RO127301A2 - Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru - Google Patents
Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru Download PDFInfo
- Publication number
- RO127301A2 RO127301A2 ROA201000847A RO201000847A RO127301A2 RO 127301 A2 RO127301 A2 RO 127301A2 RO A201000847 A ROA201000847 A RO A201000847A RO 201000847 A RO201000847 A RO 201000847A RO 127301 A2 RO127301 A2 RO 127301A2
- Authority
- RO
- Romania
- Prior art keywords
- nickel
- electrodeposition
- uniform
- copper
- copper support
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims abstract description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims abstract description 6
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 claims abstract description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 abstract description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- IYRDVAUFQZOLSB-UHFFFAOYSA-N copper iron Chemical compound [Fe].[Cu] IYRDVAUFQZOLSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940075397 calomel Drugs 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical compound Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Invenţia se referă la un procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru sau fier cuprat, în prezenţa polivinilpirolidonei ca agent activ de suprafaţă, utilizat în industria constructoare de maşini. Procedeul conform invenţiei constă în obţinerea unor pelicule pasivante subţiri, compacte şi uniforme de Ni, prin utilizarea unor băi de tip Watts şi folosirea unor soluţii acide pe bază de NiSO6HO - 240 g/L şi NiCl6HO - 45 g/L; ca sistem tampon se utilizează o cantitate de 30 g/L de acid boric, iar ca agent activ de suprafaţă foloseşte 5 g/L de polivinilpirolidonă, electrodepunerea utilizând un domeniu al temperaturilor de lucru cuprins între 40...65°C, şi densităţi ale curentului electric cuprinse între 100...300 mA.
Description
Invenția se referă la un procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru sau fier cuprat, în prezența polivinilpirolidonei ca agent activ de suprafață, utilizat în industria constructoare de mașini.
Se cunoaște un procedeu de electrodepunere a zincului lucios pe suporturi din aliaje de cupru, fier cuprat, alte materiale neferoase sau materiale polimerice dielectrice [Patent GB 1394637 (A)/l 975.05.21], care utilizează drept agenți de suprafață, cu rol de surfactant, pilivinilpirolidona în concentrații cuprinse între 1,00 și 25,00 g/L, ca atare sau în amestec cu alți aditivi tensioactivi, de tipul polietilen- sau polipropilenglicol, piridină, chinolină, izochinolină sau acridină în concentrații de 0,001 -4,00 g/L, la temperaturi de lucru cuprinse între 10 și 60°C, pH = 1,00 -10,00 densitatea de curent de 0,5 - 5,0 A/dm2, timpi de electrodepunere de 0,5 -120 min, pentru filme de 0,25 - 25 microni obținute în băi de depunere Barrel, în prezența sistemului tampon acid citric - hidroxid de amoniu - clorură de amoniu.
Acest procedeu are dezavantajul utilizării unei încărcături mari de agenți cu rol de surfactanți și a unui sistem tampon complex, cu variațiile de concentrație, spre limitele de epuizare, greu de monitorizat.
/ De asemenea, pentru îmbunătățirea calității apelor uzate, provenite din soluțiile epuizate și cele de spălare, prin eliminarea procedeelor de electrodepunere în băile pe bază de ioni cian, se folosesc procedeele pe bază de pirofosfați alcalini alături de sărurile solubile de nichel [Patente
GB 19730044715/1973.09.24, ROI 14646 (Bl) - 1999-06-30 și US 19720293659/1972.09.26], care au dezavantajul obținerii unor pelicule rugoase, slab lucioase și depozite relativ neuniforme, cu formarea de precipitate ce pot colmata sistemele de filtrare, necesitând întreruperea procesului pentru intervenții de schimbare a filtrelor.
Se cunosc și alte procedee libere de ioni cian, pe bază de soluții slab acide sau slab alcaline sau neutre [Patente GB 1597568 (A)/1981-09-09, GB1543548 (A)/1979-0404, GB1484227 (A)/1977-09-01, AU7394874 (A)/l 976-04-08] care conțin mari cantități de agenți de luciu, substanțe tampon și agenți de complexare, cu scopul de a stabiliza pH-ul și de a solubiliza <^2 0 1 0 - 0 0 8 4 7 -1 7 -09- 2010 ionii de nichel, ce implică densități de curent foarte mari, pentru un domeniu de pH cuprins între 4,00 și 8,00, dar care nu permit realizarea de pelicule lucioase, mai ales pe suprafețe complexe sau pentru policromii ornamentale.
Procedeul de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru sau fier cuprat, caracterizat prin aceea că, în vederea obținerii de pelicule pasivante subțiri, compacte și uniforme, utilizând băile de tip Watts, folosește soluții acide pe bază de N1SO4 6H2O - 240 g/L și NiCl2 6H2O - 45 g/L, ca sistem tampon acidul boric - 30 g/L și ca agent activ de suprafață polivinilpirolidona 5 g/L, în domeniul temperaturilor de lucru 40-65°C și al densităților de curent cuprinse între 100 300 mA.
Prin aplicare acest procedeu aduce o serie de avantaje:
- folosește sistemul acid cu un singur tampon și un agent surfactant, compatibil cu sărurile solubile de Ni2+ și care prezintă sinergie înaltă în procesul de electrodepunere;
- permite controlul riguros al concentrațiilor în componenții chimici;
- o aderență bună la substrat, peliculele fiind uniforme și compacte, având dimensiuni uniforme ale cristal ițelor, de ordin submicronic (sub 25 pm);
- soluțiile epuizate și apele de spălare sunt ușor de neutralizat;
- se obțin pelicule pasivante, cu mare putere de protecție climatică și mecanică, dar și ornamentală.
în continuare se prezintă un exemplu de realizare a invenției.
Pentru prepararea unui litru de soluție apoasă acidă s-a folosit următoarea compoziție: NiSO46H2O 240 g;
NiCl2 6H2O 45 g;
H3BO330 g;
Polivinilpirolidonă 5 g;
Apă distilată 780g.
Această soluție se introduce într-o baie tip Watts.
Montajul experimental cu care s-au realizat depuneile de nichel este alcătuit dintr-un potențiostat-galvanostat prevăzut cu un soft specializat în prelucrarea datelor, o celulă de electroliză termostatată, agitator magnetic și termometru pentru controlul temperaturii. S-a lucrat la diferite
CV-2D10-00847-17 -09- 2010 temperaturi cuprinse între 40-65°C. S-a folosit un electrod de referință, electrodul de calomel, iar contraelectrodul a fost confecționat din nichel electrolitic de puritate ridicată.
în prealabil piesele din fier cuprat sau din aliaje de cupru sunt curățate prin decapare într-o soluție acidă cu următoarea compoziție, 500 g I/1 H2SO4 98%, 500 gL'1 NHO3 și 5gL_l NaCl la temperatura de 25°C, timp de 5 minute. Piesele sunt spălate cu apă distilată și apoi cântărite.
Electrodepunerea s-a realizat la tensiunea de 750...1100 mV și un curent variind între 100 și 300 mA, timp de 5... 10 minute, în funcție de mărimea pieselor, la o temperatură de lucru cuprinsă între 40 și 65°C. După depunere piesele nichelate sunt spălate cu apă distilată și apoi uscate.
Claims (2)
1. Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru, caracterizat prin aceea că, în vederea obținerii de pelicule pasivante subțiri, compacte și uniforme, utilizând băile de tip Watts, folosește o soluție apoasă acidă cu următoarea compoziție: N1SO4 6H2O - 240 g/L și NiCl2 6H2O - 45 g/L, având ca sistem tampon H3BO3 - 30 g/L și ca agent activ de suprafață polivinilpirolidona - 5 g/L,
2. Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru, conform revendicării 1, caracterizat prin aceea că, pentru o electrodepunere compactă și uniformă într-o baie de tip
Watts, se utilizează o tensiune cuprinsă între 750 și 1100 mV și un curent variind între 100 și 300 mA, timp de 5...10 minute, în funcție de mărimea pieselor, la o temperatură de lucru cuprinsă între 40 și 65°C, iar după depunere piesele nichelate sunt spălate cu apă distilată și uscate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ROA201000847A RO127301A2 (ro) | 2010-09-17 | 2010-09-17 | Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ROA201000847A RO127301A2 (ro) | 2010-09-17 | 2010-09-17 | Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RO127301A2 true RO127301A2 (ro) | 2012-04-30 |
Family
ID=45990562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ROA201000847A RO127301A2 (ro) | 2010-09-17 | 2010-09-17 | Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RO (1) | RO127301A2 (ro) |
-
2010
- 2010-09-17 RO ROA201000847A patent/RO127301A2/ro unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI475134B (zh) | Ｐｄ及Ｐｄ－Ｎｉ電解液 | |
| US10738383B2 (en) | Method for nickel-free phosphating metal surfaces | |
| CN101978096B (zh) | Ni-P层系统及其制备方法 | |
| KR102482321B1 (ko) | 팔라듐 도금액 및 그것을 사용하여 얻어진 팔라듐 피막 | |
| KR101624759B1 (ko) | 구리 층의 갈바닉 침착을 위한 시안화물-무함유 전해질 조성물 | |
| CN104975311A (zh) | 一种钢铁基体上直接无氰酸性镀铜镀液及工艺 | |
| CN101760768A (zh) | 一种无氰镀银用电镀液及无氰镀银方法 | |
| CN102560571B (zh) | 无氰镀银稳定电镀液、制备方法及其镀银的方法 | |
| US9644279B2 (en) | Zinc-nickel alloy plating solution and plating method | |
| TW201504371A (zh) | 於鉻表面之陰極腐蝕保護之方法 | |
| CN109256256B (zh) | 一种表面电镀锌镍合金的钕铁硼磁体及其制备工艺 | |
| US3230098A (en) | Immersion plating with noble metals | |
| CN104480500A (zh) | 铜或铜合金镀银用的无氰电镀液、制备方法及镀银工艺 | |
| WO2015076017A1 (ja) | 電解金めっき液及びそれを用いて得られた金皮膜 | |
| Yan et al. | Electrochemical reduction process of Co (II) in citrate solution | |
| RO127301A2 (ro) | Procedeu de electrodepunere uniformă a nichelului pe suport de cupru | |
| RO127202A2 (ro) | Procedeu de electrodepunere uniformă şi lucioasă a nichelului pe suport de cupru | |
| CN104928734B (zh) | 钢铁件无氰电镀锡青铜的方法 | |
| CN109023446A (zh) | 一种钕铁硼永磁材料电镀铜的方法 | |
| KR102258233B1 (ko) | 전해 도금액 | |
| JP6517501B2 (ja) | ストライク銅めっき液およびストライク銅めっき方法 | |
| CN105506694A (zh) | 钕铁硼电镀层的防护工艺 | |
| TW201137178A (en) | Electroplated solution for stripping metal coatings and methods for stripping titanium contained metal coatings by using the electroplated solution | |
| JPS63186899A (ja) | 酸化スズの溶解方法 | |
| CN104651887A (zh) | 羟基亚乙基二膦酸(hedp)镀铜的工艺方法 |