RU1810401C - Способ выращивани монокристаллов германата висмута - Google Patents

Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Info

Publication number
RU1810401C
RU1810401C SU914911952A SU4911952A RU1810401C RU 1810401 C RU1810401 C RU 1810401C SU 914911952 A SU914911952 A SU 914911952A SU 4911952 A SU4911952 A SU 4911952A RU 1810401 C RU1810401 C RU 1810401C
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
crystal
crystals
melt
single crystals
bismuth germanate
Prior art date
Application number
SU914911952A
Other languages
English (en)
Inventor
Станислав Феликсович Бурачас
Валерий Павлович Мартынов
Евгений Николаевич Пирогов
Валерий Григорьевич Бондарь
Вадим Иванович Кривошеин
Станислав Константинович Бондаренко
Борис Васильевич Загвоздкин
Original Assignee
Институт Монокристаллов Ан Усср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Монокристаллов Ан Усср filed Critical Институт Монокристаллов Ан Усср
Priority to SU914911952A priority Critical patent/RU1810401C/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU1810401C publication Critical patent/RU1810401C/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Использование: получение кристаллов дл   дерной физики, физики высоких энергий . Сущность изобретени : монокристаллы выт гивают из расплава в платиновом тигле на вращающуюс  затравку. После отрыва выращенного кристалла от расплава мощность высокочастотного индуктора уменьшают в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с. Получают кристаллы без трещин, тигли не деформируютс . 1 табл.

Description

Изобретение относитс  к технологии получени  монокристаллов германата висмута со структурой эвлишна BbjGeaOiz (BGO) и может быть использовано при промышленном производстве кристаллов, наход щих все более широкое применение в  дерной физике, физике высоких энергий и других област х науки и техники при быстро растущем на них спросе на мировом рынке, Изобретение может быть использовано и при выращивании других кристаллов методом Чохральского (гранатов, ниобатов, тан- талатов, силикатов и др.).
Цель изобретени  - повышение производительности , выхода годного и увеличение срока службы платиновых тиглей.
В основе за вл емого технического решени  лежат следующие физические  влени . После отрыва кристалла от расплава наминаетс  быстрое охлаждение его нижней приосевой части вследствие лучистой теплопроводности,по кристаллу и резкого уменьшени  подвода тепла от расплава. В
то же врем  бокова  поверхность кристалла продолжает нагреватьс  излучением от раскаленных боковых стенок тигл ,.Такой процесс ведет к резкому возрастанию радиального градиента температуры и св занных с ним термоупругих н ттр  жений, что может привести к растрескиванию кристалла .
Снижение подводимой к индуктору высокочастотной мощности приводит к значительному уменьшению радиального градиента температуры в нижней части кристалла (за счет уменьшени  подогрева боковой поверхности кристалла оголенными стенками тигл ) и уменьшению возникающих после отрыва кристалла термоупругих напр жений.
В результате кристалл после отрыва не растрескизаетс  и сохран ет то качество, которое было достигнуто на стадии роста . Дефектна  часть и (или) специально сформированный нижний конус у кристалла , выращенного описанным способом, отел
00
л
о
сутствуют, т.е. дол  кристалла годной дл  изготовлени  .из него изделий (сцинтилллто- ров) близка к 100%.
Кроме того, в результате быстрого охлаждени  стенок тигл  кристаллизаци  расплава начинаетс  снизу и от стенок тигл . В итоге расплав застывает таким образом, что деформаци  тигл  полностью отсутствует, что увеличивает их срок службы.
За счет сокращени  времени снижени  мощности и отсутстви  роста дефектной части (нижнего конуса) длительность непроизводительного заключительного этапа выращивани  (охлаждение кристалла и кристаллизационного узла) сокращаетс  с 15- 20 ч до 8-10 ч, т.е. в 2 раза. Это повышает производительность ростовых установок на
-6-8%.
Снижать мощность быстрее 2 с на существующих ростовых установках с АСУТП нецелесообразно из-за особенностей их конструктивных и схемных решений, привод щих к нестабильности и нарушени м работы АСУТП и ростовой установки.
При времени снижени  мощности более 10 с в некоторых случа х наблюдаетс  растрескивание кристалла в ходе его последующей обработки (т.е, достаточно велики остаточные напр жени , которые иногда привод т к растрескиванию).
Снижение мощности менее чем в 1,5 и более чем в 2,5 раза недостаточно эффективно , так как приводит к растрескиванию кристалла либо в ходе охлаждени , либо в ходе последующей обработки. Это св зано с тем, что в первом случае охлаждение периферии кристалла идет существенно медленнее его приосевой части, а во втором случае наоборот. Например, дл  германата висмута в одном из опытов температура стенок тигл  в первом случае снижаетс  с 1146 до 1024°С в течение 60 с, а во втором случае с 1148 до 972°С в течение того же времени.
Таким образом, в результате снижени  подводимой к индуктору высокочастотной мощности в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с (непосредственно сразу после отделени  кристалла от расплава увеличением скорости выт гивани ) кристалл не растрескиваетс  и у него отсутствует дефектный нижний
конус. При этом дол  годного качественного кристаллического материала близка к 100% (т.е. увеличиваетс  по сравнению с прототипом на 5-10%), отсутствует деформаци  тигл , производительность ростовых установок увеличиваетс  на 6-8%.
За вл емый способ включает следующие операции:
1. Затраоление
2.Разращивание верхнего конуса
3. Рост при посто нном диаметре
А. Отделение кристалла от
расплава
5. Охлаждение кристалла
В за вл емом способеопераци  формировани  нижнего конуса исключаетс , а повышение выхода годных кристаллов, исключение деформации тигл  и повышение производительности ростовых установок осуществл етс  за счет применени  нового приема, а именно: уменьшением
подводимой к индуктору высокочастотной мощности в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с непосредственно после отделени  кристалла от расплава увеличением скорости выт гивани ,
Пример. Тигель с наплавом шихты германата висмута помещают в кристаллизационный узел установки Кристалл-613. Германат висмута расплавл ют в платиновом тигле диаметром 100 и высотой 120мм
в окислительной атмосфере, опускают в расплав вращающуюс  со скоростью 40 об/мин затравку и выт гивают ее со скоростью 1,5 мм/ч. С помощью АСУТП разращивают верхний конус и далее кристалл посто нного диаметра (например 55±1 мм). При достижении длины кристалла 200 мм увеличивают скорость выт гивани  до 2000 мм/ч (и тем самым отрывают его от расплава) и поднимают
на высоту 50 мм. Сразу же после отрыва кристалла (контролируетс  по приборам АСУТП) в течение времени t (2-10 с) снижают подводимую к индуктору высокочастотную мощность в п (1,5-2,5) раза. Затем
начинают охлаждение по заданной программе АСУТП ( 100-150 град/ч). После охлаждени  кристалла его извлекают из кристаллизационного узла и оценивают его качество.
По результатам испытаний врем  t 1 с осуществить практически нецелесообразно из-за нарушений в работе АСУТП. При 2 с t 10 с и 1,5 п 2,5 кристалл не растрескиваетс . При t 10 с, п 1,5 и п 2,5
кристалл растрескиваетс  либо в ростовой камере, либо при дальнейшей обработке. Результаты испытаний способа приведены в таблице.
Авторами были проведены сравнительные испытани  за вл емого технического решени , Всего было проведено 35 опытов по режимам в соответствии с формулой (или близким к ним) дл  различных монокристаллов германата висмута. Более
50 опытов было проведено по прототипу и аналогам.
Все кристаллы, полученные в соответствии с формулой изобретени , не имели трещин и дефектного нижнего конуса, обьем годной части кристалла составил 98-100%.
В то же врем  кристаллы, полученные по аналогам и прототипу, имели трещины и дефектные части. Объем годной части этих кристаллов составил 40-95%,
При выращивании по за вл емому способу деформаци  тиглей полностью отсутствует , в то врем  как при выращивании по прототипу и аналогам она наблюдаетс  в 30-50% случаев.
Длительность операции охлаждени  кристалла до его полного остывани  по за вл емому способу 8-10 ч, а по прототипу и аналогам 15-20 ч.
Таким образом, испытани  показали, что за вл емый способ позвол ет повысить выход годных кристаллов и производительность ростовых установок, увеличить срок службы платиновых тиглей,
Указанный способ может примен тьс  при выращивании многих монокристаллов сложных оксидов методом Чохральского (например, ниобата и танталата лити , нио- бата бари  - стронци , алюмоиттриевого граната,- силиката гадолини  и др.).

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    Способ выращивани  монокристаллов германата висмута, включающий расплавление исходного материала в платиновом тигле с помощью высокочастотного индуктора , затравление на вращающуюс 
    затравку, разращивание конусной части кристалла, выт гивание его цилиндрической части, отделение кристалла от расплава и его охлаждение, отличающийс  тем, что, с целью повышени  производительности , выхода годных кристаллов и увеличени  срока службы платиновых тиглей , после отделени  кристалла мощность индуктора уменьшают в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с.
SU914911952A 1991-02-19 1991-02-19 Способ выращивани монокристаллов германата висмута RU1810401C (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU914911952A RU1810401C (ru) 1991-02-19 1991-02-19 Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU914911952A RU1810401C (ru) 1991-02-19 1991-02-19 Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU1810401C true RU1810401C (ru) 1993-04-23

Family

ID=21560889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU914911952A RU1810401C (ru) 1991-02-19 1991-02-19 Способ выращивани монокристаллов германата висмута

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU1810401C (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР №762257, кл. С 30 В 15/00,1979(непублик.). Авторское свидетельство СССР № 1700954, кл. С 30 В 15/00, 1989 (непуб- лик.). *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5607507A (en) System for oxygen precipitation control in silicon crystals
JP3841863B2 (ja) シリコン単結晶の引き上げ方法
WO2006012924A1 (en) Method of growing single crystals from melt
US3088853A (en) Method of purifying gallium by recrystallization
RU1810401C (ru) Способ выращивани монокристаллов германата висмута
US3261722A (en) Process for preparing semiconductor ingots within a depression
JPH04104988A (ja) 単結晶成長方法
Bhalla et al. Crystal growth of antimony sulphur iodide
JP5375794B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法
JPS61201692A (ja) 欠陥発生の少ないシリコン単結晶インゴットの引上げ育成方法
US4273609A (en) Rinse melt for LPE crystals
RU2261297C1 (ru) Способ выращивания монокристаллов из расплава методом амосова
RU2054495C1 (ru) Способ выращивания монокристаллов арсенида галлия для изготовления подложек интегральных схем
CN111962157B (zh) 一种碳化硅晶体微管的愈合方法及碳化硅产品和应用
EP4130348A1 (en) Device and method for producing a monocrystalline silicon rod
US3775066A (en) Method for producing crystal plate of gadolinium molybdate
JP2622274B2 (ja) 単結晶の育成方法
JP2739554B2 (ja) 四硼酸リチウム結晶の製造方法
JP2959097B2 (ja) 単結晶の育成方法
JPS6212695A (ja) 坩堝処理方法
JPH0692781A (ja) 単結晶の製造方法及び製造装置
JPS6317290A (ja) 残存原料の除去方法
JPS6385085A (ja) シリコン単結晶育成方法
RU2261295C1 (ru) Способ выращивания монокристаллов германия
JPH08104595A (ja) 単結晶の育成方法