RO98191B1 - Procedeu de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica pentru tensiuni de strapungere mari - Google Patents

Procedeu de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica pentru tensiuni de strapungere mari

Info

Publication number
RO98191B1
RO98191B1 RO133241A RO13324188A RO98191B1 RO 98191 B1 RO98191 B1 RO 98191B1 RO 133241 A RO133241 A RO 133241A RO 13324188 A RO13324188 A RO 13324188A RO 98191 B1 RO98191 B1 RO 98191B1
Authority
RO
Romania
Prior art keywords
layer
boron
silicon
junctions
monocrystalline
Prior art date
Application number
RO133241A
Other languages
English (en)
Inventor
Constantin Postolache
Adrian Rusu
Florin Gaiseanu
Original Assignee
Centrul De Cercetare Stiintifica Si Inginerie Tehnologica Pentru Componente Electronice
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Centrul De Cercetare Stiintifica Si Inginerie Tehnologica Pentru Componente Electronice filed Critical Centrul De Cercetare Stiintifica Si Inginerie Tehnologica Pentru Componente Electronice
Priority to RO133241A priority Critical patent/RO98191B1/ro
Publication of RO98191B1 publication Critical patent/RO98191B1/ro

Links

Landscapes

  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Abstract

Prezenta inventie se refera la un procedeu de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica, folosite la tensiuni de strapungere mari si în domeniul frecventelor de lucru înalte. Procedeul de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica pentru tensiuni de strapungere mari prevede cresterea simultana si selectiva a unui strat de siliciu policrstalin peste sandvichul dielectric format dintr-un strat de bioxid de siliciu si un strat de nitrura de siliciu, si a unui strat de siliciu monocristalin (epitaxial) pe placheta de siliciu devenita substrat, difuzia borului în stratul de siliciu policristalin, jonctiunile retrase depoarta realizându-se prin difuzia în lateral a borului în stratul de siliciu monocristalin, retragerea jonctiunilor depoarta realizându-se prin corodarea locala a siliciului policristalin dopat cu bor, astfel încât jonctiunile laterale sa fie legate în profunzime printr-un strat de polisiliciu dopat cu bor, ramas necorodat, prin care se realizeaza si contactarea cu stratul de aluminiu, în cazul jonctiunilor de poarta cu pereti verticali delimitarea acestora realizându-se într-un strat de bioxid de siliciu de grosime prescrisa, obtinut prin oxidarea locala, partiala sau totala a siliciului policristalin difuzat cu bor, iar pentru realizarea portii abrupte, stratul de siliciu policristalin dopat cu bor fiind contactat integral cu stratul de aluminiu, reducându-se astfel extinderea difuziei laterale în siliciul monocristalin fata de adâncimea jonctiunii portii.
RO133241A 1988-04-27 1988-04-27 Procedeu de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica pentru tensiuni de strapungere mari RO98191B1 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RO133241A RO98191B1 (ro) 1988-04-27 1988-04-27 Procedeu de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica pentru tensiuni de strapungere mari

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RO133241A RO98191B1 (ro) 1988-04-27 1988-04-27 Procedeu de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica pentru tensiuni de strapungere mari

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RO98191B1 true RO98191B1 (ro) 1990-01-30

Family

ID=40906303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RO133241A RO98191B1 (ro) 1988-04-27 1988-04-27 Procedeu de fabricare a tranzistoarelor cu inductie statica pentru tensiuni de strapungere mari

Country Status (1)

Country Link
RO (1) RO98191B1 (ro)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7399686B2 (en) Method and apparatus for making coplanar dielectrically-isolated regions of different semiconductor materials on a substrate
ATE176553T1 (de) Puffer-struktur zwischen siliziumkarbid und galliumnitrid und sich daraus ergebende halbleiteranordnungen
EP0371862A3 (en) Method of forming a nonsilicon semiconductor on insulator structure
GB1444386A (en) Integrated circuit fabrication processes
GB1435590A (en) Process for the fabrication of a semiconductor structure
IE833068L (en) Producing a semiconductor device having isolation regions¹between elements
GB1452884A (en) Semiconductor devices
KR880014691A (ko) 반도체 장치의 제조방법
GB1339095A (en) Fabrication of monolithic integrated circuits
ES442102A1 (es) Un dispositivo semiconductor.
KR920008983A (ko) 반도체 압력센서 및 그 제조방법
RO91547B (ro) Procedeu pentru fabricarea unui dispozitiv semiconductor
EP0193298A3 (en) Method for the formation of epitaxial layers for integrated circuits
GB1285917A (en) Semiconductor device fabrication
JPS5654049A (en) Semiconductor device
JPS5758338A (en) Semiconductor integrated device
GB1260026A (en) A method of manufacturing a semiconductor photo-sensitive device
IE33385B1 (en) Semiconductor device and fabrication of same
JPS6457641A (en) Manufacture of semiconductor device
EP0202718A3 (en) A method of producing a semiconductor device comprising a monocrystalline silicon layer on a substrate
GB1304643A (ro)
JPS6428962A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
RO96889B1 (ro) Procedeu de izolare a componentelor din structura de circuit integrat monolitic
JPS6469059A (en) Integrated photodetector
KR960026425A (ko) 쌍극자 트랜지스터의 제조방법