RU1810401C - Способ выращивани монокристаллов германата висмута - Google Patents
Способ выращивани монокристаллов германата висмутаInfo
- Publication number
- RU1810401C RU1810401C SU914911952A SU4911952A RU1810401C RU 1810401 C RU1810401 C RU 1810401C SU 914911952 A SU914911952 A SU 914911952A SU 4911952 A SU4911952 A SU 4911952A RU 1810401 C RU1810401 C RU 1810401C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- crystal
- crystals
- melt
- single crystals
- bismuth germanate
- Prior art date
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Использование: получение кристаллов дл дерной физики, физики высоких энергий . Сущность изобретени : монокристаллы выт гивают из расплава в платиновом тигле на вращающуюс затравку. После отрыва выращенного кристалла от расплава мощность высокочастотного индуктора уменьшают в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с. Получают кристаллы без трещин, тигли не деформируютс . 1 табл.
Description
Изобретение относитс к технологии получени монокристаллов германата висмута со структурой эвлишна BbjGeaOiz (BGO) и может быть использовано при промышленном производстве кристаллов, наход щих все более широкое применение в дерной физике, физике высоких энергий и других област х науки и техники при быстро растущем на них спросе на мировом рынке, Изобретение может быть использовано и при выращивании других кристаллов методом Чохральского (гранатов, ниобатов, тан- талатов, силикатов и др.).
Цель изобретени - повышение производительности , выхода годного и увеличение срока службы платиновых тиглей.
В основе за вл емого технического решени лежат следующие физические влени . После отрыва кристалла от расплава наминаетс быстрое охлаждение его нижней приосевой части вследствие лучистой теплопроводности,по кристаллу и резкого уменьшени подвода тепла от расплава. В
то же врем бокова поверхность кристалла продолжает нагреватьс излучением от раскаленных боковых стенок тигл ,.Такой процесс ведет к резкому возрастанию радиального градиента температуры и св занных с ним термоупругих н ттр жений, что может привести к растрескиванию кристалла .
Снижение подводимой к индуктору высокочастотной мощности приводит к значительному уменьшению радиального градиента температуры в нижней части кристалла (за счет уменьшени подогрева боковой поверхности кристалла оголенными стенками тигл ) и уменьшению возникающих после отрыва кристалла термоупругих напр жений.
В результате кристалл после отрыва не растрескизаетс и сохран ет то качество, которое было достигнуто на стадии роста . Дефектна часть и (или) специально сформированный нижний конус у кристалла , выращенного описанным способом, отел
00
л
о
сутствуют, т.е. дол кристалла годной дл изготовлени .из него изделий (сцинтилллто- ров) близка к 100%.
Кроме того, в результате быстрого охлаждени стенок тигл кристаллизаци расплава начинаетс снизу и от стенок тигл . В итоге расплав застывает таким образом, что деформаци тигл полностью отсутствует, что увеличивает их срок службы.
За счет сокращени времени снижени мощности и отсутстви роста дефектной части (нижнего конуса) длительность непроизводительного заключительного этапа выращивани (охлаждение кристалла и кристаллизационного узла) сокращаетс с 15- 20 ч до 8-10 ч, т.е. в 2 раза. Это повышает производительность ростовых установок на
-6-8%.
Снижать мощность быстрее 2 с на существующих ростовых установках с АСУТП нецелесообразно из-за особенностей их конструктивных и схемных решений, привод щих к нестабильности и нарушени м работы АСУТП и ростовой установки.
При времени снижени мощности более 10 с в некоторых случа х наблюдаетс растрескивание кристалла в ходе его последующей обработки (т.е, достаточно велики остаточные напр жени , которые иногда привод т к растрескиванию).
Снижение мощности менее чем в 1,5 и более чем в 2,5 раза недостаточно эффективно , так как приводит к растрескиванию кристалла либо в ходе охлаждени , либо в ходе последующей обработки. Это св зано с тем, что в первом случае охлаждение периферии кристалла идет существенно медленнее его приосевой части, а во втором случае наоборот. Например, дл германата висмута в одном из опытов температура стенок тигл в первом случае снижаетс с 1146 до 1024°С в течение 60 с, а во втором случае с 1148 до 972°С в течение того же времени.
Таким образом, в результате снижени подводимой к индуктору высокочастотной мощности в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с (непосредственно сразу после отделени кристалла от расплава увеличением скорости выт гивани ) кристалл не растрескиваетс и у него отсутствует дефектный нижний
конус. При этом дол годного качественного кристаллического материала близка к 100% (т.е. увеличиваетс по сравнению с прототипом на 5-10%), отсутствует деформаци тигл , производительность ростовых установок увеличиваетс на 6-8%.
За вл емый способ включает следующие операции:
1. Затраоление
2.Разращивание верхнего конуса
3. Рост при посто нном диаметре
А. Отделение кристалла от
расплава
5. Охлаждение кристалла
В за вл емом способеопераци формировани нижнего конуса исключаетс , а повышение выхода годных кристаллов, исключение деформации тигл и повышение производительности ростовых установок осуществл етс за счет применени нового приема, а именно: уменьшением
подводимой к индуктору высокочастотной мощности в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с непосредственно после отделени кристалла от расплава увеличением скорости выт гивани ,
Пример. Тигель с наплавом шихты германата висмута помещают в кристаллизационный узел установки Кристалл-613. Германат висмута расплавл ют в платиновом тигле диаметром 100 и высотой 120мм
в окислительной атмосфере, опускают в расплав вращающуюс со скоростью 40 об/мин затравку и выт гивают ее со скоростью 1,5 мм/ч. С помощью АСУТП разращивают верхний конус и далее кристалл посто нного диаметра (например 55±1 мм). При достижении длины кристалла 200 мм увеличивают скорость выт гивани до 2000 мм/ч (и тем самым отрывают его от расплава) и поднимают
на высоту 50 мм. Сразу же после отрыва кристалла (контролируетс по приборам АСУТП) в течение времени t (2-10 с) снижают подводимую к индуктору высокочастотную мощность в п (1,5-2,5) раза. Затем
начинают охлаждение по заданной программе АСУТП ( 100-150 град/ч). После охлаждени кристалла его извлекают из кристаллизационного узла и оценивают его качество.
По результатам испытаний врем t 1 с осуществить практически нецелесообразно из-за нарушений в работе АСУТП. При 2 с t 10 с и 1,5 п 2,5 кристалл не растрескиваетс . При t 10 с, п 1,5 и п 2,5
кристалл растрескиваетс либо в ростовой камере, либо при дальнейшей обработке. Результаты испытаний способа приведены в таблице.
Авторами были проведены сравнительные испытани за вл емого технического решени , Всего было проведено 35 опытов по режимам в соответствии с формулой (или близким к ним) дл различных монокристаллов германата висмута. Более
50 опытов было проведено по прототипу и аналогам.
Все кристаллы, полученные в соответствии с формулой изобретени , не имели трещин и дефектного нижнего конуса, обьем годной части кристалла составил 98-100%.
В то же врем кристаллы, полученные по аналогам и прототипу, имели трещины и дефектные части. Объем годной части этих кристаллов составил 40-95%,
При выращивании по за вл емому способу деформаци тиглей полностью отсутствует , в то врем как при выращивании по прототипу и аналогам она наблюдаетс в 30-50% случаев.
Длительность операции охлаждени кристалла до его полного остывани по за вл емому способу 8-10 ч, а по прототипу и аналогам 15-20 ч.
Таким образом, испытани показали, что за вл емый способ позвол ет повысить выход годных кристаллов и производительность ростовых установок, увеличить срок службы платиновых тиглей,
Указанный способ может примен тьс при выращивании многих монокристаллов сложных оксидов методом Чохральского (например, ниобата и танталата лити , нио- бата бари - стронци , алюмоиттриевого граната,- силиката гадолини и др.).
Claims (1)
- Формула изобретениСпособ выращивани монокристаллов германата висмута, включающий расплавление исходного материала в платиновом тигле с помощью высокочастотного индуктора , затравление на вращающуюсзатравку, разращивание конусной части кристалла, выт гивание его цилиндрической части, отделение кристалла от расплава и его охлаждение, отличающийс тем, что, с целью повышени производительности , выхода годных кристаллов и увеличени срока службы платиновых тиглей , после отделени кристалла мощность индуктора уменьшают в 1,5-2,5 раза в течение 2-10 с.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU914911952A RU1810401C (ru) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | Способ выращивани монокристаллов германата висмута |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU914911952A RU1810401C (ru) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | Способ выращивани монокристаллов германата висмута |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1810401C true RU1810401C (ru) | 1993-04-23 |
Family
ID=21560889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU914911952A RU1810401C (ru) | 1991-02-19 | 1991-02-19 | Способ выращивани монокристаллов германата висмута |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU1810401C (ru) |
-
1991
- 1991-02-19 RU SU914911952A patent/RU1810401C/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР №762257, кл. С 30 В 15/00,1979(непублик.). Авторское свидетельство СССР № 1700954, кл. С 30 В 15/00, 1989 (непуб- лик.). * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5607507A (en) | System for oxygen precipitation control in silicon crystals | |
JP3841863B2 (ja) | シリコン単結晶の引き上げ方法 | |
WO2006012924A1 (en) | Method of growing single crystals from melt | |
US3088853A (en) | Method of purifying gallium by recrystallization | |
RU1810401C (ru) | Способ выращивани монокристаллов германата висмута | |
US3261722A (en) | Process for preparing semiconductor ingots within a depression | |
JPH04104988A (ja) | 単結晶成長方法 | |
Bhalla et al. | Crystal growth of antimony sulphur iodide | |
JP5375794B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JPS61201692A (ja) | 欠陥発生の少ないシリコン単結晶インゴットの引上げ育成方法 | |
US4273609A (en) | Rinse melt for LPE crystals | |
RU2261297C1 (ru) | Способ выращивания монокристаллов из расплава методом амосова | |
RU2054495C1 (ru) | Способ выращивания монокристаллов арсенида галлия для изготовления подложек интегральных схем | |
CN111962157B (zh) | 一种碳化硅晶体微管的愈合方法及碳化硅产品和应用 | |
EP4130348A1 (en) | Device and method for producing a monocrystalline silicon rod | |
US3775066A (en) | Method for producing crystal plate of gadolinium molybdate | |
JP2622274B2 (ja) | 単結晶の育成方法 | |
JP2739554B2 (ja) | 四硼酸リチウム結晶の製造方法 | |
JP2959097B2 (ja) | 単結晶の育成方法 | |
JPS6212695A (ja) | 坩堝処理方法 | |
JPH0692781A (ja) | 単結晶の製造方法及び製造装置 | |
JPS6317290A (ja) | 残存原料の除去方法 | |
JPS6385085A (ja) | シリコン単結晶育成方法 | |
RU2261295C1 (ru) | Способ выращивания монокристаллов германия | |
JPH08104595A (ja) | 単結晶の育成方法 |