたはＢ：

【００３４】

【化１５】

【００３５】 の残基である。特に好ましくは、Ｒ₁が、フェニル、ナフチル、ピレニル、チオ
キサンチルまたはフェノチアジニルを意味し、ここでこれら残基は、非置換か、
またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＲ₆Ｒ₇、ＣＮ、ＮＯ ₂ 、ＳＲ₈もしくはＯＲ₈の１個もしくは複数個で置換されている。

【００３６】 好ましくは、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル
を意味するか、または互いに独立に、Ｒ₂とＲ₃、および／もしくはＲ₄とＲ₃がＣ ₂ 〜Ｃ₁₂アルキレン橋を形成するか；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、それらが結合し
ている窒素原子と一緒になって、前述のように、構造式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）
、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）の基を、またはＰ₁、Ｐ₂もしくはＰ₄型のホ
スファゼン塩基を形成する。ｋおよびｌは、互いに独立に、数２〜１２を意味し
、好ましくは、数２〜６を意味する。

【００３７】 特に好ましいのは、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立にＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルで
あるか、またはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、窒素原子と一緒になって、前述のように、構
造式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、もしくは（ｅ）の基を形成している化合
物である。

【００３８】 好ましくは、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄が、フェニル、ビフェニル、ナフチル、ア
ントラシルまたはフェナントリルであって、これらの残基が、非置換のものか、
あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ
、ＯＲ₈またはハロゲンの１個もしくは複数個で置換されているものを意味し、
そしてＲ₁₅が、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、あるいは非置換か、またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈もしくはハロゲン
の１個もしくは複数個で置換されいるフェニルを意味する。

【００３９】 式Ｉの化合物中の、窒素塩基カチオンと対になるのに適したボラートアニオン
は、たとえばＵＳ４，７７２，５３０、ＧＢ２，３０７，４７４、ＧＢ２，３０
７，４７３、ＧＢ２，３０７，４７２、ＥＰ７７５，７０６からも読み取れる。
例としては、トリフェニルブチルボラート、トリフェニルヘキシルボラート、ト
リフェニルメチルボラート、ジメシチルフェニルメチル−もしくはブチルボラー
ト、ジ（ブロモメシチル）フェニルメチル−もしくはブチルボラート、トリス（
３−フルオロフェニル）ヘキシルボラート、トリス（３−フルオロフェニル）メ
チル−もしくはブチルボラート、ジクロロメシチルフェニルメチル−もしくはブ
チルボラート、トリス（ジクロロメシチル）メチルボラート、トリス（３−クロ
ロフェニル）ヘキシルボラート、トリス（３−クロロフェニル）メチル−もしく
はブチルボラート、トリス（３−ブロモフェニル）ヘキシルボラート、トリス（
３−ブロモフェニル）メチル−もしくはブチルボラート、トリス（３，５−ジフ
ルオロフェニル）ヘキシルボラート、ジメシチルビフェニルブチルボラート、ジ
メシチルナフチルメチル−もしくはブチルボラート、ジ（ｏ−トリル）−９−ア
ントラシルメチル−もしくはブチルボラート、ジメシチル−９−フェナントリル
フェニルもしくはブチルボラート、または

【００４０】

【化１６】

【００４１】 である。これらのアニオンの製造は、前述の公報に記載されている。

【００４２】 本発明の化合物式Ｉ（＝式ＩａまたはＩａ′）の臭化物またはヨウ化物の製造
は、たとえば式IIのアミンを、式III：

【００４３】

【化１７】

【００４４】 のα−ハロゲンアルケンを用いて変換することにより実行される。

【００４５】 このハロゲン化物の製造は、たとえば芳香族置換α−アミノアルケンのアルキ
ル化によっても実行できる：

【００４６】

【化１８】

【００４７】 本発明の化合物に対応するハロゲン化物から、アニオン交換反応により、それ
ぞれのボラートが得られる。この反応は、それ自体既知の方法で実施できる。溶
媒または溶媒混合物、たとえば水、炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン）
、ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベン
ゼン）、アルカノール（メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル）、およびエーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレ
ングリコールジメエチルエーテル）またはこれらの混合物を共に使用すると有利
である。

【００４８】 該反応は、温度範囲−１０〜＋１００℃で実施するのが有効である。好ましく
は、反応を１０〜５０℃で実施する。

【００４９】 また、本発明の目的は、式Ｉの化合物を製造する方法であって、ここで第一工
程では、式II： ＮＲ₂Ｒ₃Ｒ₄ （II） の窒素塩基を、式III：

【００５０】

【化１９】

【００５１】 のα−ハロゲンアルケンを用いて、式IV：

【００５２】

【化２０】

【００５３】 の化合物へ変換し、そして第二工程では、式IVの化合物を、式Ｖ：

【００５４】

【化２１】

【００５５】 （式中、 ハロゲンは、臭素またはヨウ素を意味し、そして Ｍは、Ｎａ、Ｋまたはアンモニウムであり、そして 残基Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は、前述の好ま
しい範囲も含めた意味を有する。） の化合物を用いて、式Ｉの化合物に転換するものである。

【００５６】 本発明のさらなる目的は、 Ａ）前述の式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種、および Ｂ）塩基触媒による付加−または置換反応が可能な有機化合物の少なくとも１
種 を含有する組成物である。

【００５７】 本発明の組成物中の成分Ｂ）としては、たとえばエポキシ系が考慮の対象にな
る。本発明の、成分Ｂ）としてエポキシ樹脂を用いた硬化可能な混合物の製造に
は、エポキシ樹脂技術における通例のエポキシ樹脂が適している。この種のエポ
キシ樹脂の例は、以下である： Ｉ）ポリグリシジル−およびポリ（β−メチルグリシジル）エステルであって
、分子中にカルボキシル基を少なくとも２個有する化合物と、エピクロロヒドリ
ンまたはβ−メチルエピクロロヒドリンの変換によって得られるもの。該変換は
、塩基の存在下で有効に実施される。分子中にカルボキシル基を少なくとも２個
有する化合物として、脂肪族ポリカルボン酸が使用できる。この種のポリカルボ
ン酸の例は、シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベ
リン酸、アゼライン酸または二量体化もしくは三量体化リノール酸である。さら
にまた、環式脂肪族ポリカルボン酸、たとえばテトラヒドロフタル酸、４−メチ
ルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸または４−メチルヘキサヒドロ
フタル酸も使用できる。さらには芳香族ポリカルボン酸、たとえばフタル酸、イ
ソフタル酸またはテレフタル酸が使用できる。

【００５８】 II）ポリグリシジル−またはポリ（β−メチルグリシジル）エーテルであって
、遊離のアルコール性ヒドロキシ基および／またはフェノール性ヒドロキシ基を
少なくとも２個有する化合物と、エピクロロヒドリンまたはβ−メチルエピクロ
ロヒドリンの、アルカリ性条件下における、または酸性触媒の存在下、および引
き続いてのアルカリ処理による変換によって得られるもの。この種類のグリシジ
ルエーテルは、たとえば非環式アルコール類から、例としてエチレングリコール
、ジエチレングリコールおよび高級ポリ（オキシエチレン）グリコール類、プロ
パン−１，２−ジオールまたはポリ（オキシプロピレン）グリコール類、プロパ
ン−１，３−ジオール、ブタン−１，４−ジオール、ポリ（オキシテトラメチレ
ン）グリコール類、ペンタン−１，５−ジオール、ヘキサン−１，６−ジオール
、ヘキサン−２，４，６−トリオール、グリセリン、１，１，１−トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリトリトール、ソルビトールから、ならびにポリエピクロ
ロヒドリン類から誘導される。該グリシジルエーテルは、さらにまた、たとえば
環式脂肪族アルコール類、例として１，４−シクロヘキサンジメタノール、ビス
（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタンまたは２，２−ビス（４−ヒドロキシ
シクロヘキシル）プロパン、あるいは、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）
アニリンまたはｐ，ｐ′−ビス（２−ヒドロキシエチルアミノ）ジフェニルメタ
ンのように芳香核を有するものから誘導される。該グリシジルエーテルは、単核
フェノール類、たとえばレゾルシンまたはヒドロキノンからも誘導され、あるい
は多核フェノール類、たとえばビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４
′−ジヒドロキシビフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，
１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、およびノボラック類であって、アルデヒド類、たと
えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、クロラールまたはフルアルデヒドと
、フェノール類、たとえばフェノールまたは核の中が塩素原子もしくはＣ₁〜Ｃ₉ アルキル基で置換されたフェノール類、たとえば４−クロロフェノール、２−メ
チルフェノールもしくは４−ｔ−ブチルフェノールとの縮合により、または前述
の種類のビスフェノール類との縮合により得られるものからも誘導することがで
きる。

【００５９】 III）ポリ（Ｎ−グリシジル）化合物であって、エピクロロヒドリンと、アミ
ン水素原子を少なくとも２個有するアミン類との反応生成物の脱塩化水素によっ
て得られるもの。該アミン類には、たとえばアニリン、ｎ−ブチルアミン、ビス
（４−アミノフェニル）メタン、ｍ−キシリレンジアミンまたはビス（４−メチ
ルアミノフェニル）メタンが関係する。このポリ（Ｎ−グリシジル）化合物には
、さらにまたトリグリシジルイソシアヌラート、シクロアルキレン尿素たとえば
エチレン尿素または１，３−プロピレン尿素のＮ，Ｎ′−ジグリシジル誘導体、
およびヒダントイン類たとえば５，５−ジメチルヒダントインのジグリシジル誘
導体もまた包含される。

【００６０】 IV）ポリ（Ｓ−グリシジル）化合物であって、たとえばジチオール類、たとえ
ばエタン−１，２−ジチオールまたはビス（４−メルカプトメチルフェニル）エ
ーテルから誘導されるジＳ−グリシジル誘導体。

【００６１】 Ｖ）環式脂肪族エポキシ樹脂、たとえばビス（２，３−エポキシシクロペンチ
ル）エーテル、２，３−エポキシシクロペンチルグリシジルエーテル、１，２−
ビス（２，３−エポキシシクロペンチルオキシ）エタンまたは３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシラート
。さらにまた、エポキシ樹脂で、１，２−エポキシ基が、異なるヘテロ原子また
は官能基に結合しているものも使用できる；該化合物には、たとえば、４−アミ
ノフェノールのＮ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル誘導体、サリチル酸のグリシジルエ
ーテルグリシジルエステル、Ｎ−グリシジル−Ｎ′−（２−グリシジルオキシプ
ロピル）−５，５−ジメチルヒダントインまたは２−グリシジルオキシ−１，３
−ビス（５，５−ジメチル−１−グリシジルヒダントイン−３−イル）プロパン
も包含される。

【００６２】 成分Ｂ）として、エポキシ樹脂の混合物も使用できる。したがって、成分Ｂ）
がエポキシ樹脂または異なるエポキシ樹脂の混合物である組成物も、本発明に適
合する。

【００６３】 塩基触媒による付加−または置換反応は、低分子化合物（モノマー）、オリゴ
マー、ポリマー化合物、またはこれらの化合物の混合物を用いて実施できる。モ
ノマーおよび同様にオリゴマー／ポリマーに対して、本発明の光開始剤を用いて
実施できる反応の例は、クネーフェナーゲル反応またはミカエル反応である。

【００６４】 特に意味があるのは、成分Ｂ）がアニオン重合可能または架橋可能な有機物質
である組成物である。該有機物質は、１または２官能性のモノマー、オリゴマー
またはポリマーの形態であってよい。

【００６５】 特に好ましいオリゴマー／ポリマー系は、塗装工業において通例の結合剤また
は塗料系である。

【００６６】 この種の塩基触媒性結合剤または塗料系の例は、以下である： ａ）アルコキシシラン−またはアルコキシシロキサン側鎖基を有するアクリラ
ートコポリマーであって、たとえばＵＳ４，７７２，６７２またはＵＳ４，４４
４，９７４記載のポリマー類； ｂ）ヒドロキシル基含有ポリアクリラート、ポリエステルおよび／またはポリ
エーテル、ならびに脂肪族または芳香族ポリイソシアナートからなる２成分系； ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドからなる２成分系であって
、該ポリアクリラートがカルボキシル−または酸無水物基を含有するもの； ｄ）フッ素変性またはケイ素変性の、ヒドロキシル基含有ポリアクリラート、
ポリエステルおよび／またはポリエーテル、および脂肪族または芳香族ポリイソ
シアナートからなる２成分系； ｅ）（ポリ）ケチミン、および脂肪族または芳香族ポリイソシアナートからな
る２成分系； ｆ）（ポリ）ケチミン、および不飽和アクリル樹脂またはアセトアセタート樹
脂またはメチル−α−アクリルアミドメチルグリコラートからなる２成分系； ｈ）（ポリ）オキサゾリジン、およびアンヒドリド基含有ポリアクリラートま
たは不飽和アクリラート樹脂またはポリイソシアナートからなる２成分系； ｉ）エポキシ基含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクリラ
ートからなる２成分系； ｌ）アリルグリシジルエーテルに基づくポリマー； ｍ）（ポリ）アルコールおよび（ポリ）イソシアナートからなる２成分系； ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物および活性ＣＨ₂基を有する
ポリマーからなる２成分系であって、その活性ＣＨ₂基は、主鎖中に、または側
鎖中に、またはその両方に含有されていてよく、（ポリ）マロナート基について
は、たとえばＥＰ１６１，６９７に記載されている。活性ＣＨ₂基を有する他の
化合物は、（ポリ）アセトアセタートおよび（ポリ）シアノアセタートである。

【００６７】 これら塩基触媒性結合剤のなかでは、以下が特に好ましい： ｂ）ヒドロキシル基含有ポリアクリラート、ポリエステルおよび／またはポリ
エーテル、ならびに脂肪族または芳香族ポリイソシアナートからなる２成分系； ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドからなる２成分系であって
、該ポリアクリラートがカルボキシル−または酸無水物基を含有するもの； ｉ）エポキシ基含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクリラ
ートからなる２成分系； ｍ）（ポリ）アルコールおよび（ポリ）イソシアナートからなる２成分系、な
らびに ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物および活性ＣＨ₂基を有する
ポリマーからなる２成分系であって、その活性ＣＨ₂基は、主鎖中に、または側
鎖中に、またはその両方に含有されていてよいもの。活性ＣＨ₂基を有する他の
化合物は、（ポリ）アセトアセタートおよび（ポリ）シアノアセタートである。

【００６８】 α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物および（ポリ）マロナートからな
る２成分系およびその製造は、ＥＰ１６１，６８７に記載されている。ここで、
マロナート基は、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアクリラート、エポキシド
樹脂、ポリアミドまたはポリビニルポリマー中で、主鎖中または側鎖中に結合し
ていてよい。α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物として、それぞれカル
ボニル基によって活性化された二重結合を使用することができる。例は、アクリ
ル酸もしくはメタクリル酸のエステルまたはアミドである。エステル基の中に、
追加的にヒドロキシル基が存在してもよい。ジ−およびトリエステルも可能であ
る。例としては、ヘキサンジオールジアクリラートまたはトリメチロールプロパ
ントリアクリラートが典型的なものである。アクリル酸の代わりに、他の酸たと
えばクロトン酸またはケイ皮酸、およびそのエステルまたはアミドも使用できる
。

【００６９】 この系の成分は、塩基触媒下、室温において相互に反応して、数多くの応用に
適した架橋塗装系を形成する。その本来もつ良好な耐候安定性に基づき、たとえ
ば屋外用途にも適しており、そして必要ならばＵＶ吸収剤および他の光保護剤に
よって、さらに安定化することができる。

【００７０】 この組成物は、光開始剤である成分Ａ）を、好ましくは成分Ｂ）に対して０．
０１〜１０重量％の量で含有する。

【００７１】 この光重合性混合物は、光開始剤である成分Ａ）のほかに、異なる添加剤を含
有することができる。その例は、早期重合を阻止する熱抑制剤、たとえばヒドロ
キノン、ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン誘導体、β−ナフトールまたは
立体障害性フェノール類、たとえば２，６−ジ（ｔ−ブチル）−ｐ−クレゾール
である。暗所貯蔵安定性を向上させるために、たとえば銅化合物、たとえばナフ
テン酸銅、ステアリン酸銅もしくはオクタン酸銅、リン化合物、たとえばトリフ
ェニルホスフィン、トリブチルヒスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリ
フェニルもしくは亜リン酸トリベンジル、第四級アンモニウム化合物、たとえば
塩化テトラメチルアンモニウムもしくは塩化トリメチルベンジルアンモニウム、
またはヒドロキシルアミン誘導体、たとえばＮ−ジエチルヒドロキシルアミンを
使用できる。重合中の空気酸素の遮断を目的として、パラフィンまたは類似のワ
ックス様物質を添加することができるが、これは重合開始の際にポリマーに対す
る貧溶解性のために表面に移行し、そして空気の侵入を阻止する透明な表面層を
形成する。同様に、酸素不透過性の層を使用することもできる。光保護剤として
、少量のＵＶ吸収剤、たとえばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール−、ヒド
ロキシフェニルベンゾフェノン−、シュウ酸アミド−またはヒドロキシフェニル
−ｓ−トリアジン型のものを添加することができる。これら化合物の単品または
混合物を、立体障害性アミン類（ＨＡＬＳ）と一緒に、またはこれなしに使用す
ることができる。

【００７２】 この種のＵＶ吸収剤および光保護剤の例を、以下に記す。 １． ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類 たとえば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル−１，２−（３′
，５′−ジ−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２′ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒド
ロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′
−ｓ−ブチル−５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３′，５′−ジｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール；以下のものからなる混合物：２−（３′
−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチ
ル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−５
′−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２′−ヒドロキ
シフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′
−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２
−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ
−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−５′−〔２−（２−
エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−２′−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メエチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ
−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾ
ール、２，２′−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３′−ｔ−ブチル−
５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシフェニル〕ベンゾ
トリアゾールのポリエチレングルコール３００によるエステル交換生成物；〔Ｒ
−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₃〕₂で、Ｒ＝３′−ｔ−ブチル−４′−ヒドロ
キシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニルのもの。

【００７３】 ２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン類 たとえば、４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシ
ルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−
トリヒドロキシ−、２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。

【００７４】 ３． 場合により置換されている安息香酸のエステル類 たとえば、サリチル酸４−ｔ−ブチルフェニル、サリチル酸フェニル、サリチ
ル酸オクチルフェニル、ジベンゾイルレゾルシン、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾ
イル）レゾルシン、ベンゾイルレゾルシン、３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ安息香酸−２，４−ジｔ−ブチルフェニルエステル、３，５−ジｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル、３，５−ジｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、３，５−ジｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ安息香酸−２−メチル−４，６−ジｔ−ブチルフェニルエステル。

【００７５】 ４． アクリル酸エステル類 たとえば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルまたは
−イソオクチルエステル、α−カルボメトキシケイ皮酸メチルエステル、α−シ
アノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステルまたは−ブチルエステ
ル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カ
ルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。

【００７６】 ５． 立体障害性アミン類 たとえば、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、コ
ハク酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、セバシン酸ビス（１
，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）、ｎ−ブチル−３，５−ジｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸からの縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４
−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンからの
縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトロ
トリアセタート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシラート、１，１′−（１，２−エ
タンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン、４−ベンゾイ
ル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジン、マロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペン
タメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔ
−ブチルベンジル）、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、セバシン酸ビス（
１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、コハク酸ビ
ス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、Ｎ，Ｎ
′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジ
アミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンからの縮
合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミ
ノプロピルアミノ）エタンからの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ
−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５
−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンからの縮合生
成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，
８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン
、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）
ピロリジン−２，５−ジオン。

【００７７】 ６． シュウ酸ジアミド類 たとえば、４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２′−ジエトキシ
オキサリニド、２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジｔ−ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジｔ−ブチルオキサニリド、２
−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノ
プロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２′−エチルオキ
サニリドおよびその２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジｔ−ブチルオキ
サニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−、ならびにｏ−およびｐ−エト
キシ二置換オキサニリドの混合物。

【００７８】 ７． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン類 たとえば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフ
ェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プ
ロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビ
ス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−
４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−
ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフ
ェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロ
キシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４
−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−ドデシル−／トリ
デシルオキシ（２−ヒドロキシプロピル）オキシ−２−ヒドロキシフェニル〕−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。

【００７９】 ８． 亜リン酸エステル類および亜ホスホン酸エステル類 たとえば、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニルアルキル、亜リン酸フ
ェニルジアルキル、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）、亜リン酸トリラウリル
、亜リン酸トリオクタデシル、二亜リン酸ジステアリルペンタエリトリトール、
亜リン酸トリス（２，４−ジｔ−ブチルフェニル）、二亜リン酸ジイソデシルペ
ンタエリトリトール、二亜リン酸ビス（２，４−ジｔ−ブチルフェニル）ペンタ
エリトリトール、二亜リン酸ビス（２，６−ジｔ−ブチル−４−メチルフェニル
）ペンタエリトリトール、二亜リン酸ビスイソデシルオキシペンタエリトリトー
ル、二亜リン酸ビス（２，４−ジｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリ
トリトール、二亜リン酸ビス（２，４，６−トリｔ−ブチルフェニル）ペンタエ
リトリトール、三亜リン酸トリステアリルソルビトール、二亜スルホン酸テトラ
キス（２，４−ジｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレン、６−イソオ
クチルオキシ−２，４，８，１０−テトラｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ〔ｄ，
ｇ〕−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テ
トラｔ−ブチル−１２−メチルジベンゾ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキサホス
ホシン、亜リン酸ビス（２，４−ジｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチル、
亜リン酸ビス（２，４−ジｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチル。

【００８０】 さらなる添加物の例は、以下である： 充填材および補強材 たとえば、炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラスビーズ、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カー
ボンブラック、黒鉛、木粉および他の天産物の粉または繊維、合成繊維。

【００８１】 その他の添加剤 たとえば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、加工助
剤（Verlaufshilfsmittel）、光学的増白剤（optische Aufheller）、防炎剤、
静電防止剤、発泡剤。

【００８２】 前述の添加物に加えて、さらに追加的な共開始剤が存在できる。一般に、これ
には、たとえばエネルギー転移または電子移動によって全量子収率を改善する染
料が関係する。共開始剤として添加できる適した染料は、たとえばトリアリール
メタン類たとえばマラカイトグリーン、インドリン類、チアジン類たとえばメチ
レンブルー、キサントン類、チオキサントン類、オキサジン類、アクリジン類ま
たはフェナジン類たとえばサフラニン、および式：

【００８３】

【化２２】

【００８４】 （式中、Ｒは、アルキル−またはアリール残基であり、そしてＲ′は、水素、
アルキル−またはアリール残基を意味する）のローダミン類、たとえばローダミ
ンＢ、ローダミン６ＧまたはビオラミンＲ、その他、スルホローダミンＢまたは
スルホローダミンＧである。

【００８５】 好ましいのは、チオキサントン類、オキサジン類、アクリジン類、フェナジン
類およびローダミン類である。同様にこの組成物に適しているのは、たとえばＵ
Ｓ４，７７２，５３０、ＧＢ２，３０７，４７４、ＧＢ２，３０７，４７３、Ｇ
Ｂ２，３０７，４７２およびＥＰ７７５，７０６に記載されているような、染料
類とボラート類の組み合わせである。

【００８６】 前述の塩基触媒性（硬化性）結合剤である成分Ｂ）に加えて、この組成物はま
た、さらなる結合剤をも含有することができる。可能なものは、たとえばさらな
るオレフィン性不飽和化合物である。この不飽和化合物は、オレフィン性二重結
合を１個または複数個含有できる。これらは低分子（モノマー）またはより高分
子（オリゴマー）のものでよい。二重結合を１個有するモノマーの例は、アルキ
ル−またはヒドロキシアルキルアクリラート類またはメタクリラート類、たとえ
ばメチル−、エチル−、ブチル−、２−エチルヘキシル−または２−ヒドロキシ
エチルアクリラート、イソボルニルアクリラート、メチル−またはエチルメタク
リラートである。シリコーンアクリラートも興味がある。さらなる例は、アクリ
ロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−置換（メタ）アクリルア
ミド類、ビニルエステル類たとえば酢酸ビニル、ビニルエーテル類たとえばイソ
ブチルビニルエーテル、スチレン、アルキル−およびハロゲノスチレン類、Ｎ−
ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデンである。

【００８７】 二重結合を複数個有するモノマーの例は、エチレングリコール−、プロピレン
グリコール−、ネオペンチルグリコール−、ヘキサメチレングリコール−または
ビスフェノールＡジアクリラート、４，４′−ビス（２−アクリロイルオキシエ
トキシ）ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペン
タエリトリトールトリアクリラートまたは−テトラアクリラート、ビニルアクリ
ラート、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、フタル酸ジアリル、リン酸トリ
アリル、イソシアヌル酸トリアリルまたはイソシアヌル酸トリス（２−アクリロ
イルエチル）である。

【００８８】 より高分子（オリゴマー）の多不飽和化合物の例は、アクリル化エポキシ樹脂
、アクリル化、またはビニルエーテル−もしくはエポキシ基含有ポリエステル、
ポリウレタンおよびポリエーテルである。不飽和オリゴマーのさらなる例は、不
飽和ポリエステル樹脂類であって、大多数は、マレイン酸、フタル酸と、ジオー
ルの１種または複数種から製造され、分子量５００〜３，０００を有するもので
ある。それに加えて、ビニルエーテルモノマー類および−オリゴマー類、ならび
にポリエステル−、ポリウレタン−、ポリエーテル−、ポリビニルエーテル−お
よびエポキシド主鎖を有するマレイン酸エステル末端オリゴマー類も使用できる
。特に、ＷＯ９０／０１５１２に記載されたような、ビニルエーテル基含有オリ
ゴマー類およびポリマー類の組み合わせが好適である。またさらに、ビニルエー
テルおよびマレイン酸の官能化モノマーからのコポリマー類も、考慮の対象にな
る。この種の不飽和オリゴマーは、プレポリマーとも呼ばれる。

【００８９】 特に適しているのは、たとえばエチレン性不飽和カルボン酸とポリオールまた
はポリエポキシドとのエステル類、および主鎖中または側鎖基中にエチレン性不
飽和基を有するポリマー類、たとえば不飽和ポリエステル、ポリアミドおよびポ
リウレタンならびにそれらのコポリマー、アルキド樹脂、ポリブタジエンおよび
ブタジエンコポリマー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、側鎖に（
メタ）アクリル基を有するポリマーおよびコポリマー、ならびにこの種のポリマ
ーの１種類または複数種類の混合物である。

【００９０】 この種のラジカル硬化性モノマー類、オリゴマー類／ポリマー類を追加的に使
用する場合には、ラジカルに開裂するさらなる光開始剤の添加が、必須ではない
が有効である。この種の光開始剤は、既知であり、量産技術により生産されてい
る。例は、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフ
ェノン誘導体、たとえばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトン、ジアル
コキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−またはα−アミノアセトフェノン、４
−アロイル−１，３−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエーテルおよびベンジ
ルケタール、モノアシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、
フェロセンまたはチタノセンである。例は、ＥＰ２８４，５６１に記述されてい
る。この種の、異なる複数の機構によって硬化／架橋を起こすポリマー系は、混
成系とも呼ばれる。

【００９１】 本発明の組成物には、光重合性化合物が液状または粘性の物質である場合、非
反応性結合剤で、特に目的にかなったものを添加することができる。非反応性結
合剤の量は、全固形分に対して、たとえば５〜９５重量％、好ましくは１０〜９
０重量％、そして特に４０〜９０重量％とすることができる。非反応性結合剤の
選択は、応用分野およびこれに要求される特性、たとえば水性および有機溶媒系
中における現像性、基材への接着性および酸素感受性によって決まる。

【００９２】 適した結合剤は、たとえば分子量５，０００〜２，０００，０００、好ましく
は１０，０００〜１，０００，０００を有するポリマー類である。例は、以下で
ある：アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルのホモ−およびコポリマ
ー類、たとえばメチルメタクリラート／エチルアクリラート／メタクリル酸から
のコポリマー、ポリ（メタクリル酸アルキルエステル）、ポリ（アクリル酸アル
キルエステル）；セルロースエステルおよび−エーテル、たとえば酢酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース；ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、環化ゴム、ポリエーテル、たとえばポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフラン；ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン類、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル／塩化ビニリデンからのコポリマー類、塩化ビニリデンとアクリ
ロニトリル、メチルメタクリラートおよび酢酸ビニルとのコポリマー類、エチレ
ン／酢酸ビニル共重合体、ポリマー類、たとえばポリカプロラクタムおよびポリ
（ヘキサメチレンアジパミド）、ポリエステル類、たとえばポリ（エチレングリ
コールテレフタラート）およびポリ（ヘキサメチレングリコールスクシナート）
。

【００９３】 また、本発明の目的は、塩基触媒反応を実施する方法であって、前記の本発明
組成物を、波長２００〜６５０nmの光で露光することを特徴とする方法である。

【００９４】 多くの場合、照射中またはその後に加温することが有利であり得る。こうする
ことで、架橋反応は何倍も促進される。

【００９５】 本発明の組成物の感光性は、通常、約２００nmからＵＶ領域を越えて赤外領域
（約２０，０００nm、特に１，２００nm）にまで及び、したがって非常に広い範
囲を包含している。適した光線は、たとえば太陽光または人工光源からの光を包
含する。したがって、光源として多数の異なる種類のものが使用される。点光源
、面光源（ランプカーペット）の両方とも適している。例は、以下である：カー
ボンアークランプ、キセノンアークランプ、水銀中圧−、高圧−および低圧灯で
、場合により金属ハロゲン化物を組み込んだもの（金属ハロゲンランプ）、マイ
クロ波励起金属蒸気ランプ、エキシマーランプ、超アクチニド蛍光管（superakt
inische Leuchtstoffroehren）、蛍光ランプ、アルゴン白熱ランプ、電子閃光ラ
ンプ、写真用投光ランプ、シンクロトロンまたはレーザープラズマにより発生さ
せた電子線およびレントゲン線。ランプと本発明の露光すべき基材との間隔は、
使用目的およびランプの種類または光強度に応じて変化し得るが、たとえば２〜
１５０cmの間である。さらに特に適しているのは、レーザー光源、たとえばエキ
シマーレーザーである。可視領域またはＩＲ領域のレーザーも使用できる。ここ
では、レーザー線に対する本発明の材料の高感度性、および共開始剤としての染
料の適合可能性が、非常に有利である。これらの方法によって、電子工業におけ
る印刷回路、リトグラフによるオフセット印刷版面または凸版印刷版面、および
写真用画像記録材を製造することが可能である。

【００９６】 本発明の組成物は、種々の目的に、たとえば印刷インキとして、たとえば木材
または金属用の透明塗料、白色塗料として、特に紙、木材、金属もしくはプラス
チック用の塗料として、粉体塗料として、建物および路面標識用の昼光硬化性塗
料として、写真技法による複写法に、ホログラフ記録材に、画像記録法のために
、または有機溶媒もしくは水性アルカリによる現像が可能な印刷版面の製造のた
めに、スクリーン印刷用のマスク版面製造のために、歯科用充填剤として、接着
剤として、感圧接着剤として、表層処理用樹脂として、電子回路用のエッチング
−もしくは永久レジストとしておよびソルダーマスクとして、塊状硬化（透明成
形品のＵＶ硬化）またはたとえばＵＳ４，５７５，３３０記載の立体リトグラフ
ィー法による三次元物体の製造のために、複合材料（たとえば場合によりガラス
繊維および／または他の繊維ならびに他の補助材料を含有してよいスチレン系ポ
リエステル類）および他の厚肉材料の製造のために、電子部品の被覆または封止
のために、または光ファイバーの被覆材として使用できる。

【００９７】 塗料には、プレポリマーと多不飽和モノマー類の混合物、加えてさらに単不飽
和モノマーを含有する混合物が、しばしば用いられる。この場合、プレポリマー
は塗料皮膜の特性をまず第一に決定するものであり、当業者は、これを変えるこ
とによって硬化皮膜の特性に影響を与えることができる。多不飽和モノマーは、
塗料皮膜を不溶性にする架橋剤として機能する。単不飽和モノマーは、反応性希
釈剤として機能し、その助けによって、溶媒を使用する必要なしに粘度を低下さ
せる。

【００９８】 不飽和ポリエステル樹脂は、多くの場合、単不飽和モノマー、好ましくはスチ
レンを加えた２成分系に用いられる。ホトレジストには、しばしば特定の１成分
系、たとえばＤＥ２，３０８，８３０に記載されたようなポリマレインイミド、
ポリカルコンまたはポリイミドが使用される。

【００９９】 本発明の光硬化性組成物は、たとえばすべての種類の基材、たとえば木材、織
物、紙、セラミックス、ガラス、プラスチック、たとえばポリエステル、ポリエ
チレンテレフタラート、ポリオレフィンまたは酢酸セルロースで、特に皮膜の形
態のもの、および金属たとえばＡｌ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｎ、ＭｇまたはＣｏ
、およびＧａＡｓ、ＳｉまたはＳｉＯ₂で、その上に保護層または画像様露光に
よる複写画像を形成しようとするもののための、コーティング材として適してい
る。

【０１００】 基材の塗装は、液状の組成物、溶液または懸濁液を、基材上に塗布することに
よって実施できる。溶媒および濃度の選択は、主に組成物の種類、および塗布方
法によって決まる。溶媒は、不活性でなければならず、すなわち成分と化学反応
を起こさず、そして塗布後の乾燥の際に元どおりに除去できなければならない。
適した溶媒は、たとえばケトン類、エーテル類およびエステル類であって、たと
えば、メチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シク
ロヘキサノン、Ｎ−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−
メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノー
ル、１，２−ジメトキシエタン、酢酸エチルエステル、酢酸−ｎ−ブチルエステ
ルおよび３−エトキシプロピオン酸エチルエステルである。

【０１０１】 その溶液は、既知の塗布方法、たとえば、スピン塗布、浸漬、ドクター塗布、
カーテン塗布法（Vorhanggiessverfahren）、はけ塗り、スプレー、特に静電ス
プレー、およびリバースロール塗布、ならびに電気泳動析出法によって、基材上
に均一に塗布される。また、感光被膜を仮の可撓性支持材上に作成し、その後、
重ね合わせて被膜を転写することにより、最終的な基材、たとえば銅張回路板を
被覆することも可能である。

【０１０２】 塗布量（被膜厚さ）および基材（被膜支持材）の種類は、所望の応用分野によ
る。被膜厚さの範囲は、一般に約０．１〜１００μmを越える値を包含する。

【０１０３】 本発明の感光性組成物は、画像様に露光することも可能である。したがって、
ネガ型レジストとしての応用も可能である。これは、電子工学（メッキレジスト
、エッチングレジスト、ソルダーレジスト）、印刷版面、たとえばオフセット印
刷版面、フレキソ−および高圧印刷版面またはスクリーン印刷型版の製造、印章
の製造、成形部品のエッチングにおける使用、または集積回路製造の際のマイク
ロレジストとしての使用に適している。使用可能な被膜支持材および被覆した基
材の加工条件はそれぞれの用途に応じて異なる。

【０１０４】 “画像様”露光の概念は、あらかじめ決められた画像を有するホトマスク、た
とえば透明陽画を透過させる露光、、たとえばコンピューター制御によってレー
ザー光を被覆された基材表面上で動かして画像を形成させる、レーザー光による
露光、およびコンピューター制御された電子線による照射の、すべてを包含する
。

【０１０５】 材料の画像様露光の後で現像の前に、熱処理を短時間行うことは有利であり得
る。その際には、露光された部位のみが熱硬化される。適用する温度は、一般に
５０〜１５０℃、好ましくは８０〜１３０℃の範囲にある；熱処理の時間は、普
通０．２５〜１０分の範囲にある。

【０１０６】 光硬化のさらなる応用分野は、金属の塗装、たとえばブリキ板および管、缶ま
たは瓶の口金の塗装、およびたとえばＰＶＣに基づく床材または壁材の仕上げ用
のプラスチック塗装の光硬化である。紙塗装の光硬化の例は、ラベル、レコード
ジャケットまたはブックカバーの無色塗装である。

【０１０７】 本発明のさらなる目的は、前述の式（Ｉ）の化合物の光開始剤（光化学的に誘
起された塩基触媒による付加−または置換反応のための）としての、特に複合材
料（残基Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅およびｍは、前述
の意味および好ましい範囲を有する）を使用した成形部品の硬化のための応用で
ある。

【０１０８】 また、本発明の目的は、被膜、成形品または光形成された層の製造のための、
前述の応用である。

【０１０９】 複合材料は、通常、自己保持性のマトリクッス材、たとえばガラス繊維織物、
または同様にたとえば植物繊維〔K.-P. Mieck, T. Reussmann: kunststoffe, 85
(1995), 366〜370参照〕を、光硬化性の調合品で含浸したものからなっている。
本発明の化合物を用いて複合材料から製造した成形部品においては、高い機械的
安定性および抵抗性が達成される。本発明の化合物は、たとえばＥＰ７０８６に
記載されている成形−、含浸−および被膜物品の光硬化剤としても使用できる。
この種の物品は、たとえば追加的に硬化活性および黄変抵抗性が要求されるよう
な薄層樹脂、たとえば平面状、縦方向または斜め方向に波形をつけた照明窓板の
ような繊維強化成形品である。

【０１１０】 塩基触媒性の付加−または置換反応の例および好ましい範囲は、前述のとおり
である。

【０１１１】 本発明のさらなる目的は、少なくとも一方の表面が前述の組成物で塗布されて
いる被覆基材、および被覆基材を画像様露光し、続いて非露光部位を溶媒で除去
することによる、レリーフ像の写真技法による製造方法である。特に興味がある
のは、その際に前述のレーザー光を用いる露光である。

【０１１２】 本発明の目的はまた、本発明の化合物の、被膜、成形品または光形成層の製造
への応用である。また、本発明の目的は、重合または架橋された本発明の組成物
である。

【０１１３】 実施例 以下の例が、本発明をさらに詳しく説明する。部およびパーセント表示は、他
の個所の記述および特許請求の範囲においても同様、他に記載のない限り、重量
に関する。Ｃ原子３個を越えるアルキル−またはアルコキシ残基で、その異性体
形状についての言及のないものは、その表示はそれぞれｎ−異性体に関する。例
の中では、以下の略号を使用する：“Ａｒ”はアリール、“ＤＭＳＯ”はジメチ
ルスルホキシド、“Ｉ．Ｒ．”は赤外スペクトル、“¹Ｈ ＮＭＲ”は水素核磁
気共鳴スペクトル（シフト値表示はppm）、“m.p.”は融点。

【０１１４】 例Ａ：臭化物の製造 共通の方法： それぞれの窒素塩基１当量を、トルエン中、室温で撹拌した。トルエン中の３
−ブロモ−２−フェニルプロパン１当量を加え、そしてその反応混合物を一夜撹
拌した。沈殿した臭化物を、濾過し、トルエンで洗浄した。生成物を、収率６０
〜７０％で得た。

【０１１５】 例Ａ１

【０１１６】

【化２３】

【０１１７】 分析 Ｃ₁₅Ｈ₂₄ＢｒＮ・１Ｈ₂Ｏの計算値：Ｃ 56.97；Ｈ 8.29；Ｎ 4.43. 実測値：Ｃ 56.92；Ｈ 8.30；Ｎ 4.19. m.p.＝９０〜９３℃. Ｉ．Ｒ．（ＫＢｒ） １６１７cm^-1. ¹Ｈ ＮＭＲ（ｄ₆−ＤＭＳＯ）:7.56(2H、m、ArH)、7.40(3H、m、ArH)、5.80(
1H、s、=CH)、5.74(1H、s、=CH)、4.41(2H、s、N⁺-CH₂)、3.07(6H、q、J=7.2Hz)
、1.11(9H、t、J=7.1Hz）. m/z(ESI-MS):218（アンモニウムカチオン）;79および81（臭化物アニオン）.

【０１１８】 例Ａ２

【０１１９】

【化２４】

【０１２０】 ¹Ｈ ＮＭＲ（ｄ₆−ＤＭＳＯ）:7.52〜7.10(5H、m、ArH)、5.56(1H、s、=CH)
、5.24(1H、s、=CH)、4.56(2H、s、N⁺-CH₂)、3.68(2H、t、J=7.2Hz)、3.38(4H、
m)、3.01(2H、d、J=7.8Hz)、2.05(4H、m). m/z(ESI-TOF-MS):241（アンモニウムカチオン）.

【０１２１】 例Ｂ：ボラート塩の製造 テトラフェニルボラート塩の共通製造方法： それぞれの臭化物１当量を、水中、室温で撹拌し、そしてナトリウムテトラフ
ェニルボラートの水溶液１当量を加えた。沈殿したテトラフェニルボラート塩を
濾過分離して水で洗浄し、真空乾燥した。生成物を収率９５％で得た。

【０１２２】 例Ｂ１

【０１２３】

【化２５】

【０１２４】 分析 Ｃ₃₉Ｈ₄₄ＢＮ・２Ｈ₂Ｏの計算値：Ｃ 81.66；Ｈ 8.43；Ｎ 2.44. 実測値：Ｃ 81.31；Ｈ 7.94；Ｎ 2.24. m.p.＝１６５〜１６６℃. Ｉ．Ｒ．（ＫＢｒ） １５７９cm^-1. ¹Ｈ ＮＭＲ（ｄ₆−ＤＭＳＯ）:7.55(2H、m、ArH)、7.41(3H、m、ArH)、7.17(
8H、m、ArH)、6.91(12H、m、ArH)、5.79(1H、s、=CH)、5.75(1H、s、=CH)、4.38
(2H、s、N⁺-CH₂)、3.07(6H、q、J=7.2Hz)、1.10(9H、t、J=7.1Hz）. m/z(ESI-TOF-MS):218（アンモニウムカチオン）;319（ボラートアニオン）.

【０１２５】 例Ｂ２

【０１２６】

【化２６】

【０１２７】 分析 Ｃ₄₀Ｈ₄₁ＢＮ₂・０．４Ｈ₂Ｏの計算値：Ｃ 84.61；Ｈ 7.42；Ｎ 4.93. 実測値：Ｃ 84.67；Ｈ 7.44；Ｎ 4.76. m.p.＝１４１〜１４２℃. Ｉ．Ｒ．（ＫＢｒ） １６７３cm^-1. ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）:7.33(11H、m、ArH)、7.10(2H、m、ArH)、6.91(12H
、m、ArH)、5.37(1H、s、=CH)、4.87(1H、s、=CH)、3.61(2H、s、N⁺-CH₂)、2.92
(2H、t、J=7.2Hz)、2.66(2H、t、J=5.5Hz)、2.48(2H、t、J=5.8Hz)、1.93(2H、t
、J=7.6Hz)、1.51(2H、m)、1.36(2H、t、J=5.7Hz). m/z(ESI-MS):241（アンモニウムカチオン）;319（ボラートアニオン）.

【０１２８】 例Ｂ３

【０１２９】

【化２７】

【０１３０】 分析 Ｃ₃₉Ｈ₄₁ＢＮ₂・０．７５Ｈ₂Ｏの計算値：Ｃ 83.34；Ｈ 7.62；Ｎ 4.98. 実測値：Ｃ 83.36；Ｈ 7.49；Ｎ 4.66. m.p.＝２２２〜２２３℃. ¹Ｈ ＮＭＲ（ｄ₆−ＤＭＳＯ）:7.58(2H、m、ArH)、7.42(3H、m、ArH)、7.17(
8H、m、ArH)、6.92(8H、m、ArH)、6.78(4H、m、ArH)、5.93(1H、s、=CH)、5.71(
1H、s、=CH)、4.43(2H、s、N⁺-CH₂)、3.14(6H、m)、2.93(6H、m). m/z(ESI-TOF-MS):229（アンモニウムカチオン）;319（ボラートアニオン）.

【０１３１】 トリス（３−フルオロフェニル）ヘキシルボラート塩の共通製造方法： それぞれの臭化物１当量を、水中、室温で撹拌し、そしてテトラメチルアンモ
ニウムトリス（３−フルオロフェニル）ヘキシルボラートのメタノール溶液１当
量を加えた。沈殿したトリス（３−フルオロフェニル）ヘキシルボラート塩を濾
過分離して水で洗浄し、真空乾燥した。生成物を収率８５％で得た。

【０１３２】 例Ｂ４

【０１３３】

【化２８】

【０１３４】 ¹Ｈ ＮＭＲ（d₆-DMSO):7.43(5H、m、ArH)、6.96(9H、m、ArH)、6.53(3H、m、
ArH)、5.56(1H、s、=CH)、5.21(1H、s、=CH)、4.54(2H、s、N⁺-CH₂)、3.67(2H、
t、J=7.2Hz)、3.34(4H、m)、2.98(2H、t、J=7.8Hz)、1.97(4H、m)、1.57(6H、br
.s.)、0.8(7H、m). ｍ／ｚ（ESI-TOF-MS）：２４１（アンモニウムカチオン）；３８１（ボラート
アニオン）.

【０１３５】 例Ｂ５

【０１３６】

【化２９】

【０１３７】 分析 Ｃ₃₉Ｈ₄₉ＢＦ₃Ｎの計算値：Ｃ 78.12；Ｈ 8.24；Ｆ 9.50；Ｎ 2.33. 実測値：Ｃ 77.90；Ｈ 8.32；Ｆ 9.41；Ｎ 2.80. m.p.＝７２〜７４℃. Ｉ．Ｒ．（ＫＢｒ） １５９４cm^-1. ¹Ｈ ＮＭＲ（ｄ₆−ＤＭＳＯ）:7.55(2H、m、ArH)、7.41(3H、m、ArH)、6.95(
6H、m、ArH)、6.78(3H、m、ArH)、6.55(3H、m、ArH)、5.79(1H、s、=CH)、5.75(
1H、s、=CH)、4.38(2H、s、N⁺-CH₂)、3.07(6H、q、J=7.2Hz)、1.12(15H、m)、0.
80(7H、m). m/z(ESI-TOF-MS):218（アンモニウムカチオン）;318（ボラートアニオン）．

【０１３８】 使用例Ｃ 例Ｃ１ 組成物を、下記の成分を混合することによって調製した： エポキシフェノールノボラック （（登録商標）ＧＹ１１８０；チバスペシャルティケミカルズ） １００．０部 カルボキシ基含有ポリアクリラート （（登録商標）Carboset ５２５；ビー・エフ・グッドリッチ） ２００．０部 潜在性塩基（＝３％） ９．０部 イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）（＝０．５％） １．５部 アセトン ５００．０部 得られた調合品を、１００μmのスパイラルドクター（Spiralrakel）でアルミ
ニウム板に塗布し、そして５０℃において１５分間予備乾燥した。この被膜の上
にポリエステルフィルムをかぶせ、そしてその上に、２１段階の異なる光学的密
度を備えた標準の試験用陰画（ストウファーくさび（Stouffer Keil））を重ね
た。この試験片を第２のＵＶ透過性フィルムで覆い、そして陰圧で金属板上に圧
着した。第１試験系列においては８０秒間、第２試験系列においては１６０秒間
、そして第３試験系列においては３２０秒間、３kWの金属ハロゲンランプ（ＯＲ
Ｃ ＳＭＸ３０００）を用いて、６０cmの距離で露光を実施した。露光の後、フ
ィルムおよびマスクを取り除き、そして露光した被膜をエタノール中の超音波浴
において、２３℃で５分間現像した。空気循環炉中において、１２０℃で５分間
乾燥した。使用した開始剤系の感度は、粘着なしに複写されている最後のくさび
段階の表示を尺度とした。段階の数値が高いほど、試験した系は、より高感度で
ある。結果を表１に記す。

【０１３９】

【表１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 2/50 Ｃ０８Ｆ 2/50 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０３Ｂ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ， ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ， ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，Ｍ Ｇ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ， ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，Ｖ Ｎ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ターナー，ショーン コールム アメリカ合衆国 イリノイ 60201 エバ ンストン セントラル ストリート ナン バーディディ３ 1514 (72)発明者 カニンガム，アラン フランシス アメリカ合衆国 ニューヨーク 10589 サマーズ レイク ドライブ 19 Ｆターム(参考） 2H025 AB02 AB03 AB15 AB16 AB20 AC01 AD01 BD23 BD43 BD48 BE00 CA09 CA28 CC20 FA03 FA12 FA15 4C050 AA01 AA03 BB04 BB08 CC08 EE02 FF01 GG01 HH01 4H006 AA01 AA02 AB40 AB76 4H048 AA01 AB40 AB76 VA11 VA75 VB10 4J011 SA64 SA78 SA82 SA87

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 （式中、 ｍは、１または２であって、カチオンの正電荷数に相当し； Ｒ₁は、フェニル、ナフチル、フェナントリル、アントラシル、ピレニル、５
   ，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル、５，６，７，８−テトラヒドロ−
   １−ナフチル、チエニル、ベンゾ〔ｂ〕チエニル、ナフト〔２，３−ｂ〕チエニ
   ル、チアントレニル、ジベンゾフリル、クロメニル、キサンテニル、チオキサン
   チル、フェノキサチイニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピラジニル
   、ピリミジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル
   、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジ
   ニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリ
   ジニル、カルバゾリル、β−カルボリニル、フェナントリジニル、アクリジニル
   、ペリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、フェノ
   チアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、テルフェニル、スチルベニル、フル
   オレニルまたはフェノキサジニルを意味し、ここでこれらの残基は、非置換か、
   あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、Ｎ₃、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、
   Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンの１個もしくは複数個により置換
   されており、あるいはＲ₁は、式ＡまたはＢ： 【化２】 の残基を意味し； Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立に、水素、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈
   アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニルもしくはフェニルであるか、または互いに独
   立に、Ｒ₂とＲ₃、および／もしくはＲ₄とＲ₃がＣ₂〜Ｃ₁₂アルキレン橋を形成し
   ており；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、それらが結合している窒素原子と一緒にな
   って、Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₄型のホスファゼン塩基、または構造式（ａ）、（ｂ）、（
   ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）もしくは（ｇ）： 【化３】 （式中、ｋおよびｌは、互いに独立に、数２〜１２を意味する） の基を形成しており； Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀は、互いに独立に、水素またはＣ₁〜Ｃ₁₈ アルキルであり； Ｒ₁₁は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₂〜Ｃ₁₈アルキニル、
   Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＮＲ₆Ｒ₇、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ
   （Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンであり；そして ｎは、０または数１、２もしくは３であり； Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、ここ
   でこれらの残基は、非置換か、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニ
   ル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、
   ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀またはハロゲンの１個もしくは複
   数個により置換されており； Ｒ₁₅は、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、フェニルまたは他の芳香族炭化水素であって、
   ここで、フェニルおよび芳香族炭化水素残基は、非置換か、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈
   アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルケニル、Ｃ₃〜Ｃ₁₈アルキニル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンア
   ルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈、ＳＲ₈、Ｃ（Ｏ）Ｒ₉、Ｃ（Ｏ）ＯＲ₁₀また
   はハロゲンの１個もしくは複数個により置換されており、あるいはＲ₁₅は、残基
   ： 【化４】 であり；そして Ｘは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキレンであるか、またはＣ₂〜Ｃ₂₀アルキレンであって、
   −Ｏ−、−Ｓ−もしくはＮＲ₈により中断されているものを意味し、あるいはＸ
   は、 【化５】 である） の化合物。
2. 【請求項２】 Ｒ₁が、フェニル、ナフチル、ピレニル、チオキサンチルま
   たはフェノチアジニルを意味し、ここで、これら残基が非置換か、あるいはＣ₁
   〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＲ₆Ｒ₇、ＣＮ、ＮＯ₂、ＳＲ₈
   またはＯＲ₈の1個もしくは複数個により置換されている、請求項１記載の化合物
   。
3. 【請求項３】 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄が、互いに独立に、水素であるか、ま
   たはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｒ₂とＲ₃、および／もしくはＲ₄とＲ₃が、互いに独立
   にＣ₂〜Ｃ₁₂アルキレン橋を形成している；あるいはＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₄が、それらが
   結合している窒素原子と一緒になって、構造式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）
   、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）もしくは（ｈ）の基を、またはＰ₁、Ｐ₂もしくはＰ₄
   型のホスファゼン塩基を形成している、請求項１記載の化合物。
4. 【請求項４】 Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキルが、窒素原子と一緒に
   なって、構造式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）または（ｅ）の基を形成してい
   る、請求項１記載の化合物。
5. 【請求項５】 Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄が、フェニル、ビフェニル、ナフチル
   、アントラシルまたはフェナントリルであって、ここでこれらの残基が、非置換
   のものか、あるいはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、
   ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈またはハロゲンの１個もしくは複数個により置換されている
   ものを意味し、そして Ｒ₁₅が、Ｃ₁〜Ｃ₁₈アルキル、あるいは非置換の、またはＣ₁〜Ｃ₁₈アルキル、
   Ｃ₁〜Ｃ₁₈ハロゲンアルキル、ＮＯ₂、ＯＨ、ＣＮ、ＯＲ₈もしくはハロゲンの１
   個もしくは複数個により置換されているフェニルを意味する、請求項１記載の化
   合物。
6. 【請求項６】 第一工程において、式II： ＮＲ₂Ｒ₃Ｒ₄ （II） の窒素塩基を、式III： 【化６】 のα−ハロゲンアルケンにより、式IV： 【化７】 の化合物に変換し、そして第二工程において、式IVの化合物を、式Ｖ： 【化８】 の化合物により、式Ｉの化合物に転換する （式中、 ハロゲンは、臭素またはヨウ素を意味し、そして Ｍは、Ｎａ、Ｋまたはアンモニウムであり、そして 残基Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄およびＲ₁₅は、請求項１記
   載の意味を有する） ことを特徴とする、式Ｉの化合物の製造方法。
7. 【請求項７】 Ａ）式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種、および Ｂ）塩基触媒による付加−または置換反応が可能な有機化合物の少なくとも１
   種 を含有する組成物。
8. 【請求項８】 成分Ｂ）が、アニオン重合可能または架橋可能な有機物質で
   ある、請求項７記載の組成物。
9. 【請求項９】 成分Ｂ）が、下記の系： ａ）アルコキシシラン−またはアルコキシシロキサン側鎖基を有するアクリラ
   ートコポリマー、 ｂ）ヒドロキシル基含有ポリアクリラートおよび／またはポリエステル、なら
   びに脂肪族または芳香族ポリイソシアナートからなる２成分系、 ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドからなる２成分系であって
   、該ポリアクリラートが、カルボキシル−または酸無水物基を含有するもの、 ｄ）フッ素変性またはケイ素変性の、ヒドロキシル基含有ポリアクリラートま
   たはポリエステル、および脂肪族または芳香族ポリイソシアナートからなる２成
   分系、 ｅ）（ポリ）ケチミン、および脂肪族または芳香族ポリイソシアナートからな
   る２成分系、 ｆ）（ポリ）ケチミン、および不飽和アクリル樹脂またはアセトアセタート樹
   脂もしくはメチル−α−アクリルアミドメチルグリコラートからなる２成分系、 ｈ）（ポリ）オキサゾリジン、および酸無水物基含有ポリアクリラートもしく
   は不飽和アクリル樹脂またはポリイソシアナートからなる２成分系、 ｉ）エポキシ基含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクリラ
   ートからなる２成分系、 ｌ）アリルグリシジルエーテルに基づくポリマー ｍ）（ポリ）アルコールおよび（ポリ）イソシアナートからなる２成分系、 ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性ＣＨ₂基を有す
   る化合物からなる２成分系、 の１つを意味する、請求項７記載の組成物。
10. 【請求項１０】 成分Ｂ）が、下記の系： ｂ）ヒドロキシル基含有ポリアクリラートおよび／またはポリエステル、なら
    びに脂肪族または芳香族ポリイソシアナートからなる２成分系、 ｃ）官能性ポリアクリラートおよびポリエポキシドからなる２成分系であって
    、該ポリアクリラートがカルボキシル−または酸無水物基を含有するもの、 ｉ）エポキシ基含有ポリアクリラートおよびカルボキシル基含有ポリアクリラ
    ートからなる２成分系、 ｍ）（ポリ）アルコールおよび（ポリ）イソシアナートからなる２成分系、 ｎ）α，β−エチレン性不飽和カルボニル化合物、および活性ＣＨ₂基を有す
    る化合物からなる２成分系、 の１つを意味する、請求項７記載の組成物。
11. 【請求項１１】 成分Ｂ）が、エポキシ樹脂、または異なるエポキシ樹脂の
    混合物である、請求項７記載の組成物。
12. 【請求項１２】 成分Ａ）を、成分Ｂに対して０．０１〜１０重量％の量で
    含有する、請求項７記載の組成物。
13. 【請求項１３】 チオキサントン、オキサジン、アクリジン、フェナジンま
    たはローダミンの群から選ばれる増感剤をさらに含有する、請求項７記載の組成
    物。
14. 【請求項１４】 請求項７記載の組成物を、波長２００〜６５０nmの光で露
    光することを特徴とする、塩基触媒反応の実施方法。
15. 【請求項１５】 露光中または露光後に加温することを特徴とする、請求項
    １４記載の方法。
16. 【請求項１６】 式Ｉの有機化合物の、光化学的に誘起される塩基触媒によ
    る付加−または置換反応のための光触媒としての使用。
17. 【請求項１７】 式Ｉの有機化合物の、被膜、成形品または光形成層の製造
    のための使用。
18. 【請求項１８】 少なくとも１個の表面が、請求項７記載の組成物で被覆さ
    れている被覆基材。
19. 【請求項１９】 重合または架橋された、請求項７記載の組成物。